有机发光二极管显示器的制造方法及等离子工艺方法
【专利摘要】公开有机发光二极管显示器的制造方法及等离子体工艺方法。所述有机发光二极管（OLED）显示器的制造方法包括：制造母基板，该母基板包括对于各个像素形成有多个阳极的多个面板以及连接到面板的各个阳极的测试焊盘。该方法进一步包括将母基板加载到等离子体室中，并对母基板的测试焊盘施加等离子体电压，以进行等离子体表面处理工艺。对于各个像素，测试焊盘被施加不同的等离子体电压。
【专利说明】有机发光二极管显示器的制造方法及等离子工艺方法
【技术领域】
[0001]本公开的示例性实施例涉及有机发光二极管(OLED)显示器的制造方法以及在包括多个像素的母基板上执行等离子体工艺的方法。
【背景技术】
[0002]有机发光二极管显示器包括两个电极和插在两个电极之间的有机发光层。来自一个电极(例如阴极)的电子可以和来自另一电极(例如阳极)的空穴在有机发光层中结合，从而形成激子。由于这种结合，当激子释放能量时就可发光。
[0003]有机发光二极管(OLED)显示器的阳极由例如ITO (氧化铟锡)或IZO (氧化铟锌)之类的透明材料形成。在形成阳极之后可以对阳极进行清洁，然后可以用氧(O2)等离子体表面处理工艺进行处理。氧等离子体表面处理工艺降低阳极的功函数，以增加空穴注入量并在阳极移除剩余层，从而提高驱动性能(例如驱动电压)、电压-电流密度曲线、发光效率和寿命。
[0004]然而，现有的氧等离子体表面处理工艺并不根据颜色区分像素。等离子体工艺可以在形成有阳极的整个母基板上进行，但是不能对于各种颜色的像素控制阳极的表面特性，例如空穴注入量。结果，可不能控制对于每种颜色的像素优化表面特性。
[0005]在此【背景技术】部分公开的上述信息只是用于增加对所公开主题的背景的理解，因此可能包含并不构成本领域普通技术人员已经知晓的现有技术的信息。
【发明内容】
[0006]本公开的示例性实施例提供一种有机发光二极管(OLED)显示器的制造方法，通过对于红像素、绿像素和蓝像素不同地使用氧等离子体进行表面处理工艺，使得对于各个像素具有优化的驱动性能，以及在包括多个像素的母基板上执行等离子体工艺的方法。
[0007]本公开的另外特征将在随后的描述中提出，并从描述中部分地变得明显，或者可以通过实践所公开主题而得到。
[0008]本公开的示例性实施例公开了一种有机发光二极管(OLED)显示器的制造方法。该方法包括形成母基板，该母基板包括多个面板，每个面板形成有多个阳极，每个阳极对应于所述多个像素之一，以及连接到面板的各个阳极的测试焊盘；并对测试焊盘施加等离子体电压，以执行等离子体表面处理工艺。对测试焊盘施加等离子体电压包括对于所述多个像素中的第一像素施加第一等离子体电压和对于所述多个像素中的第二像素施加第二等离子体电压。
[0009]本公开的示例性实施例还公开了一种在包括多个像素的母基板上执行等离子体工艺的方法。该方法包括经由母基板的测试焊盘，对和第一颜色相关联的第一像素、和第二颜色相关联的第二像素、和第三颜色相关联的第三像素中的一个施加第一电压，并经由测试焊盘，对第一像素、第二像素和第三像素中的另外一个施加第二电压，第二电压不同于第一电压。
[0010]可以理解前述总的说明和后述详细说明是示例性和解释性的，用来对所要求权利的所公开主题提供进一步解释。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]被包括以提供对所公开主题的进一步理解并包含在申请文件中同时构成申请文件一部分的附图示出了所公开主题的示例性实施例，并和说明书一起用来解释所公开主题的原理。
[0012]图1是根据本公开示例性实施例的有机发光二极管(OLED)显示器的制造方法的流程图。
[0013]图2是根据本公开示例性实施例的母基板的俯视图。
[0014]图3是根据本公开示例性实施例的向母基板施加等离子体电压的状态的视图。
[0015]图4是根据本公开示例性实施例的有机发光二极管(OLED)显示器的等效电路。
【具体实施方式】
