具有传感器组装件的带电粒子光刻系统的利记博彩app
【专利摘要】本发明涉及一种用于将图案转移到目标上的带电粒子光刻系统，所述系统包括：目标定位设备，该目标定位设备包括具有用于支托目标的第一侧的目标支托架；带电粒子光学单元，该带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标支托架的第一侧；以及传感器组装件，该传感器组装件包括：转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中转换器元件被布置在所述目标定位设备上；光传感器，所述光传感器用于检测光，其中光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，所述光学透镜被布置在转换器元件和光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器。
【专利说明】具有传感器组装件的带电粒子光刻系统
[0001 ] 背景
[0002]本发明涉及具有传感器组装件的带电粒子光刻系统。
[0003]这种光刻系统例如在国际专利申请W02007/032670中公开。该国际专利申请中所公开的光刻系统被布置用于使用用于生成多个带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标的表面的带电粒子光学单元将图案转移到目标的表面上。带电粒子束在目标的表面上在一个或多个方向上被扫描，并且在所述扫描期间，每一个带电粒子束在目标的所述表面上刻写所述图案的一部分。
[0004]为了在目标(例如，晶片或掩模)上刻写高分辨率图案，已知在要暴露的表面处或者在其附近的每一个射束的位置优选必须在几纳米的距离内。为了确定带电粒子束并且具体地所述多个带电粒子束的特性，使用与用于将带电粒子束转换成光束的转换器元件组合的传感器。所述传感器包括与用于检测所述光束的转换器元件成直线定位的光敏检测器阵列。优选地，转换器元件被设置有包括尖锐边缘的阻挡元件。转换器元件(具体地其阻挡元件)基本被布置在与目标的表面相同的层面。通过在与尖锐边缘基本垂直的方向上在转换器元件上扫描带电粒子束并且监视与带电粒子束相对应的光束的光强度变化，可建立带电粒子束的位置和直径。
[0005]如W02007/032670中所公开的，转换器元件被直接布置在光敏检测器阵列上方，这提供了非常紧凑的组装件。光敏检测器阵列可被设置有用于将所测量的数据传递给控制设备的布缆(cabling)，该控制设备包括用于处理所测量的数据以确定带电粒子束的特性的处理器。
[0006]为了将阻挡元件定位在与目标的表面基本相同的层面，传感器和转换器元件的组装件被排列在目标支托架中或者被排列成与其相邻。优选地，该组装件被集成在目标支托架中。
[0007]目标支托架被布置在用于相对于带电粒子光学单元准确地移动目标的台级组装件的顶部，并且被排列在真空腔内部。将该组装件集成在真空腔内部的目标支托架中的缺点在于，被布置在台级组装件的顶部的组装件必须被连接到在真空腔外部的控制设备，而不妨碍目标的准确移动。
[0008]本发明的目标是提供对传感器的更便利的定位。
[0009]发明概述
[0010]根据第一方面，本发明提供了一种用于将图案转移到目标上的带电粒子光刻系统，所述系统包括:
[0011 ]目标定位设备，该目标定位设备包括具有用于支托目标的第一侧的目标支托架；
[0012]带电粒子光学单元，该带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标支托架的第一侧；以及
[0013]传感器组装件，该传感器组装件包括:转换器元件，该转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中转换器元件被布置在所述目标定位设备上;光传感器，该光传感器用于检测光，其中光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，该光学透镜被布置在转换器元件和光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器。
[0014]本发明由此通过将传感器布置为远离转换器元件(例如包括如从现有技术已知的阻挡元件)并且使用光学透镜将源自所述转换器元件的光引向传感器来提供以上标识的问题的解决方案。为了确定在目标层面的带电粒子束的特性，转换器元件被布置在所述目标定位设备上。具体地，在确定带电粒子束的特性期间，转换器元件面向所述带电粒子光学单元的一侧优选被布置在与图案被转移到其上的所述目标的暴露表面基本相同的层面。由于本发明的传感器组装件，传感器可被布置在离所述目标定位设备的一距离处。与现有技术中已知的布置相反，根据本发明至少组装件的传感器被布置在目标定位设备的一距离处，具体地被定位在所述定位设备的台级组装件的一距离处。由此，传感器可被排列成与目标定位设备分开，并且可合适地连接到真空腔外部的控制设备，而不妨碍目标定位设备的准确移动。
