一种场发射显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种场发射显示装置，尤指一种利用碳纳米管的场发射显示装置。
【背景技术】
[0002]碳纳米管作为一种常规的场发射材料，在场发射显示领域得到了广泛的应用。该场发射元件，利用碳纳米管尖端放电原理，实现显示功能。常规的场发射结构为二级结构或三级结构，其原理都是利用碳纳米管尖端电子轰击荧光层发光所致。
[0003]发明专利CN1286500A为传统的碳纳米管场发射显示器结构，碳纳米管垂直排列在阴极表面。工作时，碳纳米管在电压作用下发射电子，电子束轰击阳极，阳极为透明电极，并且安装荧光层，荧光层发光，光线透过阳极，完成显示功能。此结构的存在的缺陷是:电子轰击荧光层自发辐射发光，但荧光层所发的光线方向是无规则的，其发光方向呈球状分布，浪费近70 %，造成发光效率低。
[0004]发明专利CN2587057Y为一种场发射显示装置，此装置采用透明阴极，通过阳极反射光提高了发光效率。但是，该装置存在的缺陷是:反射光具有方向性，在阴极透射过程，光线不均匀，造成部分阴影。
【发明内容】
[0005]本发明为了解决上述技术的不足，提高装置的发光效率，采取的技术方案是:
[0006]一种场发射显示装置，包括阳极和涂覆碳纳米管的阴极，其特征在于:荧光层为球状结构，位于凹面镜的焦点位置，阳极位于装置外壳的底部和凹面镜的中间位置。荧光层发出光由于凹面镜的聚焦作用，平行射出出光部。
[0007]阴极为球状结构，位于荧光层的球心，阴极表面涂覆碳纳米管。球形的阴极表面结构扩大了碳纳米管的管间距，降低了管间屏蔽效应，提高了电子束的发射效率。电子束轰击荧光层，大部分光线能够在凹面镜反射。
[0008]本装置的有益效果是:凹面镜结构提高了发光效率，增强了光线的方向性，使发出的光线平行且均匀；球状阴极结构降低了管间屏蔽效应，提高了电子束的发射效率。
【附图说明】
[0009]图1为本装置的剖面图。
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，支撑体6为绝缘结构，起到连接荧光层3和外壳I的支撑作用。荧光层3为球状空心结构，内外表面涂覆荧光粉，球心位置固定阴极5，阴极5—般采用金属结构的球状物，在其表面生长碳纳米管4。荧光层3位于凹面镜7的焦点位置，阳极8位于装置外壳I的底部和凹面镜7的中间位置。
[0011]阴极5生长碳纳米管4为本领域技术人员常用技术。
[0012]阴极5与阳极8的作用，使碳纳米管4发射电子束，电子束轰击荧光层3。通过荧光层3产生的光线部分经出光部2射出，由于荧光层3位于凹面镜7的焦点位置，光线被凹面镜7反射，形成平行光射出出光部2，且外壳I的顶端采用透明材料。
【主权项】
1.一种场发射显示装置，包括阳极(8)，涂覆碳纳米管(4)的阴极(5)，其特征在于:荧光层(3)为球状结构，位于凹面镜(7)的焦点位置，阳极(8)位于装置外壳(I)的底部和凹面镜(7)的中间位置。
2.根据权利要求1所述一种场发射显示装置，其特征在于:阴极(5)为球状结构，位于荧光层(3)的球心，阴极(5)表面涂覆碳纳米管(4)。
【专利摘要】本实用新型涉及一种场发射显示装置，本装置包括阳极和涂覆碳纳米管的阴极。荧光层为球状结构，位于凹面镜的焦点位置，阳极位于装置外壳的底部和凹面镜的中间位置。荧光层发出光由于凹面镜的聚焦作用，平行射出出光部。本装置的有益效果是：凹面镜结构提高了发光效率，增强了光线的方向性，使发出的光线平行且均匀；球状阴极结构降低了管间屏蔽效应，提高了电子束的发射效率。
【IPC分类】H01J29-04, H01J31-12, H01J29-46
【公开号】CN204497188
【申请号】CN201520168157
【发明人】乔宪武, 吴昊
【申请人】中国计量学院
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年3月24日