技术编号：9457592
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及可用于制备适于光刻法的多种底层的有机溶剂稳定的金属氧化物羧 酸盐材料的旋涂组合物。该金属氧化物羧酸盐化合物具有改善的稳定性。本发明还涉及使 用本发明的组合物制备此类底层的方法。 发明背景 金属氧化物膜用于半导体行业中的多种应用，如光刻硬掩模、用于抗反射涂层的 底层和光电器件。 例如，光致抗蚀剂组合物用于制造小型化电子组件的微光刻法，如在计算机芯片 和集成电路的制造中。通常，将光致抗蚀剂组合物的薄涂层施涂到衬底（如用于制造集成 电路的硅基晶片）上...
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