[0015]注意在实施例中，光学透镜可被布置在所述目标定位设备上，就像转换器元件一样。然而，优选光学透镜还被布置在离所述目标定位设备的一距离处，就像光传感器一样。
[0016]在实施例中，在使用真空腔的壁中的用于将来自转换器元件的光传输到真空腔的外部的真空密封窗口时，至少传感器可被布置在真空腔外部。在本实施例中，传感器和控制设备的连接可被完全布置在真空腔外部。
[0017]在实施例中，透镜被布置成将转换器元件基本面向所述带电粒子光学单元的一侧的图像投射到光传感器上。这对于表征撞击在转换器元件上的各个位置处的多个带电粒子束并且使用像素化的传感器(具体地CMOS阵列、CCD阵列、或者二极管阵列)来观察基本上在同时被发射在所述各个位置处的光是特别有利的。发射在所述转换器元件上的所述各个位置处的光被成像在像素化的传感器的表面上的各个位置上(优选在各个像素上)。
[0018]在实施例中，带电粒子光学单元被布置在目标支托架的第一侧，并且其中光学透镜和光传感器被布置在目标支托架的第二侧，其中第二侧与第一侧基本相对。
[0019]例如，带电粒子光学单元被布置在目标支托架上方并且光学透镜和光传感器被布置在目标支托架下方，或反之亦然。在本实施例中，光学透镜和光传感器的布置不干扰带电粒子光学单元的定位。
[0020]在实施例中，带电粒子光学单元限定光轴，其中光学透镜和光传感器被布置在所述光轴上。根据本实施例，光学透镜和光传感器被布置在至少相对于带电粒子光学单元基本固定的位置处并且与带电粒子光学单元的光轴基本永久地对齐。为了建立带电粒子束的特性，仅被布置在所述目标定位设备上的转换器元件需要被所述目标定位设备移动到带电粒子束在带电粒子光学单元的光轴处或者在其附近的射束路径中。
[0021]在实施例中，所述目标支托架和所述带电粒子光学单元至少部分地被布置在真空腔内部，并且其中所述真空腔包括延伸到所述真空腔内部的隔室，其中所述隔室的内部与真空腔的内部分隔，其中所述隔室在面向所述目标支托架的一侧包括窗口，并且其中至少所述光学透镜被布置在所述隔室内部。所述隔室的内部与所述真空腔的内部分隔，并且由此可处于大气压力。隔室在面向所述目标支托架的一侧包括窗口，该窗口用于将来自转换器元件的光传输到隔室的内部并且由此传输到真空腔的外部。光学透镜被布置在所述隔室内部，优选靠近窗口。由于隔室延伸到所述真空腔的内部，因此光学透镜可被布置在真空腔外部并且同时更加靠近目标支托架。
[0022]通过将光学透镜布置在真空腔外部，光学透镜不必是真空兼容透镜。标准透镜可应用于根据本发明的布置中。
[0023]通过将光学透镜布置在更靠近目标支托架的隔室内部，包括所述透镜的光学系统的数值孔径(NA)可能更大，并且因此它的聚光能力和分辨率有利地更大。
[0024]在实施例中，传感器还被布置在所述隔室内部。在实施例中，光传感器和光学透镜作为一个单元被布置在隔室中。在实施例中，隔室还延伸到真空腔的外部。在此情况下，可挑选隔室的维度以能够便利地包含光学透镜和光传感器的组装件。
[0025]在实施例中，所述隔室的内部对所述真空腔的外部基本敞开。由此，所述隔室的内部与通常被布置在基本处于大气压力或者略微高于大气压力的干净房间内部的所述真空腔的周围流体连接。
[0026]虽然隔室可被形成为真空腔的壁的一部分，但是在实施例中，隔室被布置在所述真空腔的所述壁中的开口中。本实施例的隔室可作为一个单元被安装在真空腔中并且从其移除。
[0027]由于带电粒子束的本质，它们的轨迹可被磁场和/或电场改变。在带电粒子光学单元中，这特别用于调制带电粒子束并且将带电粒子束引向目标。为了使带电粒子光学单元与可能干扰带电粒子束的轨迹并且由此诱发与目标上的带电粒子束的期望位置的偏差的周围磁场和/或电场屏蔽，真空壁优选被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件。屏蔽件包括一层或多层μ金属。这种屏蔽件被布置成使地球磁场衰减达相当大程度，例如为约1000倍的衰减是可能的。
[0028]在将隔室布置在所述真空腔的壁的开口中时，屏蔽件在开口处是不连续的。为了至少部分地补偿屏蔽件中的开口，在实施例中，带电粒子光刻系统进一步包括基本包围隔室与真空壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于真空腔向外的方向上延伸。在实施例中，所述管部件至少包括至少一层μ金属或坡莫合金。
