技术编号：7220178
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及半导体工艺中用于微影制程的曝光机。背景技术曝光机(Scanner),作为半导体制程(Semi-conductor Process )中重要的 生产用机台，主要用于微影(L池o)制程。 一般而言，其与涂布显影机(Track) 共同使用，完成微影制程中的图像形成步骤。ASML的网站(w需.asml.画)公开了用于微影制程的PAS5500系列的曝 光机的产品说明。PAS5500系列曝光机一般拥有四个端口 ( Port )与外间相...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。