显示装置制造方法
【专利摘要】根据本发明的实施例的显示装置包括：基板；发光器件层，形成在所述基板上，并且具有发光器件；封装薄膜层，形成在所述基板和所述发光器件层上，并且封装所述发光器件层；缓冲膜，形成在所述封装薄膜层上，并且粘接在所述封装薄膜层；以及光学膜，形成在所述缓冲膜上，并且粘接在所述缓冲膜。
【专利说明】显示装置【技术领域】
[0001]本发明涉及显示装置，具体涉及在光学膜和封装薄膜层之间设置有缓冲膜(buffer film)的显示装置。
【背景技术】
[0002]目前广为人知的显示装置有:液晶显示装置(liquid crystal display,简称为IXD)、等离子显不装置(plasma display panel,简称为Η)Ρ)、有机发光显不装置(organiclight emitting diode device,简称为 OLED device)、场效应显不装置(field effectdisplay,简称为 FED)、电泳显不装置(electrophoretic display device),等等。
[0003]通常，上述的显示装置包括:具有发光器件层的基底基板；以及用于覆盖基板的玻璃(glass)封装基板。基底基板和封装基板通过密封剂(sealant)而得以附着。在封装基板上层叠偏光板(polarizer)等光学膜之后,如果在光学膜上存在异物、划痕(scratch)或者在封装基板上存在异物、虚空部等，则需要摘除光学膜并将其废弃，清洗封装基板的表面，并且附着光学膜。此时，仅存在光学膜的废弃成本，而包括封装基板的显示装置还可用作产品，从而可以降低成本。由于为了在边缘处粘接封装基板和基底基板而使用密封剂、并且密封剂的粘接力较为优异，因此可以防止当摘除光学膜时出现的封装基板缺损的现象。
[0004]最近，与通过玻璃进行封装的现有显示装置不同，为了保证室外可视性等光学特性，通过采用薄膜玻璃或采用有机物的沉积或贴合方式的薄膜封装(thin filmencapsulation,简称为TFE)对基板进行封装,并在封装薄膜层上粘接光学膜。此时，当在光学膜上存在异物、划痕或者在封装薄膜层存在异物、空虚部等时，为了实施返工(rework)而摘除光学膜，则基板上的发光器件层也会与封装薄膜层一同被剥离掉。在发光器件层也一同被剥离掉的结构中会发生不发光现象或者驱动不良现象，因此不仅要废弃光学膜，而且显示装置本身也要废弃，从而导致时间和经济损失，因此会降低产率。
【发明内容】
[0005]为了解决如上所述的技术问题，本发明的实施例提供了一种显示装置，通过在光学膜和封装薄膜层之间设置缓冲膜，从而防止在为了返工而摘除光学膜时发光器件层与封装薄膜层一同被剥离掉的现象，从而可以有效地提高产率。
[0006]根据本发明的实施例，显示装置包括:基板；发光器件层，形成在所述基板上，并且具有发光器件；封装薄膜层，形成在所述基板和所述发光器件层上，并且用于封装所述发光器件层；缓冲膜，形成在所述封装薄膜层上，并且粘接在所述封装薄膜层；以及光学膜，形成在所述缓冲膜上，并且粘接在所述缓冲膜。
[0007]所述光学膜可以是偏光膜(polarizer)。
[0008]所述光学膜可以是用于阻断紫外线的补偿膜。
[0009]所述缓冲膜的上表面全面地粘接在所述光学膜，所述缓冲膜的下表面可以粘接在所述封装薄膜层的边缘部分。[0010]所述缓冲膜的上表面粘接在所述光学膜的边缘部分，所述缓冲膜的下表面可以粘接在所述封装薄膜层的边缘部分。
[0011]所述缓冲膜形成为具有在中心部形成有开口的边缘部分的形状，所述缓冲膜的上表面和下表面可以分别粘接在所述光学膜和所述封装薄膜层的边缘部分。
[0012]所述缓冲膜和所述光学膜之间的粘接力可以小于所述缓冲膜和所述封装薄膜层之间的粘接力。
[0013]所述缓冲膜和所述光学膜之间的粘接力可以大于所述缓冲膜和所述封装薄膜层之间的粘接力。
[0014]所述缓冲膜可以是光学间隙粘合剂(optical clearance adhesive)或者是功能性膜，所述功能性膜用于使得水分(H2O)和氧(O2)不易于渗透至所述封装薄膜层。
[0015]在根据本发明的实施例的显示装置中，所述发光器件层可以包括有机发光器件。