[0029]优选地，管部件连接到布置在真空腔的内部的壁的屏蔽件。为了提供管部件和真空腔内部的屏蔽件之间的合适连接，在实施例中，所述管部件沿着所述隔室延伸到真空腔的内部，并且所述管部件包括被布置在真空腔的内部并且在所述真空壁中的开口周围与真空壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘(lip)。在实施例中，真空壁被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件，并且径向延伸凸缘在所述真空壁中的开口周围至少部分地覆盖所述屏蔽件，其中所述屏蔽件被布置在径向延伸凸缘和真空壁之间。
[0030]在实施例中，所述隔室包括被布置成连接到真空壁以提供真空密封的法兰部件。在实施例中，法兰环被布置在所述真空腔的壁和所述法兰部件之间。在实施例中，所述法兰环包括至少一层μ金属或坡莫合金。在隔室的法兰部件和所述真空腔的壁之间使用这种法兰环为屏蔽件提供了一种传送真空阻挡件的偏便利方式。
[0031]在实施例中，所述法兰环包括基本包围隔室与真空壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于真空腔向外的方向上延伸。在实施例中，所述管部件包括至少一层μ金属或坡莫合金。本实施例的管部件和法兰环被形成为一个单元。
[0032]优选地，管部件连接到布置在真空腔的内部的壁的屏蔽件。为了提供管部件和真空腔内部的屏蔽件之间的合适连接，在实施例中，所述管部件是第一管部件，并且其中法兰环进一步包括基本包围隔室与真空壁相邻的部分的第二管部件，其中所述第二管部件沿着所述隔室在相对于真空腔向内的方向上延伸。在实施例中，所述第二管部件包括至少一层μ金属或坡莫合金。在实施例中，所述第二管部件包括在所述真空壁中的开口周围与真空壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘。在实施例中，真空壁被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件，并且其中径向延伸凸缘在所述真空壁中的开口周围至少部分地覆盖所述屏蔽件，其中所述屏蔽件被布置在径向延伸凸缘和真空壁之间。在实施例中，隔室的所述法兰部件被布置在所述真空壁面向真空腔的内部的一侧。
[0033]在实施例中，延伸到所述真空腔的内部的隔室被布置在所述目标支托架背对用于支托目标的第一侧的一侧。由此，传感器被布置在优选被布置在目标支托架的转换器元件背对带电粒子光学单元的一侧。在便利的实施例中，带电粒子光学单元被布置在目标支托架上方，并且隔室被布置在目标支托架下方。
[0034]在实施例中，带电粒子光学单元限定光轴，其中光学透镜和传感器被布置在所述光轴上。传感器布置由此始终与带电粒子光学单元对齐。为了确定带电粒子束的特性或者对光刻系统的校准或再校准，台级组装件将目标支托架移动到带电粒子束撞击在转换器元件上的位置。在台级组装件的该特定位置，设置从转换器元件到隔室的窗口的通孔以允许源自射击转换器元件的带电粒子束的光传送到所述隔室、通过所述窗口、并且到所述传感器组装件，基本没有阻碍。
[0035]在实施例中，隔室被布置在所述真空腔内部的部分的直径大于隔室与所述真空腔的壁相邻的部分的直径。这允许与具有大直径的光学透镜组合使用所述真空腔的壁中的相对较小的开口。另一方面，由于壁中的小开口，屏蔽件中的开口也是小的，其在与屏蔽件中的较大开口相比时减少了周围磁场和/或电场的影响。另一方面，使用具有较大直径的光学透镜增加光学系统的数值孔径(NA)并且因此其聚光能力和分辨率在与具有较小直径的透镜相比时有利地更大。
[0036]根据第二方面，本发明涉及一种用于确定在带电粒子光刻系统中的目标的层面的一个或多个带电粒子束的特性的方法，其中所述方法包括:
[0037]目标定位设备，该目标定位设备包括具有用于支托目标的第一侧的目标支托架；
[0038]带电粒子光学单元，所述带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标支托架的第一侧；以及
[0039]传感器组装件，该传感器组装件包括:转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中该转换器元件被布置在所述目标定位设备上;光传感器，所述光传感器用于检测光，其中所述光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及，光学透镜，所述光学透镜被布置在转换器元件和光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器，
[0040]其中所述方法包括将所述目标定位设备移动到带电粒子束撞击在转换器元件上的位置的步骤。
