技术编号:6893269
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于电子材料领域,它特别涉及钇铁石榴石薄膜材料的射 频磁控溅射制备方法。 背景技术石榴石薄膜由于其优异的法拉第旋光效应和低传输损耗,在高性 能非互易波导器件、集成磁光器件和微波器件中被认为是一种很有前景的材料。同时Si在集成电路中占有重要地位,以Si为衬底的薄膜其 研究制备变得非常热门,因为其可能实现Si基微电子器件和光学波导 的集成。关于石榴石在Si衬底上的制备已经有很多文献提及,石榴石 薄膜在Si衬底上并不像制备在其他衬底上,如石英、GGG、 ^...
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