技术编号：6921195
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。延长作为等离子室材料的氧化钇的寿命背景技术在半导体材冲+处理领域，存在各种不同的用于半导体处理应用的设备，这些应用包括等离子体的4吏用，如等离子蚀刻、等 离子增强化学气相沉积和抗蚀剂剥除。这些工艺所需要的设备包括 用于等离子室内并且需在那个环境中运行的部件。等离子室内的环 境可能包括暴露于等离子、暴露于蚀刻剂气体以及热循环。由于在 这样的处理室中工艺气体和等离子的腐蚀特性，以及最小化室中处 理的基片的颗粒和/或金属污染的要求，所以需要这种设备的等离子 暴露...
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