[0041]具体地，由于光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处并且相应地未被布置在目标定位设备上，因此转换器元件与光传感器独立地移动。
[0042]在实施例中，其中至少光传感器被布置在相对于带电粒子光学单元基本固定的位置处并且与带电粒子光学单元基本永久地对齐。在实施例中，光学透镜也被布置在相对于带电粒子光学单元基本固定的位置处并且与带电粒子光学单元基本永久地对齐。在本实施例中且关于传感器组装件，仅转换器被所述目标定位设备移动到带电粒子束在带电粒子光学单元的光轴处或者在其附近的射束路径中。传感器组装件的其他部分(具体地为光学透镜和光传感器)被布置在相对于带电粒子光学单元基本固定的位置处。
[0043]在可能的情况下，可单独地应用在说明书中描述和示出的各个方面和特征。这些单独的方面(具体地在所附从属权利要求中描述的方法和特征)可作为分割的专利申请的主题。
[0044]附图简述
[0045]本发明将在附图中所示的示例性实施例的基础上进行阐述，其中:
[0046]图1示出解说模块化光刻系统的主要元件的简化框图；
[0047]图2示出根据本发明的第一实施例的光学系统的一部分的示意图；
[0048]图3示出根据本发明的第二实施例的光学系统的一部分的示意图；
[0049]图4示出根据本发明的第三实施例的光学系统的一部分的示意图；
[0050]图5示出根据本发明的第四实施例的光学系统的一部分的示意图；以及
[0051]图6示出根据本发明的第五实施例的光学系统的一部分的示意图。
[0052]本发明的详细描述
[0053]图1示出解说模块化光刻系统200的主要元件的简化框图。光刻系统优选以模块化的方式设计以准许容易维护。主要子系统优选被构造在自包含和可移除的模块中，使得可将它们从光刻机中移除，而对其他子系统有尽可能少的干扰。在对光刻机的访问受限的情况下，这对包封在真空腔中的该机器尤其有利。由此，故障子系统可被快速地移除和替换，而不必断开或干扰其他系统。在图1所示的实施例中，这些模块化子系统包括:
[0054]-包括带电粒子束源101和射束准直系统102的照明光学模块201;
[0055]-包括孔径阵列103和聚光镜阵列104的孔径阵列和聚光镜模块202;
[0056]-包括射束消隐器阵列105的射束切换模块203;以及
[0057]-包括射束停止阵列108、射束偏转器阵列109和投射透镜阵列110的投射光学模块204。
[0058]在图1所示的示例中，对齐框架包括对齐内子框架205和对齐外子框架206。框架208经由减震安装件207支撑对齐子框架205和206。
[0059]模块201、202、203、204—起形成用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标支托架的第一侧的带电粒子光学单元。
[0060]目标定位设备包括具有面向带电粒子光学单元的第一侧209’的目标支托架209，也称为晶片台209。在所述第一侧209 ’上，可布置目标，例如晶片130。晶片台209进而被安装在卡盘210上。
[0061 ]晶片台209和卡盘210被布置在短行程台级(stage)211上，该短行程台级被布置用于沿着所有六个自由度在小距离上驱动所述卡盘210。短行程台级211被安装在长行程台级212顶部，该长行程台级212被布置用于在至少基本水平的平面上沿着两个正交的方向(X和Y)驱动所述短行程台级211和卡盘210。
[0062]光刻机200被包封在真空腔400中，该真空腔包括一层或多层mu金属(μ金属)屏蔽215。屏蔽件215以便利的方式被布置为真空腔400的衬垫(lining)。该机器停留在被框架件221支撑的基板220上。
[0063]在实施例中，框架208和真空腔400的底壁401被形成为一个单元。例如，从单个整体材料块加工框架208和底壁401。晶片台209、卡盘201、短行程台级211、以及长行程台级212被安装在框架(或底壁)208上或者被安装在其中。
[0064]晶片130和晶片台209相对于带电粒子光学单元201、202、203、204的位置是使用附连到对齐子框架205的测量设备250来测量的，该对齐子框架监视卡盘210相对于测量设备250的位置。测量设备250包括例如干涉仪系统，并且卡盘210随后被设置有用于反射来自干涉仪系统的光束252的镜子251。
[0065]在该示例中，系统200进一步包括传感器组装件，该传感器组装件包括:
[0066]如图2更详细地示出的转换器元件140、150，该转换器元件140、150被布置在目标定位设备上，具体地被布置在其卡盘210上；
[0067]被布置成与目标定位设备212、211、210、209间隔开的光学透镜302和光传感器303。
