衬底支撑平台、衬底处理设备和衬底处理方法
【技术领域】
[0001]本发明是涉及一种衬底支撑平台、一种包含其的衬底处理设备和一种使用其的衬底处理方法，且更确切来说，本发明是涉及一种衬底支撑平台、一种包含其的衬底处理设备和一种使用其的衬底处理方法，其中可抑制由用激光束照射衬底造成的斑疵点的形成。
【背景技术】
[0002]—般来说，玻璃衬底用作有机发光二极管显示器或液晶显示器的衬底。在这种情况下，玻璃衬底在激光退火过程之后结晶或具有改进的结晶度。为了均一地处理此类激光退火过程，应用激光束均一地照射表面。
[0003]激光退火设备使从例如准分子激光或固态激光等激光源振荡的脉冲激光成形为直线射束，且用直线射束照射玻璃衬底上的非晶硅薄膜以使所照射的薄膜结晶。在这种情况下，使衬底在相对于激光束的一侧垂直或稍微倾斜的方向上水平地移动，因此允许用直线射束照射衬底。
[0004]使用直线射束的此类激光退火方法具有几个问题。确切来说，绘示了具有为肉眼可见的条纹的形状的斑疵点。也就是说，在平行于直线射束的长轴方向的方向上横越条纹被绘示于衬底上。因此，当使用上面绘示出横越条纹的衬底来生产液晶显示器或有机发光显示器时，产生了故障，其中与横越条纹相同的条纹图案被绘示于屏幕上。确切来说，有机发光显示器对照射条纹的灵敏度大于液晶显示器且因此需要有效的解决方案来减少照射条纹。图la与图lb是说明斑原因的视图。
[0005]参看图la与图lb，产生例如条纹等斑疵点的原因可分成与光学相关联的要素以及与安放相关联的要素。
[0006]也就是说，激光束41被成形为经由衬底照射透镜系统3所聚集的直线射束，且随后用所聚集的直线射束来照射衬底S。在这种情况下，当构成衬底照射透镜系统3的透镜3a,3b和3c翘曲时或当针对每次激光束照射发射来修改或改变激光束的强度时，可产生与光学相关联的斑。在将衬底S装载到腔室4并将衬底S安放于平台5上的过程中，当衬底S安放于平台5上同时被绞合或部分地脱离时，可产生与安放相关联的斑疵点。
[0007]常规地，为了减少上述斑疵点，用激光束执行照射，同时在对应于直线射束的短轴方向的方向上来回移动透镜3a、3b和3c的阵列。因此，被导引到这些透镜的激光束的倾角和强度可能改变。因此，衬底中在短轴方向上的射束均一性针对每次发射而变化，因此使由透镜表面上的散射光造成的条纹斑疵点分散于衬底上。这样可以减少为肉眼可见的斑疵点，但其效果并不充分。
[0008]此外，通过将衬底低速安放于平台5上，减少了斑疵点。但是，低速可增加处理时间和减小衬底的产量。
【发明内容】
[0009]本发明提供一种衬底支撑平台、一种包含其的衬底处理设备和一种使用其的衬底处理方法，其中可抑制与光学相关联的斑疵点和与安放相关联的斑疵点。
[0010]本发明还提供一种衬底支撑平台、一种包含其的衬底处理设备和一种使用其的衬底处理方法，其中可提高经处理的产品的品质和过程的产量。
[0011]根据示例性实施例，一种衬底支撑平台包含:基底；提升模块，其包含用以提升衬底的至少一个提升区域；以及振动模块，其安置成与衬底接触或不接触以振动衬底；
[0012]振动模块可包含形成于面向衬底的第一表面上的至少一个振动区域。振动区域可不重叠提升区域且可包含在第一表面的第一方向上彼此隔开的多个振动产生器。
[0013]提升区域可包含在第一表面的第一方向上彼此隔开的排放孔，且提升区域和振动区域可交替地形成。
[0014]提升模块可包含:多个排放管，其安置于基底中且在一端处与排放孔连通；以及气体供应器，其经配置以将气体供应到排放管。
[0015]振动模块可包含:开口部分，其包含进气通道和直通通道；防振垫，其覆盖开口部分的顶部；以及驱动单元，其经配置以通过将空气部分吸入于由开口部分形成的空间中来移动防振垫。
[0016]进气通道可在一端处通往基底的第一表面，且直通通道可在第一表面的第一方向上与进气通道隔开且经形成穿过基底。
[0017]驱动单元可包含:进气部分，其至少部分安置于进气通道中以在基底上方吸入气体；以及振动器，其至少部分安置于直通通道中以移动防振垫。
[0018]进气部分可包含:进气管，其安置于进气通道中且在一端处在进气通道的顶部旁边打开；压力控制器，其经配置以将吸力提供到进气管；以及进气管线，其经配置以连接进气管和压力控制器。
[0019]振动器可包含:驱动轴，其安置于直通通道中且在一端处连接到防振垫；以及第一驱动马达，其经配置以相对于平行于第一表面的方向而在辐射方向中的至少一者上来回移动驱动轴。
[0020]防振垫可包含:主体，所述主体具有与形成于其中的进气通道连通的内部通道；进气孔，其经配置以使主体的外侧与内部通道互相连通；以及连通孔，其经配置以使内部通道与进气管互相连通。
[0021]主体可包含形成于其底部中的突起，且所述突起可向下伸出，具有其中形成有连通孔的尖端，并且被插入到进气管中。
