专利名称：光刻双面薄膜的装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型属于半导体器件平面光刻工艺领域，特别是涉及一种用于双面光刻的工具制造技术领域。
以往单面膜的光刻工艺，不涉及保护另外一面的问题，因此它的光刻架结构仅有一个匀胶机片托，如
图1光刻单面薄膜装置结构示意图所示。凭借片托上的吸片孔可将样品吸住，用以保证样品在跟随匀胶机片托高速旋转时不至脱落。样品放在匀胶机片托上，镀膜的一面向上，经过匀胶、坚膜、光刻、显影、腐蚀、去胶一系列过程，即可光刻成功。而光刻双面膜则不同，不但要保护好正反两面薄膜，而且必须保证坚膜均匀，这样才能保证两面同时进行一次性腐蚀与显影后光刻的质量。若按照以往光刻单面膜的方法光刻，将双面薄膜样品放在如图1所示的匀胶机片托上，则只能坚膜向上的一面薄膜，另一面向下的薄膜会由于吸片孔的吸气作用与匀胶机片托紧密接触而遭到破坏，这就更谈不到对第二面的保护作用。所以，以往的光刻单面薄膜方法对光刻双面薄膜来说很不适合，会造成极大的浪费。即使吸气作用对薄膜造成的破坏不大，我们先将一面匀胶坚膜保护起来后，再将样品翻转，将另一面匀胶、坚膜后光刻，这样虽然可保护两面薄膜，但由于不是同时坚膜，两面的感光胶膜的厚度和均匀性的控制又变得十分困难，这样又会给腐蚀和显影带来极大的难题，使腐蚀和显影的时间不易掌握，成功率低，条件重复性差，不能保证光刻质量。通过大量的实验证明，上述两种方法都不适用于光刻双面薄膜，特别是同时光刻双面薄膜就更不可能了。参见1.《光刻》，上海无线电十七厂，上海人民出版社；1971.10。
2.《扩散》，上海无线电十九厂，上海人民出版社；1971.10。
3.《光刻机使用说明书》，电子工业部第十三研究所。
4.《KW-IV型匀胶机使用说明书》，中国科学院微电子中心；1990.7。
本实用新型的目的在于克服上述已有技术的缺点，为了保证制备双面膜时胶膜厚度的均匀性和避免对薄膜造成机械创伤，从而提供一种由匀胶机片托和台阶型样品光刻架组成的，制备光刻双面薄膜的装置。
本实用新型是这样完成的台阶型样品光刻架依靠螺钉通过两端的固定槽与匀胶机片托紧密固定，将薄膜样品平放在台阶型样品光刻架上，即可进行匀胶、光刻。
本实用新型的优点是将样品架设计成特殊的台阶型结构，解决了半导体器件平面工艺领域内不容易同时光刻双面薄膜的难题，使得光刻后膜质均匀，线条清晰，为薄膜微波器件的研制打下了良好的基础，它结构简单，使用方便，与光刻单面薄膜的方法相比较，节省了大量的时间及人力，且易于加工，适用于各种双面薄膜的光刻制备工艺。
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细地描述图1是光刻单面薄膜装置结构示意图；图2是光刻双面薄膜装置结构示意图；图3是在薄膜样品两面刻蚀的30μm宽的微桥。
图面说明如下其中(1)是匀胶机片托，它可以带动样品光刻架高速旋转，使感光胶均匀、紧密地粘合在薄膜表面，这对几微米至几十微米大小的图形的光刻制作是十分必要的。(2)是样品光刻架，可与匀胶机片托配套使用。与图1中的匀胶机片托略有不同的是，我们去掉了图1中匀胶机片托上吸片孔的作用，而在左右两端增加了两个固定槽，见图2中(5)。通过两端的固定槽，用螺钉将匀胶机片托及光刻架扭紧、固定，以保证匀胶机带动片托高速旋转时，光刻架与片托同步运转。光刻架两端的台阶型设计，见图2中(3)，可将双面膜样品两边架起，这就解决了两面不能同时甩胶的关键性难题，使得半导体器件平面工艺领域内的光刻双面膜的工艺技术前进了一大步。光刻架两端还有两个小的样品固定片，见图2中(4)，当薄膜样品平架在台阶上后，将两端的固定片用螺钉旋紧，使样品固定片分别压住样品两端，从而保证在样品光刻架带动样品高速旋转时样品不致飞出，损坏样品。与我们研究和制备的薄膜样品相配，样品光刻架分别有10×15mm2，20×20mm2，30×30mm2三种尺寸。
