技术编号：6934716
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及例如对被处理体进行灰化处理等的等离子处理的真空 处理装置。豕伎不例如在玻璃基板和半导体晶片等半导体基板的制造工序中，具有对基板进行灰化处理的工序。如果根据图18简单说明进行这个工序的 灰化装置的一例，图中的1是在其侧方具有基板的搬入搬出口 10的真 空腔室，该搬入搬出口 IO通过门阀11构成为自由开闭。在这个真空 腔室1的内部设置有用于载置基板、例如玻璃基板S的成为下部电极 的载置台12，并且对与该载置台12相对地设置有成为上部电极的处理 气体供...
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