技术编号：2817770
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基于基本模块的掩模辅助图形的优化方法，属于光刻分辨率增强。背景技术当前的大规模集成电路普遍采用光刻系统进行制造。光刻系统主要分为照明系统(包括光源和聚光镜)、掩模、投影系统及晶片四部分，其中掩模图形由掩模主体图形(main feature,简称 MF)和掩模辅助图形(sub-resolution assistfeature,简称 SRAF)两部分组成。光源发出的光线经过聚光镜聚焦后入射至掩模，掩模的开口部分透光；经过掩模后，光线经由投影系统入...
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