新型短波发射机帘栅薄膜电容的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及短波发射机中的电容结构，具体的说是一种新型短波发射机帘栅薄膜电容。
【背景技术】
[0002]目前短波发射机使用的帘栅薄膜电容是由挠性覆铜板(双面覆铜)通过化学蚀刻根据实际需要加工而成的，挠性覆铜板在分别基膜(聚酰亚胺薄膜)的两面通过胶粘剂覆有一层铜箔。目前的短波发射机的帘栅薄膜电容，其结构设计为片状分散的圆盘形状，整个电容的电场不均匀，覆铜部分的尖端设计不合理，导致在使用中多次出现基膜的边缘或膜表面覆铜的边缘出现击穿现象，并且由于现有帘栅薄膜电容所选制作材料的耐压性不足、耐高温性能不强、电容量的一致性不好，在使用中出现频繁击穿和绝缘层变脆老化以及覆铜表面氧化严重现象，严重影响薄膜电容的使用寿命和稳定性。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种新型的短波发射机帘栅薄膜电容，以解决现有薄膜电容因耐压性不足、电容量一致性不好等而导致使用过程中容易击穿的问题。同时，本发明还要提供一种新型的短波发射机。
[0004]本实用新型的目的是这样实现的:
[0005]—种新型的短波发射机帘栅薄膜电容，其整体为环形结构，包括圆环形的基膜层和圆环形的铜箔层，所述基膜层的外圆直径大于所述铜箔层的外圆直径，所述基膜层的内圆直径小于所述铜箔层的内圆直径，所述铜箔层附着在所述基膜层的上、下两面，上层铜箔层的圆心、下层铜箔层的圆心和基膜层的圆心在一条直线上。
[0006]所述的新型的短波发射机帘栅薄膜电容，所述基膜层为双层聚酰亚胺薄膜。
[0007]所述的新型的短波发射机帘栅薄膜电容，在所述基膜层上开有若干安装孔，在对应所述安装孔的所述铜箔层上开有直径大于所述安装孔直径的隔离孔。
[0008]所述的新型的短波发射机帘栅薄膜电容，在所述基膜层的内圆边沿开有凹口，所述凹口进入到所述铜箔层的覆盖区域，在所述铜箔层上的凹口覆盖区域开有大于所述凹口的隔离口，使所述铜箔层的边沿离开所述基膜层上的凹口，避免穿过凹口的紧固件与铜箔层相接触。
[0009]本实用新型选择电工级聚酰亚胺薄膜作为绝缘介质层，且电容的覆铜部分为整体的结构，这种结构设计使得整个电容的电场均匀，使用中不容易频繁击穿。另外，本新型进一步通过将基膜设计成双层形式，可以互相掩盖单层基膜中的缺陷和疵点，从而使得电容的耐压和可靠性更有保证。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型实施例1结构示意图。
[0011]图2是本实用新型实施例1半剖结构示意图。
[0012]图3是本实用新型实施例2结构示意图。
[0013]图4是本实用新型实施例2半剖结构示意图。
[0014]图5是本实用新型实施例3结构示意图。
[0015]图中:1、单层基膜，2、铜箔，3、安装孔，4、凹口，5、胶粘剂，6、双层基膜，7、隔离孔，
8、隔离口。
【具体实施方式】
[0016]实施例1
[0017]如图1所示，本实用新型由圆环形的单层基膜I (电工级聚酰亚胺薄膜，其厚度为25μπι)以及分别通过胶粘剂5 (如图2，其厚度为20 μπι)粘贴于单层基膜I (其厚度为35 μm)两侧的圆环形铜箔2构成；其中，单层基膜I的外圆直径大于铜箔2的外圆直径，单层基膜I的内圆直径小于铜箔2的内圆直径。