本实用新型的用法极为简单先将匀胶机片托安装在匀胶机上，再将样品光刻架安装在匀胶机片托上，螺钉穿过两端的样品固定片插入固定槽中，将样品平放在样品光刻架两端的台阶上，均匀滴上感光胶后将样品翻转，再将另一面均匀滴胶，迅速将样品固定片旋转至样品上方，将固定槽内的螺钉拧紧。这样既可将样品光刻架与匀胶机片托紧密固定，又可利用样品固定片将样品压紧，两种固定方法同时进行，操作简便，节省时间，提高匀胶质量。然后打开匀胶机匀胶，后经烘烤坚膜、双面光刻、碱溶液显影、酸溶液腐蚀、丙酮去胶多重步骤，双面膜的光刻工艺一个流程就完成了。通过多次实验证明，用此种方法光刻制备出的薄膜，线条清晰，图形完整，重复性好。实施例1利用本实用新型光刻双面钇钡铜氧超导薄膜。本实用新型是由匀胶机片托1、台阶型样品光刻架2，3、样品固定片4，三者利用螺钉通过固定槽5固定完成的，尺寸为10×15mm2，匀胶机片托1及样品光刻架2，3的制作材料为铝材。先将匀胶机片托放入KW-IV型匀胶机中，再将尺寸为10×15mm2的样品光刻架2安装在匀胶机片托1上。将样品平放在样品光刻架2两端的台阶上，均匀滴上感光胶后将样品翻转，再将另一面均匀滴胶，在短时间内用螺钉通过固定槽及样品固定片将样品光刻架及样品固定，打开匀胶机进行甩胶。然后，在70℃条件下，经25分钟烘烤坚膜，使得样品正反两面的薄膜表面都紧密附着一层坚硬的感光胶膜，利用JB-IV型光刻机先对第一面光刻，由于另一面薄膜表面已经附着上一层坚膜，所以不会损伤薄膜。这样，当光刻完一面后，还可以继续光刻另一面。当两面光刻好后，就可一次性同时利用碱溶液显影、酸溶液腐蚀、丙酮去胶。从显微镜下观察，薄膜表面光刻后的线条清晰，我们所需的图形及30μm宽的微桥全部刻出(如图3所示)图形完整流畅，且双面质量相同。经过多次实验证明，此方法已获成功，且操作简单方便，重复性好。实施例2利用本实用新型光刻双面YBCO超导薄膜。本实用新型是由匀胶机片托1、台阶型样品光刻架2，3、样品固定片4，三者利用螺钉通过固定槽5固定完成的，样品光刻架尺寸为30×30mm2，匀胶机片托1及样品光刻架2，3的制作材料为黄铜。实施例3利用本实用新型光刻双面Ag薄膜。本实用新型是由匀胶机片托1、台阶型样品光刻架2，3、样品固定片4，三者利用螺钉通过固定槽固定完成的，样品光刻架尺寸为10×15mm2，匀胶机片托1及样品光刻架2，3的制作材料为不锈钢。先将匀胶机片托放入KW-IV型匀胶机中，再将尺寸为10×15mm2的样品光刻架安装在匀胶机片托上，将样品平放在样品光刻架两端的台阶上，均匀滴上感光胶后将样品翻转，再将另一面均匀滴胶，在短时间内用螺钉通过固定槽及样品固定片将样品光刻架及样品固定，打开匀胶机进行甩胶即可。
权利要求1.一种由匀胶机片托1、样品光刻架2组成的光刻双面薄膜的装置，其特征在于把样品光刻架2内圆做出一个台阶3，在样品光刻架2两端各开一个固定槽5，用螺钉及样品固定片4把带台阶的样品光刻架2与匀胶机片托1固定。
2.按权利要求1所述的光刻双面薄膜的装置，其特征在于所用材料是不锈钢、黄铜、有机玻璃、合金铝。
专利摘要本实用新型属于半导体器件平面光刻工艺领域,特别是涉及用于双面光刻的工具制造技术领域。本实用新型为了保证制备双面膜的感光胶厚度的均匀性和避免对膜造成的机械损伤,从而提供一种由匀胶机片托和台阶型样品光刻架,通过光刻架两端的固定槽用螺钉把匀胶机片托与样品光刻架固定住的装置。本实用新型结构简单,使用方便,易于加工。利用本实用新型制备双面薄膜,其胶膜厚度均匀,同时可避免对双面膜的机械损伤。
文档编号H01L21/00GK2275283SQ96207860
公开日1998年2月25日 申请日期1996年4月16日 优先权日1996年4月16日
发明者何萌, 吕惠宾, 周岳亮, 陈正豪, 崔大复 申请人:中国科学院物理研究所