、SAA(Selected Area Aperture，选区光阑)对齐模式执行部33、显示分析区域执行部34这共计三个执行部;球面像差系数Cs输入部35、失焦量Af输入部36、散射角度辩俞入部37这共计三个数值输入部。
[0032]在决定观察视场之后，按下映射图像摄影执行部32来拍摄映射图像，按下SAA对齐模式(SAA alignment mode)执行部33，由此，能够执行本实施例的处理。此外，上述执行部中的显示分析区域(Show analysis area)执行部34以及上述三个数值输入部是在第二实施例中使用的功能，在第一实施例的实施方式中也可以不显示。
[0033 ]图4中示出了本实施例的概要图，使用图3和图4来说明本实施例的概要。
[0034]在本实施例中，首先按下映射图像摄影执行部32，通过图像检测部5来拍摄观察视场20，作为映射图像41保存在存储装置9中。之后，向观察视场插入限制视场光阑6(标记42)，按下SAA对齐模式执行部33，由此在图像显示部31上显示:用轮廓线在观察视场上绘制上述光阑的位置信息而得到的绘制图像(标记43)。在SAA对齐模式的执行中，通过运算装置8来与从图像检测部传递的检测图像同步地对上述映射图像、轮廓线提取图像44以及上述绘制图像进行更新。在该更新定时，对于映射图像，对随着时间经过而产生的位置偏移进行校正;对于轮廓线提取图像，从上述检测图像新提取轮廓线;对于绘制图像，更新为在该映射图像上绘制该轮廓线而得到的图像，并显示在上述图像显示部上。图5中示出了本发明(第一实施方式)的运算部的处理流程。
[0035]在以下的流程中设为:已经拍摄了映射图像41并作为Im(x，y)保存在存储装置9中，从图像检测部15输出的图像输出周期被设定为A(ms)，图像的像素数表述为x，y和j，k。此外，设用户能够任意地设定数值A，X，y，j，k。
[0036]首先，在步骤501中，通过图像检测部检测插入了限制视场光阑6的观察视场20来作为检测图像It(x，y)。通过步骤502来判定上述检测图像It(x，y)的检测时间T是否与图像输出周期A的值相同，在检测时间T与该周期A的值相同的情况下，图像检测部在使检测时间T复位之后，输出检测图像It(x，y)(步骤503)。此外，图像检测部在使检测时间T复位后，再次开始检测图像It(x，y)的检测。上述检测图像It(x，y)通过信号传递部10被传递到进行运算控制处理的计算机7。通过步骤504来进行SAA对齐模式执行判定，在“是”的情况下，检测图像It(x，y)被保存到运算装置8(步骤505)，在“否”的情况下，检测图像It(x，y)被输出到图像显示部31(步骤514)。在步骤506中，对检测图像It(x，y)实施使用微分滤波等轮廓线提取处理，制作轮廓线图像Ie(x，y)，保存到存储装置。在步骤507中，提取检测图像It(x，y)的轮廓线内部的图像，制作模板图像It_(j，k)。以该模板图像Itemp(j，k)为模板，与上述映射图像Im(x，y)之间执行模板匹配处理，根据该处理结果来测定映射图像Im(x，y)相对于检测图像It(x，y)的位置偏移量，导出位置偏移校正量X，Y(步骤508，509)。通过步骤510使映射图像1^(1，7)移动该位置偏移校正量乂3，制作位置偏移校正映射图像1^’(1，7)。通过步骤511，在该映射图像Im’(x，y)上绘制上述轮廓线图像Ie(x，y)来制作轮廓线绘制图像Im”(x，y)，并输出到图像显示部(步骤512)。通过步骤513进行SAA对齐模式执行的判定，在“是”的情况下再次进行检测图像It(x，y)的检测，重复进行上述处理直到该判定变为“否”为止。在该判定为“否”的情况下，将检测图像It(x，y)输出到图像显示部，恢复为以往的观察状态来结束处理(步骤514)。
