一种电解槽的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种电解设备，尤其涉及一种电解槽。
【背景技术】
[0002]电解槽是湿法冶金工艺中一个重要的设备，现在常用的电解槽一般采用玻璃钢内胆混凝土外壳，制作电解槽时一般需要先用钢筋混凝土浇筑外部的混凝土外壳，然后再在混凝土外壳内部裱糊玻璃钢内胆形成槽体。混凝土外壳普遍存在外表粗糙、抗冲击强度差、内应力大的缺陷，同时设备不利于重复使用，使用寿命也短，长远看来投入成本较大。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种使用寿命长的电解槽。
[0004]实现本实用新型目的的技术方案是:一种电解槽，包括外框架和槽体，槽体套装在外框架中；所述槽体由四周的侧板和底部的底板围成一体式结构，槽体的开口处设有支撑在外框架上的凸出部;所述槽体内壁上设有横向延伸的波纹结构。
[0005]所述槽体的支撑部外沿有向下凸出的限位部。
[0006]所述槽体的侧板和底板的连接处设有加强筋。
[0007]所述加强筋和槽体为一体式结构。
[0008]所述槽体的材质为PVC、PP、FRPP、CPVC、PVDF中的一种。
[0009]所述外框架的材质为不锈钢。
[0010]本实用新型具有积极的效果:(I)本实用新型结构简单合理，槽体的开口处设有支撑在外框架的上的支撑部，增加了槽体和外框架的支撑点，减轻了槽体底部的受力，同时槽体内壁上设有横向延伸的波纹结构，增加了槽体热应变自由度，防止由于热应变导致了槽体结构变形。
[0011](2)本实用新型的槽体支撑部外沿有向下凸出的限位部，限位部卡在外边框上使槽体与外框体的配合更加稳固。
[0012](3)本实用新型的槽体侧板和底板的连接处设有加强筋，使得电解槽有足够刚度用于抵抗形变，延长了电解槽的使用寿命。
[0013](4)本实用新型的外框架为不锈钢材质，对腐蚀性介质的抗腐蚀性更好。
【附图说明】
[0014]为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
[0015]图1为本实用新型的结构示意图。
[0016]图2为图1的俯视图。
[0017]图3为图2的A-A面剖视图。
[0018]附图中标记为:
[0019]外框架1、槽体2、支撑部21、波纹结构22、限位部23、加强筋24。
【具体实施方式】
[0020](实施例1)
[0021 ]如图1至图3所示，本实施例的电解槽，包括外框架I和槽体2，槽体2套装在外框架I中。
[0022]槽体2由四周的侧板和底部的底板围成一体式结构，槽体2的开口处设有支撑在外框架I上的支撑部21，槽体2的支撑部21外沿有向下凸出的限位部23 ο槽体2内壁上设有横向延伸的波纹结构22。槽体2的侧板和底板的连接处设有加强筋24，加强筋24和槽体2为一体式结构。槽体2的材质为PVC、PP、FRPP、CPVC、PVDF中的一种。外框架I的材质为不锈钢。
[0023]以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种电解槽，包括外框架(I)和槽体(2)，槽体(2)套装在外框架(I)中；其特征在于:所述槽体(2)由四周的侧板和底部的底板围成一体式结构，槽体(2)的开口处设有支撑在外框架(I)上的支撑部(21);所述槽体(2)内壁上设有横向延伸的波纹结构(22)。2.根据权利要求1所述的一种电解槽，其特征在于:所述槽体(2)的支撑部(21)外沿有向下凸出的限位部(23)。3.根据权利要求1所述的一种电解槽，其特征在于:所述槽体(2)的侧板和底板的连接处设有加强筋(24)。4.根据权利要求3所述的一种电解槽，其特征在于:所述加强筋(24)和槽体(2)为一体式结构。5.根据权利要求1所述的一种电解槽，其特征在于:所述槽体(2)的材质为PVC、PP、FRPP、CPVC、PVDF 中的一种。6.根据权利要求1所述的一种电解槽，其特征在于:所述外框架(I)的材质为不锈钢。
【专利摘要】本实用新型涉及一种电解槽，包括外框架和槽体，槽体套装在外框架中；槽体由四周的侧板和底部的底板围成一体式结构，槽体的开口处设有支撑在外框架上的凸出部；槽体内壁上设有横向延伸的波纹结构。本实用新型结构简单合理，槽体的开口处设有支撑在外框架的上的支撑部，增加了槽体和外框架的支撑点，减轻了槽体底部的受力，同时槽体内壁上设有横向延伸的波纹结构，增加了槽体热应变自由度，防止由于热应变导致了槽体结构变形。
【IPC分类】C25C7/00
【公开号】CN205295500
【申请号】
【发明人】褚世卿, 褚家源, 许晶
【申请人】常州金坛环保设备有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2015年12月7日