[0068]在图1和2所示的实施例中，光学透镜302和光传感器303被布置在真空腔400内部，并且用于将传感器303与控制单元(未示出)连接的布缆304横穿所述真空腔400的壁401。在使用中，光学透镜302和光传感器303被布置并且需要在真空条件下操作。
[0069]替换地，真空腔400可被设置有隔室300。隔室300被布置在所述晶片台209背对用于支托晶片130的第一侧209’的一侧。具体地，带电粒子光学单元201、202、203、204被布置在晶片台209上方，并且隔室300被布置在晶片台209下方。带电粒子光学单元201、202、203、204限定光轴100，其中光学透镜302和传感器303被布置在所述光轴100上。
[0070]所述隔室300的内部与真空腔400的内部分离。隔室300在面向所述目标支托架(具体地所述卡盘210)的一侧包括窗口 301。在该示例中，包括光学透镜302和传感器303的隔室300被布置在所述真空腔400内部。
[0071]如图1示意性地示出的，隔室300面向目标支托架的部分(具体地隔室300包括窗口301和光学透镜302的部分)的直径大于隔室300与所述真空腔400的壁401相邻的部分的直径。
[0072]如图1示意性地示出的，隔室300可延伸到真空腔400中，甚至部分地延伸到长行程台级212的空间中，该长行程台级于是被设置有必要的开口以提供用于隔室300的空间，而不妨碍该台级的移动。
[0073]实际上，本发明的布置提供了通过传感器303对转换器元件140、150生成的光的非接触式测量。这提供了本发明的布置的附加优点:相同的传感器303可用于检测若干转换器元件140、150生成的光。
[0074]如图2详细地示出的，具有晶片130的晶片台209被安装在其上的卡盘210被设置有至少两个转换器元件140、150。这些转换器元件140、150例如借助于本身已知的动力学安装件被布置在晶片台209的安装位置旁边的位置处。在带电粒子光刻系统中的目标的层面的一个或多个带电粒子束106的特性需要被确定时，所述目标定位设备(具体地被设置有转换器元件140、150的卡盘210)移动到带电粒子束106撞击在转换器元件140上的位置。注意，转换器元件140与光传感器303独立地移动。另外注意，光传感器303和光学透镜302被布置在相对于带电粒子光学单元201、202、203、204基本固定的位置处并且与带电粒子光学单元(具体地与光轴100)基本永久地对齐，并且其中对于传感器组装件140、302、303，仅转换器140被所述目标定位设备移动到带电粒子束106在带电粒子光学单元的光轴100处或者在其附近的射束路径中。可通过致动短行程台级211和/或长行程台级212来定位卡盘210，以便以基本垂直于光轴100的方向移动卡盘210，从而将转换器元件140、150中的任一个转换器元件定位在光轴100处。
[0075]如图2所示，第一转换器元件140被布置在光轴100处。当该第一转换器元件140被一个或多个带电粒子束106照射时，击中转换器元件140的带电粒子束生成光160，该光160被光学透镜302成像在传感器303上。第一转换器元件140包括例如顶部有阻挡层的YAG(钇铝石榴石)材料形式的闪烁体。阻挡层由重材料(优选为钨类材料)构成，并且被成形为如TO2007/32670中所公开的例如用于确定一个或多个带电粒子束106的位置的图案。在第一转换器元件140的位置下方，卡盘210被设置有第一通孔210’，该第一通孔用于将由来自转换器元件140的带电粒子束106生成的光160经由光学透镜302传送到传感器303。
[0076]第二转换器元件150包括如W02013/112041中所公开的例如YAG材料形式的具有斜切硅晶片的其中在顶部有通孔的闪烁体。由于斜切，通孔的边缘中的至少一个边缘包括在一底切角的侧壁，这使用刃状物(knife edge)来准确地确定一个或多个带电粒子束106的光斑尺寸。在第二转换器元件150的位置下方，至少在第二转换器元件150移动到带电粒子束106中时，卡盘201被设置有用于将由来自转换器元件150的带电粒子束106生成的光经由光学透镜302传送到传感器303的第二通孔210”。
[0077]因此，第一转换器元件140可包括如W02007/32670中所公开的用于确定射束位置的板组装件，并且第二转换器元件150可包括如W02013/112041中所公开的用于确定射束光斑尺寸的板组装件。通过在合适的位置中相对于带电粒子光学单元移动卡盘210，期望转换器元件140、150可被布置在光轴100处以用于执行测量来建立带电粒子束的位置或光斑尺寸。