[0016]下面参考附图更充分地描述所公开主题的示例性实施例。然而，所公开主题可以通过多种不同形式实施，不应当被解释为局限于这里提出的示例性实施例。相反，提供示例性实施例的目的在于使得公开充分和完整，并且可以对本领域技术人员表达所公开主题的范围。在图中，为了清楚起见，可能对层和区域的尺寸和相对尺寸进行了放大。图中相似的附图标记代表相似的元件。
[0017]可以理解当元件或层被提及为在另一元件或层“上”，或者“连接到”、“联接到”另一元件或层时，它可以是直接在另一元件或层上，或者直接连接或直接联接到另一元件或层，也可以存在中间元件或中间层。相反，当元件或层被提及为“直接”在另一元件或层“上”，或者“直接连接到”、“直接联接到”另一元件或层时，则不存在中间元件或中间层。如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关联的列出项目的任意和所有组合。还应当理解出于本公开的目的，“X、Y和Z中至少一个”可以被解释为只有X、只有Y、只有Y，或者X、Y和Z中两项或更多项的任意组合(例如ΧΥΖ、ΧΥ、ΥΖ、ΧΖ)。
[0018]可以理解，尽管这里可以用术语第一、第二、第三等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，这些元件、组件、区域、层和/或部分并不受这些术语限制。这些术语仅仅用来区别一个元件、组件、区域、层或部分和另一个元件、组件、区域、层或部分。因此，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层或部分，而不会背离本发明的教导。
[0019]这里使用的用辞仅仅用于描述示例性实施例，并不用来限制所公开主题。如这里所使用的，单数形式的“一”和“该”也包括复数形式，除非上下文做了清楚的相反指示。可以进一步理解术语“包括”在本申请文件中使用时表明存在所说的特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但并不排除存在或增加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0020]这里将参考作为所公开主题的理想化实施例(和中间结构)的示意性例示的截面例示来描述所公开主题的示例性实施例。如此，可以预期由于例如制造技术和/或公差得到的例示的形状的变化。因此，所公开主题的示例性实施例不应当被解释为限制于这里例示的区域的特定形状，而是应当包括由例如制造得到的形状偏差。
[0021]下面将参考附图详细描述所公开主题的示例性实施例。将参考图1、图2和图3描述根据示例性实施例的有机发光二极管(OLED)显示器。
[0022]如图1和图2所示，在根据示例性实施例的有机发光二极管(OLED)显示器的制造方法中，可以制造具有测试焊盘19的母基板I (S100)。
[0023]母基板I可包括形成有多个阳极191的多个面板18、连接到面板18的各个阳极191的测试焊盘19以及连接阳极191和测试焊盘19的连接线20。总地来说，多个面板18可以形成在母基板I的中心部分P处，测试焊盘19可以形成在母基板I的边缘部分Q处。然而，应当理解，面板18和测试焊盘19可以形成在母基板I的任何适当的部分中。
[0024]面板18在母基板I上被形成为彼此分离，并且在有机发光二极管(OLED)显示器的最终完成步骤中从母基板I分离。为了避免不必要地使图难以理解，在图2中没有示出在使面板18彼此分离中使用的水平和垂直切割线。此外，尽管每个面板18上只示出有三个阳极191，但应当理解，根据面板的分辨率，每个面板18包括数千或数百万的阳极191。
[0025]阳极191可以由例如ITO (氧化铟锡)或IZO (氧化铟锌)之类的透明材料形成。在阳极191下可以形成开关薄膜晶体管Tl和驱动薄膜晶体管T2，并且可以使用这些晶体管Tl和T2向阳极191施加驱动电压。
