技术编号：11052886
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及曝光设备技术领域，尤其是一种曝光机。背景技术曝光机主要用于半导体制造、光电电子、平板、射频微波、衍射光学、微机电系统、凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术领域，对曝光精度要求比较高，传统的曝光机在空气中进行曝光，然而空气中的灰尘会对曝光的精度产生影响。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种曝光机，具备提供干净的真空环境，提高曝光的精确度的优点，以解决上述背景技术中提出的在曝光时空气中的灰尘对图像信息的采集产生影响，降低了曝光的精确度的问题。为实现上述目的，本实用新型提...
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