[0022]振动模块可包含:支撑部分，其提供于基底的外部且经安置以包围衬底的边缘；以及第二驱动马达，其经配置以移动支撑部分。
[0023]支撑部分可包含:支撑部件，其经配置以支撑衬底；以及支撑轴，其连接到支撑部件以根据第二驱动马达的驱动而来回移动。
[0024]根据另一个示例性实施例，一种衬底处理设备包含:腔室，所述腔室形成在其中处理衬底的内部空间；衬底支撑平台，其经配置以提升和振动衬底；以及光照射单元，其经配置以在垂直于衬底的携载方向的方向上用光来执行照射。
[0025]衬底支撑平台可包含基底、提升模块和振动模块。
[0026]提升模块可包含:一个或一个以上排放管，其在基底的内部形成通道、在一端处与排放孔连通且在另一端处彼此连通；以及气体供应器，其连接到排放管以将气体供应到通道。提升模块可包含供应管线，所述供应管线在一端处与排放管的另一端连接且在另一端处与气体供应器连接以形成路线，从而经由所述路线来传递从气体供应器供应的气体。
[0027]振动产生器可包含:进气部分，其至少部分安置于基底中且包含通过第一表面而打开的一对进气管；振动器，其定位于所述对进气管之间且提供于经形成穿过基底的直通通道中；以及防振垫，其经安置以覆盖进气部分和振动器的顶部且通过振动器而移动。
[0028]振动模块可包含:支撑部分，其提供于基底的外部且经安置以支撑衬底的侧表面的一部分；以及第二驱动马达，其经配置以在垂直方向和水平方向上来回移动支撑部分。
[0029]激光照射单元可包含激光产生单元，所述激光产生单元经配置以用激光束来执行照射。激光产生单元可包含:激光源，其经配置以使激光束振荡；光学系统，其经配置以处理通过激光源而振荡的激光束的形状和能量分布；反射镜，其经配置以将经处理的激光束的至少一部分反射到衬底；以及衬底照射透镜系统，其经配置以聚集从反射镜反射到衬底上的激光束。
[0030]根据又另一个示例性实施例，一种衬底处理方法包含:将用光照射的衬底提供到衬底支撑平台上；提升衬底；将振动施加到衬底；以及当在一个方向上移动衬底支撑平台时执行照射。
[0031 ] 振动的施加可包含以非接触抑或接触方式使衬底在垂直方向或水平方向上振动。水平方向可包含与衬底支撑平台的顶部平行的辐射方向，并且可根据衬底的大小和厚度从非接触方式和接触方式当中来选择一种方式。
[0032]可通过改变在衬底与衬底支撑平台之间的间隙中的气流来执行以非接触方式施加振动。
[0033]可通过反复地增加或减小在相反方向上施加到衬底的提升力和吸力以在垂直上来回移动衬底来执行在垂直方向上施加振动。
[0034]可通过向衬底的一部分产生吸力并在水平方向上来回移动其中产生有吸力的防振垫以在水平方向上来回移动施加有吸力的气体来执行在水平方向上施加振动。
[0035]可通过使其中产生有吸力的防振垫接触与用光照射的衬底的第一表面相对的第二表面且在垂直方向和水平方向上来回移动防振垫来执行以接触方式施加振动。
[0036]在水平方向上施加振动的过程中，吸力可具有相对低于提升衬底的提升力的压力值。
[0037]在垂直方向上施加振动的过程中，每当衬底在垂直方向上移动时，可增加或减小提升力使得衬底具有与防振垫相同的高度。
[0038]可通过使振动模块接触衬底的没有用光照射的非照射区域且通过振动模块的来回移动操作而改变衬底的位置来执行以接触方式施加振动。
[0039]用光来执行照射可包含用激光束照射具有形成于其中的非晶形半导体膜的衬底，且在用光执行照射之后，衬底处理方法可进一步包含:停止衬底的提升和振动且将衬底安放于衬底支撑平台上；以及卸载衬底。
【附图说明】
[0040]可从结合附图进行的以下描述来更详细地理解示例性实施例。
[0041]图la与图lb是示意性地说明一般衬底处理设备和与斑相关联的要素的视图。
[0042]图2a与图2b是说明根据示例性实施例的衬底处理设备的视图。
[0043]图3a与图3b是绘示根据示例性实施例的衬底支撑平台的透视图和其一部分的平面图。
[0044]图4a至图4c是说明被包含于图3a与图3b的衬底支撑平台中的提升模块的视图。
[0045]图5a与图5b是说明被提供到图3a与图3b的衬底支撑平台的振动模块的视图。
[0046]图6a至图6c是说明图5a与图5b的驱动轴的移动方向和振动产生器的相对应的操作状态的视图。
[0047]图7a至图7c是绘示根据示例性实施例的被提供到衬底支撑平台的振动模块的视图。
[0048]图8a至图8c是说明根据图7a至图7c的振动模块的操作的衬底振动状态的视图。
[0049]图9是依序说明根据示例性实施例的使用衬底支撑平台的衬底处理方法和包含衬底支撑平台的衬底处理设备的流程图。
[0050]图10a至图10e是示意性地说明衬底处理设备按图9的衬底处理方法的次序的操作状态的视图。
【具体实施方式】
[0051 ] 在详细描述示