[0026]测试焊盘19可以包括分别连接到红像素(R)、绿像素(G)、蓝像素(B)的红测试焊盘19R、绿测试焊盘19G、蓝测试焊盘19B。连接线20可以包括通过阳极191R将红像素(R)连接到红测试焊盘19R的红连接线20R、通过阳极191G将绿像素(G)连接到绿测试焊盘19G的绿连接线20G、通过阳极191B将蓝像素(B)连接到蓝测试焊盘19B的蓝连接线20B。尽管每个面板18只示出有三个像素的阳极191，但本领域普通技术人员理解，每个面板18上的所有红像素可以通过红连接线20R连接到对应的红测试焊盘19R，每个面板18上的所有绿像素可以通过绿连接线20G连接到对应的绿测试焊盘19G，每个面板18上的所有蓝像素可以通过蓝连接线20B连接到对应的蓝测试焊盘19B。
[0027]测试焊盘19可以施加测试电压，以对母基板I进行测试，并且可以用来施加用于等离子体表面处理的等离子体电压。
[0028]接下来，如图1和图3所示，可以将制造好的母基板I插入到在其中进行氧等离子体工艺的等离子体室10中(S200)。可以使用任何适当的传送单元将母基板I加载到等离子体室10中。然后，对母基板I的测试焊盘19施加等离子体电压，以进行氧等离子体表面处理工艺(S300)。探针30可以接触母基板I的测试焊盘19，以施加等离子体电压。氧等离子体表面处理工艺具有通过使用负氧离子向阳极191的表面提供亲水性，以及降低功函数的作用。
[0029]在向测试焊盘19施加等离子体电压的过程中，对于各个像素可以向测试焊盘19施加不同的等离子体电压。例如，可对红测试焊盘19R、绿测试焊盘19G和蓝测试焊盘19B中的每一个施加不同的等离子体电压。在这种情况下，可对红像素(R)、绿像素(G)和蓝像素(B)施加不同的电压，使得对于每种颜色的像素，由负氧离子蚀刻的表面的程度不同。
[0030]例如，当蓝像素(B)相比不同颜色的像素具有大空穴注入量从而发光效率低时，在等离子体表面处理工艺过程中可以对蓝测试焊盘19B施加相比施加到红测试焊盘19R和绿测试焊盘19G的电压更低的电压，从而蓝像素(B)被负氧离子蚀刻得更少。因此，蓝像素(B)中功函数的降低幅度(reduct1n width)小于红像素(R)和绿像素(G)的降低幅度，并且空穴注入量减少，使得和电子注入量的平衡得到调整，从而提高发光效率。
[0031]相反，当蓝像素(B)相比不同颜色的像素具有小空穴注入量从而发光效率低时，在等离子体表面处理工艺过程中可以对蓝测试焊盘19B施加相比施加到红测试焊盘19R和绿测试焊盘19G的电压更高的电压，从而蓝像素(B)被负氧离子蚀刻得更多。因此，蓝像素(B)中功函数的降低幅度大于红像素(R)和绿像素(G)的降低幅度，并且空穴注入量增加，使得和电子注入量的平衡得到调整，从而提高发光效率。
[0032]可以使用用来测量空穴注入量或电子注入量的单空穴器件(HOD)或单电子器件(EOD)来确定施加到每个像素的等离子体电压。
[0033]如上所述，通过对各种颜色的像素向母基板I的测试焊盘19施加不同的等离子体电压，等离子体表面处理对于各个颜色的像素是不同的，使得阳极191的功函数对于各个颜色的像素可以是不同的。因此，通过对于各个颜色的像素不同地控制空穴注入量，可以对于各个颜色的像素优化驱动性能(例如驱动电压)、发光效率和寿命。
[0034]接下来，可以切掉形成有测试焊盘19的边缘部分Q。因此，可以防止外部静电流入，并使得有机发光二极管(OLED)显示器的面积最小化。
[0035]图4是根据示例性实施例的有机发光二极管(OLED)显示器中像素PX的等效电路。
[0036]如图4所示，有机发光二极管(OLED)显示器中像素PX可以包括多条信号线121、171和172。该像素PX可以作为OLED显示器中以大体矩阵形式排列的多个像素PX的代表。
[0037]信号线可以包括用来传送扫描信号(或者栅信号)的多条扫描线121、用来传送数据信号的多条数据线171以及用来传送驱动电压ELVDD的多条驱动电压线172。扫描线121在行方向上彼此平行行进，数据线171和驱动电压线172在列方向上彼此平行行进。每个像素PX包括开关薄膜晶体管Tl、驱动薄膜晶体管T2、存储电容器Cst和有机发光二极管(0LED)。
[0038]开关薄膜晶体管Tl具有控制端、输入端和输出端。控制端连接到扫描线121，输入端连接到数据线171，输出端连接到驱动薄膜晶体管T2的控制端。开关薄膜晶体管Tl响应于施加到扫描线121的扫描信号，将施加到数据线171的数据信号传送到驱动薄膜晶体管T2。
