可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法
【专利说明】可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法 【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种双银低辐射镀膜玻璃，更具体地说是一种可进行高温热处理的双 银低辐射镀膜玻璃，本发明还涉及一种可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃的制备方 法。 【【背景技术】】
[0002] 玻璃在当代的生产和生活中扮演着重要角色，镀膜玻璃成为一种良好的玻璃幕墙 材料且得到了广泛应用。而随着现代建筑设计的多样性和唯美性，许多幕墙外观需要有曲 面和弧形设计，但现有的双银低辐射镀膜玻璃热处理前后颜色变化巨大，而且透过率比较 低，生产过程中容易开裂损坏，不能应用在建筑幕墙上。 【
【发明内容】
】
[0003] 本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种可进行高温热处理的双银低辐射 镀膜玻璃，其热处理后颜色变化小，透过率较高，能防止玻璃在高温加工时膜层的开裂，使 其保持完整性、均匀性、稳定性，能更好地应用在建筑幕墙上。本发明还提供一种可进行高 温热处理的双银低辐射镀膜玻璃的制备方法。
[0004] 本发明是通过以下技术方案实现的：
[0005] -种可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃 基片1的复合面上由内到外依次相邻地复合有二十个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2 层2,第二膜层为Si3N4层3,第三膜层为AZO层4,第四膜层为Ag层5,第五膜层为NiCrOx 层6,第六膜层为Si3N4层7,第七膜层为AZO层8,第八膜层为Ag层9,第九膜层为NiCrOx 层10,第十膜层为Si3N4层11，第^ 膜层即最外层为ZrNx层12。
[0006] -种制备可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃的方法，包括如下步骤：
[0007] (1)磁控溅射SiOJi，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90% :10%，工艺气 体为氩气和氧气，氩氧比为I:1. 5;
[0008] (2)磁控溅射Si3N4层，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90%:10%，工艺气 体为氩气和氮气，氩氮比为1:1. 2;
[0009] (3)磁控溅射AZO层，采用陶瓷锌靶在氩氧气氛下溅射，氩氧比为10:1 ;
[0010] (4)磁控溅射Ag层，采用平面阴极溅射，纯氩气状态，气压范围在3X10 3Hibar~ 3. 5X103mbar；
[0011] (5)磁控溅射NiCrOx层，采用平面阴极溅射，纯氩气状态，气压范围在 3X103mbar~6X103mba;
[0012] (6)磁控溅射Si3N4层，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90%:10%，工艺气 体为氩气和氮气，氩氮比为1:1. 2;
[0013] (7)磁控溅射AZO层，采用陶瓷锌靶在氩氧气氛下溅射，氩氧比为10:1;
[0014] (8)磁控溅射Ag层，采用平面阴极溅射，纯氩气状态，气压范围在3X10 3Hibar~ 3. 5X103mbar；
[0015] (9)磁控溅射NiCrOx层，采用平面阴极溅射，纯氩气状态，气压范围在 3X103mbar~6X103mbar;
[0016] (10)磁控溅射Si3N4层，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90% :10%，工艺 气体为氩气和氮气，氩氮比为1:1. 2 ;
[0017] (11)磁控溅射ZrNx层，采用旋转双阴极溅射，氩氮比为1:1.2。
[0018] 与现有技术相比，本发明有如下优点：
[0019] 1、本发明通过对玻璃膜系结构的改进，使其热处理后颜色变化小，透过率较高，能 防止玻璃在高温热处理加工时膜层的开裂，使其保持完整性、均匀性、稳定性，能更好地应 用在建筑幕墙上。
[0020] 2、本发明镀在玻璃上的第一层膜二氧化硅层，具备阻挡在高温热处理过程中玻璃 中的钠离子扩散至膜层中的功能。
[0021] 3、本发明各膜层均具备耐高温的性能，相邻的不同膜层具有相互阻止扩散的能 力。
[0022] 4、本发明通过将银层嵌在有效的阻挡层中间，以避免银膜在高温处理过程中氧 化，使银层在钢化过程中保持其均匀性和光滑性。 【【附图说明】】
[0023] 图1是本发明结构示意图。 【【具体实施方式】】
[0024] -种可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃 基片1的复合面上由内到外依次相邻地复合有二十个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2 层2,第二膜层为Si3N4层3,第三膜层为AZO层4,第四膜层为Ag层5,第五膜层为NiCrOx 层6,第六膜层为Si3N4层7,第七膜层为AZO层8,第八膜层为Ag层9,第九膜层为NiCrOx 层10,第十膜层为Si3N4层11，第^ 膜层即最外层为ZrNx层12。
[0025] 所述的第一膜层SiOJl2是一种酸性氧化物二氧化硅层，为附着力增强层和防止 玻璃中钠离子扩散至整个膜层的基础膜层，第一膜层SiOJl2层厚为10~20nm。
[0026] 所述的第二膜层Si3N4层3,即氮化硅，为低吸收率电介质膜层，其功能为有效降低 膜层对可见光的反射率，达到高透、低反的效果。第二膜层Si3N4层3的层厚为40~50nm， 所述的第十膜层Si3N4层11的层厚为40~50nm，所述的第六膜层Si3N4层7的层厚为80~ 100nm〇
[0027] 所述的第三膜层AZO层4为掺铝氧化锌层，为银膜生长层，能将低吸收率电介质层 的膜层平整光滑化，使得银层在平整光滑的基础上形成均匀一致的膜层。第三膜层AZO层 4的层厚为3~5nm，所述的第七膜层AZO层8的层厚为3~5nm。
[0028] 所述的第四膜层Ag层5为低辐射功能膜层银层，能对阳光辐射范围内达到最好吸 收和在红外线范围内得到最高的反射率，第四膜层Ag层5的层厚为8~12nm，所述的第八 膜层Ag层9的层厚为8~12nm〇
[0029] 所述的第五膜层NiCrOx层6为氧化镍铬层，为银层保护层，能保护银层使其不被 氧化，第五膜层NiCrOx层6的层厚为5~15nm，所述的第九膜层NiCrOx层10的层厚为5~ 15nm〇
[0030] 所述的第十一膜层ZrNx层12为氮化锆层，为最外层，具备抗机械损伤能力的保 护层，能避免玻璃在进行高温热处理加工时膜层被破坏，第十一膜层ZrNx层12的层厚为 10 ~25nm〇
[0031] 制备可进行高温热处理的双银低辐射镀膜玻璃的方法，包括如下步骤：
[0032] (1)磁控溅射SiOJl，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90% :10%，工艺气 体为氩气和氧气，氩氧比为I:1. 5 ;
[0033] (2)磁控溅射Si3N4层，采用旋转双阴极SiAl靶，Si:A1比例为90%:10%，工艺气 体为氩气和氮气，氩氮比为1:1. 2 ;
[0034] (3)磁控溅射AZO层，采用陶瓷锌靶在氩氧