[0078]第二示例性实施例在图3中示出。在该示例中，光学透镜312被布置在真空腔400内部，而光传感器313被布置在真空腔400外部。在光学透镜312和光传感器313之间，真空腔400的壁401被设置有用于将由来自转换器元件140的带电粒子束106生成的光160经由所述真空腔400内部的光学透镜312传送到所述真空腔400外部的传感器313的窗口 311。注意为了将光160传送到真空腔的外部，屏蔽层215至少在窗口 311的位置处设置有开口。
[0079]第三示例性实施例在图4中示出。在该示例中，光学透镜322和光传感器323被布置在隔室320内部。隔室320被布置在所述真空腔400的底壁401中的开口中，该真空腔被设置有屏蔽层215。如图4示意性地指示的，隔室320是真空腔400的底壁401的一部分，并且在面向目标定位设备(具体地其卡盘210)的一侧设置有窗口 321。隔室320的内部与真空腔400的内部分隔开。因此，隔室300的内部可处于环境压力，并且光学透镜322和/或传感器323不需要是真空兼容的。另外，用于在传感器323和控制设备(未示出)之间通信的布缆324不需要被馈送通过真空腔的壁。
[0080]第四示例性实施例在图5中示出。在该示例中，隔室340被布置在所述真空腔400的底壁401中的开口中，该真空腔设置有屏蔽层215。另外，本实施例包括基本包围隔室330与真空壁相邻的部分的管部件334，其中所述管部件334沿着所述隔室在相对于真空腔400向外的方向(具体地在该示例中向下的方向)上延伸。管部件334包括至少一层μ金属或坡莫合金，仅仅作为屏蔽件215。
[0081]如图5示意性地示出的，所述管部件334沿着所述隔室330延伸到真空腔400的内部。管部件334包括被布置在真空腔400的内部并且在所述壁中的开口周围与真空腔400的壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘335。径向延伸凸缘335在真空腔400的所述壁中的开口周围至少部分地覆盖真空腔400中的屏蔽件215，其中所述屏蔽件215被布置在径向延伸凸缘335和壁401之间。径向延伸凸缘335与屏蔽件215接触。
[0082]注意在示意性附图中，已经在真空腔400的壁401、管部件334和隔室330之间留下一些空间。这出于清楚的原因已经完成。实际上，管部件334被紧密地布置在真空腔400的壁和隔室330的圆周壁之间以提供真空腔400的封闭。
[0083]进一步注意，光学透镜332和传感器333都被布置在隔室330内部，并且隔室330在朝着所述卡盘210向上的一侧设置有窗口 331。
[0084]第五示例性实施例在图6中示出。在该示例中，隔室340被布置在所述真空腔400的底壁401中的开口中，该真空腔设置有屏蔽层215。如图6示意性地指示的，隔室340包括被布置成连接到真空腔400的壁以提供真空密封的法兰部件345。法兰环222被布置在所述真空腔400的壁和所述法兰部件345之间。所述法兰环222包括至少一层μ金属或坡莫合金，仅仅作为真空腔400的屏蔽件215。
[0085]如图6指示的，所述法兰环222包括基本包围隔室340与真空壁400的壁相邻的部分的第一管部件223。所述第一管部件223沿着所述隔室340在相对于真空腔400向外的方向(具体地向下的方向)上延伸。所述第一管部件包括一层μ金属或坡莫合金。
[0086]另外，法兰环224进一步包括基本包围隔室340与真空壁400的壁相邻的部分的第二管部件224。所述第二管部件224沿着所述隔室320在相对于真空腔400向内的方向上延伸。第二管部件224包括在所述真空腔400中的开口周围与壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘225。如图6所指示的，真空腔400的壁设置有面向所述真空腔400的内部的屏蔽件215。径向延伸凸缘225在所述壁中的开口周围至少部分地覆盖和接触所述屏蔽件215，其中所述屏蔽件215被布置在径向延伸凸缘225和真空腔400的壁之间。
[0087]第二管部件224和径向延伸凸缘225包括至少一层μ金属或坡莫合金。径向延伸凸缘225与屏蔽件215接触。
[0088]注意在本实施例中，隔室340的所述法兰部件345被布置在真空腔400的所述壁面向真空腔400的内部的一侧。
[0089]进一步注意，光学透镜342被布置在隔室340中的窗口 341附近，该敞开在底侧346基本敞开，并且传感器组装件的传感器343被布置在隔室340外侧且在真空腔400外侧。
[0090]应当理解，以上描述被包括在内以解说优选实施例的操作而不意指限制本发明的范围。根据以上讨论，可能仍然被本发明的精神和范围涵盖的各种变体对本领域技术人员将是显而易见的。
[0091]例如，具有法兰部件345的第五示例的隔室340还可被适配成传感器343可被布置在隔室340内部，如例如在图4和5的实施例中示出的。替换地，第三和第四实施例的隔室320、330还可被适配成将传感器323、333布置在隔室320、330外部，如例如在图6中的实施例中示出的。