[0016]根据本发明的实施例，通过在显示装置上设置缓冲膜，从而防止了在摘除光学膜时发光器件层被剥离掉的现象，由此可以提高工作效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1是表示根据本发明第一实施例的包括缓冲膜的显示装置中进行返工过程的示意图。
[0018]图2是表示根据本发明第一实施例的包括缓冲膜的显示装置的结构的立体图。
[0019]图3a是表示根据本发明第一实施例的缓冲膜的上表面的平面图。
[0020]图3b是表示根据本发明第一实施例的缓冲膜的下表面的平面图。
[0021]图4是表示根据本发明第二实施例的包括缓冲膜的显示装置的结构的立体图。
[0022]图5是表示根据本发明第二实施例的缓冲膜的平面图。
[0023]图6是表示根据本发明第三实施例的、包括缓冲膜的显示装置的结构的立体图。
[0024]图7是表示根据本发明第三实施例的缓冲膜的平面图。
[0025]附图标记说明
[0026]101,201,301:基板；102、202、302:发光器件层；
[0027]103,203,303:封装薄膜层；
[0028]104、104，、204、304:缓冲膜；
[0029]105、105’ ,205,305:光学膜； M:异物；
[0030]R:裂纹；A:粘接区域；
[0031]B:非粘接区域；O:开口。
【具体实施方式】
[0032]下面，参考附图详细说明本发明的实施例，使得本发明所属【技术领域】的技术人员能够简单地实施本发明。本发明能够以多种不同方式实施，而并不仅限于在此说明的实施例。
[0033]另外，在多个实施例中，对于具有相同构成的组成要素使用相同的附图标记，并在第一实施例中进行代表性说明，而在其他实施例中仅说明区别于第一实施例的组成。
[0034]在此要声明，附图简要地图示本发明，其并没有按照缩放比例图示本发明。为了清楚地表示附图以及便于说明而夸张图示或缩小图示在附图中表示的各个组成的相对尺寸和比例。任意的尺寸仅是示例性的，因而本发明并不限于附图所示的情况。另外，为了表示类似的特征，对于在两幅附图中出现的相同的结构物、组成要素或者部件使用了相同的附图标记。若描述为某一部分在另一部分“…上”时，某一部分可以在“紧挨”另一部分的“上面”，或者其之间还可以有其它部分。
[0035]本发明的实施例具体表示本发明的理想实施例。从而，可以预计对附图的理解有多种变形。由此，实施例并不限于附图所示的领域的特定方式，例如还包括根据制造引发的形状变化。
[0036]下面，参考图1至图3b说明根据本发明第一实施例的显示装置。图1是表示根据本发明第一实施例的包括缓冲膜的显示装置中进行返工过程的示意图，图2是表示根据本发明第一实施例的显示装置的结构的立体图。图3a和图3b分别是表示根据本发明第一实施例的缓冲膜的上表面和下表面的平面图。
[0037]如图1和图2所示，根据本发明第一实施例的显示装置包括:基板101、发光器件层102、封装薄膜层103、缓冲膜104以及光学膜105。在基板101上形成有包括发光器件的发光器件层102。封装薄膜层103形成在基板101和发光器件层102上，以从上部封装发光器件层102。缓冲膜104形成在封装薄膜层103上，缓冲膜104的下表面和封装薄膜层103的上表面互相粘接。光学膜105形成在缓冲膜104上，并且缓冲膜104的上表面和光学膜105的下表面互相粘接。所述发光器件层102可以是包括有机发光器件的有机发光层。
[0038]如图3a和图3b所示，在光学膜105形成于显示装置的最上部的结构中，当光学膜105的上表面因存在异物M或裂 纹R等缺陷的情况下为了返工而摘除光学膜105时，如果粘接在光学膜105的下表面的缓冲膜104更紧固地粘接在光学膜105上，则光学膜105与缓冲膜104 —同被剥离掉。然后，在封装薄膜层103上粘接新的缓冲膜104'，并清洗缓冲膜104。清洗缓冲膜104后，在缓冲膜104'上粘接新的光学膜105'，由此结束返工过程。
