专利名称：一种对半导体产品的自动酸洗设备的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及ー种自动清洗设备，特别是ー种对半导体产品的自动酸洗设备。
背景技术：
一般金属材料含有少量杂质时，电阻率变化不大,但纯净的半导体材料掺入少量的杂质后，则导致电阻率变化巨大，这是半导体材料的基本特性。多晶硅、籽 晶、母合金等半导体产品不但在生产、加工、运输、储存过程中会被沾污，也会被空气中的油、水蒸汽、尘埃等污染。所以，在使用前需进行酸洗以去除杂质等。目前对多晶硅、籽晶、母合金等半导体产品酸洗主要是人工进行，存在劳动强度大、生产效率低、酸洗品质不一致等缺点。
实用新型内容实用新型目的针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种对半导体产品的自动酸洗设备，实现自动化生产，保证酸洗品质的一致性。技术方案一种对半导体产品的自动酸洗设备，包括清洗制具、驱动装置和控制器，所述控制器对所述清洗制具的清洗时间和振动频率进行控制，所述驱动装置提供动カ给所述清洗制具。所述清洗制具由耐酸和耐高温的材料制造而成。有益效果与现有技术相比，本实用新型的优点是通过自动化设备完成对多晶硅等半导体的清洗，与人工清洗的操作手法一致，自动化控制有利于提高酸洗品质的一致性，减少劳力，提高酸洗的生产效率，而且对整块材料可以直接清洗，減少材料损耗。
附图图I为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图图I和具体实施例，进ー步阐明本实用新型，应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，在阅读了本实用新型之后，本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。如附图图I所示，一种对半导体产品的自动酸洗设备，包括清洗制具I、驱动装置2和控制器3，清洗制具I由耐酸和耐高温的材料制造而成，适应酸性工作条件，控制器3对设置清洗时间和振动频率等參数，对清洗制具I的工作进行控制，驱动装置2提供清洗制具I工作所需的动力。
权利要求1.一种对半导体产品的自动酸洗设备，包括清洗制具(I)、驱动装置(2)和控制器(3)，其特征在于所述控制器(3)对所述清洗制具(I)的清洗时间和振动频率进行控制，所述驱动装置(2 )提供动カ给 所述清洗制具(I)。
2.根据权利要求I所述的ー种对半导体产品的自动酸洗设备，其特征在于所述清洗制具(I)由耐酸和耐高温的材料制造而成。
专利摘要本实用新型公开了一种对半导体产品的自动酸洗设备，包括清洗制具、驱动装置和控制器，所述控制器对所述清洗制具的清洗时间和振动频率进行控制，所述驱动装置提供动力给所述清洗制具。本实用新型的优点是通过自动化设备完成对多晶硅等半导体的清洗，与人工清洗的操作手法一致，自动化控制有利于提高酸洗品质的一致性，减少劳力，提高酸洗的生产效率，而且对整块材料可以直接清洗，减少材料损耗。
文档编号C30B33/10GK202643917SQ20122014973
公开日2013年1月2日 申请日期2012年4月9日 优先权日2012年4月9日
发明者张燕青, 龚海燕 申请人:镇江大成新能源有限公司