[0018]本实施例结构的帘栅薄膜电容适用于DF500A型短波发射机。
[0019]实施例2
[0020]如图3所示，本实用新型由圆环形的双层基膜6 (电工级聚酰亚胺薄膜，单层厚度为20 μ m，总厚度为40 μ m)以及分别通过胶粘剂5 (如图4，其厚度为25 μ m)粘贴于双层基膜6 (其厚度为40 μπι)两侧的圆环形铜箔2构成；其中，双层基膜6的外圆直径大于铜箔2的外圆直径，双层基膜6的内圆直径小于铜箔2的内圆直径；在双层基膜6上均布有8个安装孔3，在铜箔2上与安装孔3对应的位置开有直径大于安装孔3的隔离孔7，以使铜箔2的边沿离开安装孔3，避免穿过安装孔3的紧固件与铜箔2接触。
[0021]本实施例结构的帘栅薄膜电容适用于418E/F、DF100A、ΤΒΗ522短波发射机。
[0022]实施例3
[0023]如图5所示，本实用新型由单层基膜I (电工级聚酰亚胺薄膜)以及分别通过胶粘剂粘贴于单层基膜I两侧的铜箔2构成；其中，单层基膜I的外圆直径大于铜箔2的外圆直径，单层基膜I的内圆直径小于铜箔2的内圆直径；在单层基膜I的内圆边沿开有凹口 4，凹口 4进入到铜箔2的覆盖区域，在铜箔2上的凹口覆盖区域开有大于凹口 4的隔离口 8，以使铜箔2的边沿离开单层基膜I上的凹口 4，避免穿过凹口 4的紧固件与铜箔2相接触。
[0024]本实施例结构的帘栅薄膜电容适用于420C型短波发射机。
【主权项】
1.一种新型短波发射机帘栅薄膜电容，其特征是，包括圆环形的基膜层和圆环形的铜箔层，所述基膜层的外圆直径大于所述铜箔层的外圆直径，所述基膜层的内圆直径小于所述铜箔层的内圆直径，所述铜箔层附着在所述基膜层的上、下两面，上层铜箔层的圆心、下层铜箔层的圆心和基膜层的圆心在一条直线上。2.根据权利要求1所述的新型短波发射机帘栅薄膜电容，其特征是，所述基膜层为双层聚酰亚胺薄膜。3.根据权利要求1或2所述的新型短波发射机帘栅薄膜电容，其特征是，在所述基膜层上开有若干安装孔，在对应所述安装孔的所述铜箔层上开有直径大于所述安装孔直径的隔离孔。4.根据权利要求1或2所述的新型短波发射机帘栅薄膜电容，其特征是，在所述基膜层的内圆边沿开有凹口，所述凹口进入到所述铜箔层的覆盖区域，在所述铜箔层上的凹口覆盖区域开有大于所述凹口的隔离口。
【专利摘要】本实用新型涉及一种新型短波发射机帘栅薄膜电容，其整体为环形结构，包括圆环形的基膜层和圆环形的铜箔层，所述基膜层的外圆直径大于所述铜箔层的外圆直径，所述基膜层的内圆直径小于所述铜箔层的内圆直径，所述铜箔层附着在所述基膜层的上、下两面，上层铜箔层的圆心、下层铜箔层的圆心和基膜层的圆心在一条直线上。本实用新型选择电工级聚酰亚胺薄膜作为绝缘介质层，且电容的覆铜部分为整体的结构，这种结构设计使得整个电容的电场均匀，使用中不容易频繁击穿。另外，本新型进一步通过将基膜设计成双层形式，可以互相掩盖单层基膜中的缺陷和疵点，从而使得电容的耐压和可靠性更有保证。
【IPC分类】H01G4/14, H01G4/33
【公开号】CN205028788
【申请号】CN201520810465
【发明人】杨志昆, 王荣飞, 高山, 郭兴安, 钮安鹏, 李景华, 燕济安, 刘家收, 姚震, 刘清, 刘兴举, 宋岩峰, 张丽霞
【申请人】杨志昆
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2015年10月20日