[0039]驱动薄膜晶体管T2也具有控制端、输入端和输出端。控制端连接到开关薄膜晶体管Tl，输入端连接到驱动电压线172，输出端连接到有机发光二极管0LED。驱动薄膜晶体管T2使输出电流Id流动，输出电流Id的幅度根据在控制端和输出端之间施加的电压而不同。
[0040]存储电容器Cst连接在驱动薄膜晶体管T2的控制端和输入端之间。存储电容器Cst充入施加到驱动薄膜晶体管T2的控制端的数据信号，并在开关薄膜晶体管Tl关断后维持该数据信号。
[0041]有机发光二极管OLED具有连接到驱动薄膜晶体管T2的输出端的阳极和连接到共用电压ELVSS的阴极。有机发光二极管OLED通过根据驱动薄膜晶体管T2的输出电流Id而发射不同强度的光从而显示图像。
[0042]开关薄膜晶体管Tl和驱动薄膜晶体管T2可以是η沟道场效应晶体管(FET)或者P沟道场效应晶体管。薄膜晶体管Tl和Τ2、存储电容器Cst和有机发光二极管OLED之间的连接关系可以变化。
[0043]对于本领域技术人员来说很明显，可以对本发明进行各种修改和变化，而不背离所公开主题的精神或范围。因此，应当认为本发明覆盖了所公开主题的修改和变化，只要它们落在所附权利要求及其等效权利要求的范围内。
【权利要求】
1.一种有机发光二极管显示器的制造方法，包括: 形成母基板，该母基板包括: 多个面板，每个面板形成有多个阳极，每个阳极对应于多个像素之一；和 连接到所述面板的各个阳极的测试焊盘；和 对所述测试焊盘施加等离子体电压，以进行等离子体表面处理工艺， 其中对所述测试焊盘施加等离子体电压包括对于所述多个像素中的第一像素施加第一等离子体电压和对于所述多个像素中的第二像素施加第二等离子体电压，并且其中所述第一等离子体电压不同于所述第二等离子体电压。
2.如权利要求1所述的方法，其中: 所述测试焊盘包括连接到所述多个像素中的红像素的红测试焊盘、连接到所述多个像素中的绿像素的绿测试焊盘和连接到所述多个像素中的蓝像素的蓝测试焊盘；并且 所述红测试焊盘、所述绿测试焊盘和所述蓝测试焊盘中的一个被施加以所述第一等离子体电压，所述红测试焊盘、所述绿测试焊盘和所述蓝测试焊盘中另外一个被施加以所述第二等离子体电压。
3.如权利要求1所述的方法，其中形成所述母基板包括: 在每个面板中形成所述多个阳极；和 在所述母基板的边缘部分处形成所述测试焊盘。
4.如权利要求3所述的方法，其中施加等离子体电压包括: 通过探针向所述测试焊盘施加等离子体电压。
5.如权利要求3所述的方法，进一步包括: 切去所述母基板的所述边缘部分。
6.一种在包括多个像素的母基板上执行等离子体工艺的方法，该方法包括: 经由所述母基板的测试焊盘，对和第一颜色相关联的第一像素、和第二颜色相关联的第二像素、和第三颜色相关联的第三像素中的一个施加第一电压；和 经由所述测试焊盘，对所述第一像素、所述第二像素和所述第三像素中的另外一个施加第二电压，其中所述第二电压不同于所述第一电压。
7.如权利要求6所述的方法，进一步包括: 形成包括所述测试焊盘和多个面板的所述母基板，所述面板的每一个包括多个阳极，所述多个阳极包括第一阳极、第二阳极和第三阳极， 其中所述第一阳极被设置在所述第一像素中，所述第二阳极被设置在所述第二像素中，所述第三阳极被设置在所述第三像素中。
8.如权利要求7所述的方法，其中形成所述母基板包括形成用于将所述测试焊盘连接到所述多个阳极的连接线，并且 其中经由所述连接线施加所述第一电压和所述第二电压。
9.如权利要求7所述的方法，其中所述测试焊盘包括第一测试焊盘、第二测试焊盘和第三测试焊盘，并且 其中所述第一测试焊盘经由所述第一电极联接到所述第一像素，所述第二测试焊盘经由所述第二电极联接到所述第二像素，所述第三测试焊盘经由所述第三电极联接到所述第二像素。
10.如权利要求6所述的方法，其中所述第一颜色包括红色，所述第二颜色包括绿色，所述第三颜色包括蓝色。
【文档编号】H01L21/66GK104134759SQ201310498653
【公开日】2014年11月5日 申请日期:2013年10月22日 优先权日:2013年5月2日
【发明者】李宰瑛 申请人:三星显示有限公司