【主权项】
1.一种用于将图案转移到目标上的带电粒子光刻系统，所述系统包括: 目标定位设备，所述目标定位设备包括具有用于支托所述目标的第一侧的目标支托架； 带电粒子光学单元，所述带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向所述目标支托架的所述第一侧；以及 传感器组装件，所述传感器组装件包括:转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中所述转换器元件被布置在所述目标定位设备上;光传感器，所述光传感器用于检测所述光，其中所述光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，所述光学透镜被布置在所述转换器元件和所述光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器。2.根据权利要求1所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述透镜被布置成将所述转换器元件基本面向所述带电粒子光学单元的一侧的图像投射到所述光传感器上。3.根据权利要求1或2所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述光传感器包括像素化的传感器，具体地为CCD阵列或二极管阵列。4.根据权利要求1、2或3所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述带电粒子光学单元被布置在所述目标支托架的第一侧，其中所述光学透镜和所述光传感器被布置在所述被目标支托架的第二侧，并且其中所述第二侧与所述第一侧基本相对。5.根据权利要求1-4中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述带电粒子光学单元限定光轴，其中所述光学透镜和所述光传感器被布置在所述光轴上。6.根据权利要求1-5中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述目标支托架和所述带电粒子光学单元至少部分地被布置在真空腔内部，并且其中所述真空腔包括延伸到所述真空腔内部的隔室，其中所述隔室的内部与所述真空腔的内部分隔，其中所述隔室在面向所述目标支托架的一侧包括窗口，并且其中至少所述光学透镜被布置在所述隔室内部。7.根据权利要求6所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述传感器也被布置在所述隔室内部。8.根据权利要求6或7所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室的内部对所述真空腔的外部基本敞开。9.根据权利要求6、7或8所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室被布置在所述真空腔的所述壁中的开口中。10.根据权利要求9所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，进一步包括基本包围所述隔室与所述真空壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于所述真空腔向外的方向上延伸，其中所述管部件至少包括μ金属层或坡莫合金层。11.根据权利要求?ο所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述管部件沿着所述隔室延伸到所述真空腔的内部，其中所述管部件包括被排列在所述真空室的内部并且在所述真空壁中的所述开口周围与所述真空壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘。12.根据权利要求11所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述真空壁被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件，并且其中径向延伸凸缘在所述真空壁中的所述开口周围至少部分地覆盖所述屏蔽件，其中所述屏蔽件被布置在所述径向延伸凸缘和所述真空壁之间。13.根据权利要求9-12中的任一项所述的带电颗粒光刻系统，其特征在于，所述隔室包括被布置成连接到所述真空壁以提供真空密封的法兰部件。14.