[0039]与现有的显示装置中的返工过程不同，在图1所示的返工过程中，由于存在缓冲膜104，因此可以防止发光器件层102破损的现象。如图3a和图3b所示，缓冲膜104的上表面的全表面成为粘接区域A，从而与光学膜105全面地粘接；在缓冲膜104的下表面中，只有边缘部分成为粘接区域A，除了边缘部分的部分成为非粘接区域B，从而与封装薄膜层103的边缘部分粘接。
[0040]此时，缓冲膜104和光学膜105之间的粘接力可以大于缓冲膜104和封装薄膜层103之间的粘接力。此时，缓冲膜104的上表面和光学膜105的下表面全面紧固地粘接，因此在进行返工过程中摘除光学膜105时，光学膜105和缓冲膜104以粘接的状态一同被剥离掉。缓冲膜104的下表面粘接在与发光器件层102的非活性区域(非发光区域)对应的封装薄膜层103的边缘部分，因此当摘除光学膜105时可以更安全地防止发光器件层102被破损的情况。相反地，缓冲膜104和光学膜105之间的粘接力可以小于缓冲膜104和封装薄膜层103之间的粘接力。此时，当摘除光学膜105时，只摘除光学膜105，缓冲膜104则以层叠在封装薄膜层103上的状态下残留。从而在清洗缓冲膜104后，只要更换新的光学膜105就完成返工。
[0041]图4是表示根据本发明第二实施例的、包括缓冲膜的显示装置的结构的立体图，图5是表示根据本发明第二实施例的缓冲膜的平面图。[0042]如图4所示，与所述第一实施例的相同点在于，在基板201上形成有发光器件层202和封装薄膜层203、在封装薄膜层203上依次层叠缓冲膜204和光学膜205的结构。此时，如图5所示，缓冲膜204的上表面和下表面可以有相同的结构，S卩，可以仅将边缘部分形成为粘接区域A，可以将除了边缘部分以外的部分形成为非粘接区域B。此时，相比根据第一实施例的缓冲膜104可以节约粘接材料，并且缓冲膜204的下表面粘接在与发光器件层202的非活性区域对应的封装薄膜层203的边缘部分。因此，当在返工过程中摘除光学膜205时，可以更加安全地防止发光器件层202破损的现象。另外，在本发明的第二实施例中，缓冲膜204和光学膜205之间的粘接力也可以大于缓冲膜204和封装薄膜层203之间的粘接力，或者还可以小于缓冲膜204和封装薄膜层203之间的粘接力。当缓冲膜204和光学膜205之间的粘接力大于缓冲膜204和封装薄膜层203之间的粘接力时，如果在进行返工过程中摘除光学膜205，则缓冲膜204也一同被剥离掉。此时，清洗封装薄膜层203后，将新的缓冲膜和光学膜依次粘接在封装薄膜层203上，则完成返工。相反地，当缓冲膜204和光学膜205之间的粘接力小于缓冲膜204和封装薄膜层203之间的粘接力时，如果摘除光学膜205，则缓冲膜204原样残留在封装薄膜层203上，只有光学膜205才被剥离掉。清洗缓冲膜204的上表面后，只要将光学膜205交换成新的，就完成返工。
[0043]图6是表示根据本发明第三实施例的包括缓冲膜的显示装置的结构的立体图，图7是表示根据本发明第三实施例的缓冲膜的平面图。
[0044]如图6所不,与所述第一实施例和第二实施例的相同点在于,在基板301上形成有发光器件层302和封装薄膜层303、在封装薄膜层303上依次层有叠缓冲膜304和光学膜305的结构。此时，如图7所示，缓冲膜304可以形成为包括在中心部形成有开口的边缘部分的形状。缓冲膜304的上表面和下表面可以分别粘接在光学膜305和封装薄膜层303的边缘部分。即，缓冲膜304的上表面和下表面可以有相同的结构，即:只有缓冲膜304的边缘部分才形成为粘接区域A，除了边缘部分之外的中心部分可以是开口 O。此时，相比根据第一实施例的缓冲膜104和第二实施例的缓冲膜204，可以节约缓冲膜材料和粘接材料，并且缓冲膜304的下表面仅粘接在与发光器件层302的非活性区域对应的封装薄膜层303的边缘部分。因此当在进行返工过程中摘除光学膜305时，可以更加安全地防止发光器件层302破损的现象。另外，由于在缓冲膜304形成有开口 0，因此可以提高显示装置的可视性。另外，在本发明的第三实施例中，缓冲膜304和光学膜305之间的粘接力也可以大于缓冲膜304和封装薄膜层303之间的粘接力，还可以小于缓冲膜304和封装薄膜层303之间的粘接力；并且在进行返工过程中，由此带来的效果与所述第一实施例和第二实施例的效果相同。