[0037]通过以上的处理，能够以图像输出周期通过目视来识别限制视场光阑与观察视场的位置关系，因此将上述光阑位置调整到任意的分析区域的作业变得容易。由此，能够提高利用使用电子显微镜的限制视场衍射法进行的分析的作业效率。
[0038]上述实施例将映射图像、轮廓线图像以及轮廓线绘制图像的像素数记载为相同的值，但是对于上述图像的像素数不同的情况，也能够应用本发明。上述实施例在检测图像与映射图像的位置偏移校正量的导出中使用了模板匹配处理，但是本发明也可以应用其它位置偏移校正量导出算法。
[0039]上述实施例在轮廓线提取处理中使用了微分滤波，但是在本发明中也可以使用其它轮廓线提取算法。
[0040]上述实施例在提取轮廓线之后进行位置偏移校正量的导出，但是本发明也可以在位置偏移校正量的导出之后进行轮廓线的提取。
[0041]上述实施例将数值A,X，y，j，k记载为用户指定，但是本发明也可以自动设定该数值。
[0042]上述实施例绘制轮廓线，但是本发明也可以绘制轮廓线内部的图像。
[0043]上述实施例记载为在映射图像上绘制轮廓线，但是本发明也可以将轮廓线图像与映射图像相加，来在映射图像上显示轮廓线。
[0044]此外，本发明能够提高利用使用电子显微镜的限制视场衍射法进行的分析的作业效率，能够期待应用于材料分析领域。另外，在半导体设备等的观察中也能够期待应用于分析目的以外的目的，如任意的限制视场中的方位对准作业的高效化等。
[0045](第二实施例)
[0046]本实施例提供了如下一种限制视场光阑位置调整方法:通过使用在限制视场光阑插入前拍摄的映射图像以及从该光阑插入时的图像提取出的轮廓线，能够一边通过目视来确认分析对象物与上述光阑的位置关系、一边进行上述光阑的位置调整作业。在第二实施方式中，变更表示上述光阑位置的轮廓线的直径，绘制预计了电子光学的误差的分析区域，由此能够提高分析的可靠性。
[0047]本实施例的装置结构和处理的概要与上述第一实施例共同，因此省略。
[0048]上述第一实施例在利用轮廓线在观察视场上绘制限制视场光阑的位置信息而得到的绘制图像(标记43)上，绘制上述光阑的轮廓线，但是本实施例变更了表示光阑位置的该轮廓线的直径，绘制预计了电子光学的误差的分析区域。
[0049]使用图6来说明预计了电子光学的误差的分析区域。在不存在物镜系统的球面像差、以正焦点进行的观察中，入射电子射线60透过试样I时，变为透射波61和衍射波62，这两个波被物镜系统3折射，按散射角β64汇聚在焦点面63上，之后，按上述试样上的每个位置汇聚在物镜系统的像面65上。在此，一般来说，限制视场光阑6被插入到上述像面部，因此观察视场42的被该光阑所限制的区域66成为分析区域。但是，实际上物镜系统存在球面像差，在观察时失焦的情况多。因此，上述两个波不在上述像面上汇聚，而是在上述像面上产生A的偏移67。由于该偏移量△，分析区域成为比限制视场光阑所限制的区域大的区域(在此，将该区域设为预计了电子光学的误差的分析区域68。)。此外，上述偏移量△能够通过以下式子求出。
[0050][式I]
[0051]Δ =Cs.β3_Δ?..β...式(I)
[0052]Cs:球面像差系数
[0053]Af:失焦量
[0054]如以上那样，上述分析区域比上述光阑所限制的区域大，因此在以往的观察中无法通过目视来识别处于上述光阑的限制区域外、且包含于分析区域的区域。本发明变更了上述第一实施例中绘制出的表示限制视场光阑位置的轮廓线的直径并绘制预计了电子光学的误差的分析区域，由此能够通过目视来识别上述分析区域。下面说明其实施方