根据权利要求13所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，法兰环被布置在所述真空腔的所述壁和所述法兰部件之间，其中所述法兰环包括至少一层μ金属或坡莫合金。15.根据权利要求14所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述法兰环包括基本包围所述隔室与所述真空壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于所述真空腔向外的方向上延伸，其中所述管部件包括至少一层μ金属或坡莫合金。16.根据权利要求15所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述管部件是第一管部件，并且其中所述法兰环进一步包括基本包围所述隔室与所述真空壁相邻的部分的第二管部件，其中所述第二管部件沿着所述隔室在相对于所述真空腔向内的方向上延伸，其中所述第二管部件包括至少一层μ金属或坡莫合金。17.根据权利要求16所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述第二管部件包括在所述真空壁中的所述开口周围与所述真空壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘，其中所述真空壁被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件，并且其中径向延伸凸缘在所述真空壁中的所述开口周围至少部分地覆盖所述屏蔽件，其中所述屏蔽件被布置在所述径向延伸凸缘和所述真空壁之间。18.根据权利要求14-17中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室的所述法兰部件被布置在所述真空壁面向所述真空腔的内部的一侧。19.根据权利要求6-18中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述目标支托架包括用于支托所述目标的第一侧，其中延伸到所述真空腔的内部的所述隔室被布置在所述目标支托架背对用于支托所述目标的所述第一侧的一侧。20.根据权利要求19所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述带电粒子光学单元被排列在所述目标支托架上方，并且其中所述隔室被排列在所述目标支托架下方。21.根据权利要求6-20中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室被排列在所述真空腔内部的部分的直径大于所述隔室与所述真空腔的所述壁相邻的部分的直径。22.根据权利要求6-21中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室还延伸到所述真空腔的外部。23.—种用于确定在带电粒子光刻系统中的目标层面的一个或多个带电粒子束的特性的方法，其特征在于，所述系统包括: 目标定位设备，所述目标定位设备包括具有用于支托所述目标的第一侧的目标支托架； 带电粒子光学单元，所述带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向所述目标支托架的所述第一侧；以及 传感器组装件，所述传感器组装件包括:转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中所述转换器元件被布置在所述目标定位设备上;光学传感器，所述光传感器用于检测所述光，其中所述光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，所述光学透镜被布置在所述转换器元件和所述光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器， 其中所述方法包括将所述目标定位设备移动到所述带电粒子束撞击在所述转换器元件上的位置的步骤。24.根据权利要求23所述的方法，其特征在于，所述转换器元件与所述光传感器独立地移动。25.根据权利要求23或24所述的方法，其特征在于，所述光传感器和所述光学透镜被布置在相对于所述带电粒子光学单元基本固定的位置处并且与所述带电粒子光学单元基本永久地对齐，其中相对于所述传感器组装件，仅所述转换器被所述目标定位设备移动到所述带电粒子束在所述带电粒子光学单元的光轴处或者在其附近的射束路径中。
【文档编号】H01J37/244GK105849854SQ201480070999
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2014年12月22日
【发明人】P·I·谢弗斯
【申请人】迈普尔平版印刷Ip有限公司