[0045]另外，在本发明的第一实施例至第三实施例中，光学膜、即光学膜105、光学膜205、光学膜305可以是偏光膜(polarizer)或者用于阻断紫外线的补偿膜。此外，缓冲膜、即缓冲膜104、缓冲膜204、缓冲膜304可以是光学间隙粘合剂或者是功能性膜，所述功能性膜使得水分(H2O)和氧(O2)不易于渗透至封装薄膜层、即封装薄膜层103、封装薄膜层203、封装薄膜层303。另外，缓冲膜、即缓冲膜104、缓冲膜204、缓冲膜304起到保护膜的作用。即:保护封装薄膜层、即封装薄膜层103、封装薄膜层203、封装薄膜层303不受外部的影响；修复封装薄膜层、即封装薄膜层103、封装薄膜层203、封装薄膜层303的表面或者光学膜、即光学膜105、光学膜205、光学膜305的表面的裂纹(crack);防止由封装薄膜层、即封装薄膜层103、封装薄膜层203、封装薄膜层303或者光学膜、即光学膜105、光学膜205、光学膜305的边缘部分的压力(stress)而引发的卷曲现象。另外，缓冲膜、即缓冲膜104、缓冲膜204、缓冲膜304可以起到段差补偿作用，即对与套件(set)之间的段差进行调节，以使得在和套件(set)进行组装时符合规格和目的；并且可以起到辅助膜的作用，即对所层叠的层的排列(align)进行辅助。另外，发光器件层、即发光器件层102、发光器件层202、发光器件层302可以包括有机发光器件。此外，根据本发明的显示装置可以是柔性(flexible，可挠性)显示装置。
[0046]根据上述的优选实施例说明了本发明，但是本发明并不限于此。本发明所属【技术领域】的技术人员能够理解，在不脱离权利要求书的概念和范围的前提下可以对本发明实施多种修改和变形。
【权利要求】
1.一种显示装置，包括: 基板； 发光器件层，形成在所述基板上，并且具有发光器件； 封装薄膜层，形成在所述基板和所述发光器件层上，并且用于封装所述发光器件层； 缓冲膜，形成在所述封装薄膜层上，并且粘接在所述封装薄膜层；以及 光学膜，形成在所述缓冲膜上，并且粘接在所述缓冲膜。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述光学膜是偏光膜。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述光学膜是用于阻断紫外线的补偿膜。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜的上表面全面地粘接在所述光学膜， 所述缓冲膜的下表面粘接在所述封装薄膜层的边缘部分。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜的上表面粘接在所述光学膜的边缘部分， 所述缓冲膜的下表面粘接在所述封装薄膜层的边缘部分。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜形成为具有在中心部形成有开口的边缘部分的形状， 所述缓冲膜的上表面和下表面分别粘接在所述光学膜和所述封装薄膜层的边缘部分。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜和所述光学膜之间的粘接力小于所述缓冲膜和所述封装薄膜层之间的粘接力。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜和所述光学膜之间的粘接力大于所述缓冲膜和所述封装薄膜层之间的粘接力。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中， 所述缓冲膜是光学间隙粘合剂或者是功能性膜，所述功能性膜用于使得水分和氧不易于渗透至所述封装薄膜层。
10.根据权利要求1至9中的任意一项所述的显示装置，其中， 所述发光器件层包括有机发光器件。
【文档编号】H01L27/32GK103456896SQ201310166966
【公开日】2013年12月18日 申请日期:2013年5月8日 优先权日:2012年5月30日
【发明者】郑仓龙, 金贤根 申请人:三星显示有限公司