技术编号：11183521
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及绘画领域，具体为一种艺术设计用绘制架。背景技术艺术设计中，绘画是一项重要的方式。目前，绘画过程采用的画架上的绘图板为放置设置，稳定性较差，图纸的角度、高度固定，绘图过程容易疲劳，影响绘画质量。此外，绘画工作者外出创作时通常需要额外带临时放置绘图工具的置物架，为绘画工作者带来了不便。发明内容本实用新型的目的在于提供一种艺术设计用绘制架，以解决上述背景技术中提出的问题。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种艺术设计用绘制架，包括画架头，其结构要点是：所述画架头下方通过旋转轴旋...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。