专利名称：一种硅基薄膜生产装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及太阳能的应用领域，具体地说是ー种采用模块化设计、可根据客户需求灵活调整的自动水平式 硅基薄膜生产装置。
背景技术：
众所周知，能源危机和环境污染的日趋严重，极大的促进了光伏行业的迅速发展，在光伏电池家族中，硅基薄膜电池由于不受硅原材料短缺的限制和独特的弱光发电性能等优势，越来越多的光伏领域投资者将注意的目光投向了硅基薄膜电池生产领域，在硅基薄膜电池制造过程中，最重要的制造设备就是用于沉积硅基薄膜的PECVD沉积设备，这一设备制造领域需要的技术门槛较高，一向牢牢的掌握在国外少数几家公司(Oerlikon、AppliedMaterials和ULVAC)手中，国内的光伏企业一般均是用高价从这几家公司购买成套设备。目前市场上应用的一般是平板式分室连续镀膜装置，采用单独的エ艺室依次沉积不同的膜层。但是传统的平板式分式连续镀膜装置自动化、集成化程度较低，各エ艺室的位置相对固定，不可交替使用，如果中间有某ーエ艺室出现故障或需要维护就会使整个生产过程中断。并且一般一套设备仅适用于ー个固定的エ艺制度，一旦エ艺制度进行调整就有可能无法适应新的エ艺制度而被迫淘汰，造成巨大损失。上述问题一直存在于这一行业中，至今没有很好的解决方案。
发明内容本实用新型的目的是克服上述现有技术的不足，提供ー种使用效果好的采用模块化设计、可根据客户需求灵活调整的自动水平式硅基薄膜的生产装置。本实用新型可以通过如下措施达到一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段I、沉积段、真空过渡段2、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，沉积段由至少两个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置測量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，沉积室分布在真空过渡室的两侧，每ー个沉积室分别与一台エ艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用ー套真空获得装置，沉积模块两端均设有连接装置，连接装置的尺寸和形状完全相同或相互配合的，通过连接装置将平行排列的沉积模块连接起来形成ー个连续镀膜的沉积段，本装置可以根据镀膜エ艺和产能设计的不同要求增减不同膜层沉积模块的数量来进行匹配，所述的加热段装置采用连续梯度加热方法加热，可梯度的将基片加热至设定温度，该装置最高可将基片均匀加热至350摄氏度。本实用新型所述的沉积模块中沉积室同真空过渡室之间装有自动轧板阀，沉积室与真空过渡室之间真空度可以根据要求设置真空压差，避免交叉污染。本实用新型中沉积段中各膜层沉积模块的数量可根据沉积膜层所需要时间的不同来进行匹配排列，以获得最佳工作效率。本实用新型所述的沉积室中阳极板下方装有光栅尺和微动气缸，可以精确控制阳极板升降高度，精确度可达10微米。本实用新型所述的沉积模块中的真空过渡室中设有横向滚轮和纵向滚轮，纵向滚轮安装在横向滚轮中间，横向滚轮位置固定不变，纵向滚轮可以双向滚动，并且纵向滚轮下方安装有微动气缸可以调节升降，当需要向前输送基片时，纵向滚轮处于跟横向滚轮同一高度，横向滚轮工作向前输送基片；当需要将基片输送进沉积室或从沉积室将基片输出吋，则升起纵向滚轮，纵向滚轮逆向工作。本实用新型所述的沉积模块中沉积室和真空过渡室均安装了温度測量及加热控制装置，可以使基片传送过程中保持恒温，当不同膜层需要不同的反应温度时，也可精确控制沉积室的反应温度。本实用新型所述的基片的传送和各膜层的沉积控制等均全程由电脑自动控制，无需任何人工手动操作。本实用新型的优点效果ー是加热段选用梯度加热方式进行加热，加热速度快，受热均匀；ニ是沉积段采用模块化设计，每个沉积模块两端均采用尺寸和形状完全相同或相互配合的连接装置，便于安装；三是每ー沉积模块中的两个沉积室可在维修时交替工作，不会影响整条生产线的正常运行；四是沉积段各沉积模块结构完全相同，仅仅依靠沉积エ艺參数和エ艺气体来决定沉积不同的膜层。可根据エ艺配方的不同随意更换各沉积模块的用途，灵活性高；五是不同膜层沉积模块的数量可根据沉积时间的不同来进行匹配，沉积时间短的可以仅需要一列沉积模块，沉积时间长的可连接多列沉积模块，使沉积过程中各沉积室均处于不停歇持续工作状态，从而提高了整体产能和生产效率；六是沉积模块中沉积室和真空过渡室间装有自动闸板阀，，沉积室与真空过渡室之间真空度可以根据要求设置真空压差，避免交叉污染，提高膜层质量；七是真正实现了自动化，全程无需人工手动操作，提高了控制精度，节约了生产成本。
图I为本实用新型的结构示意图。图2、图3为本实用新型中的沉积模块的结构示意图。图中标记加热段(I)、自动闸板阀(2)、真空过渡段I (3)、沉积段(4)、真空过渡段2 (5)、冷却段(6)、沉积模块(7)、沉积室(7-1)、RF电源接ロ(7_1_1)、エ艺气体接ロ( 7-1-2)、阴极板(7-1-3)、阳极板(7-1-4)、阳极板接地(7-1-5)、微动气缸(控制阳极板升降)(7-1-6)、排气装置接ロ(7-1-7)、真空过渡室(7-2)、横向滚轮(7-2-1)、纵向滚轮(7-2-2)、微动气缸(控制纵向滚轮升降)(7-2-3)、真空获得装置接ロ(7-2-4)、排气装置(7-3)、エ艺干泵(7-3-1)、真空获得装置(7-4)。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进ー步描述一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段I、沉积段、真空过渡段
2、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，沉积段由至少两个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置測量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，沉积室分布在真空过渡室的两侧，每ー个沉积室分别与一台エ艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用ー套真空获得装置，沉积模块两端均设有连接装置，连接装置的尺寸和形状完全相同或相互配合的，通过连接装置将平行排列的沉积模块连接起来形成ー个连续镀膜的沉积段，本装置可以根据镀膜エ艺和产能设计的不同要求增减不同膜层沉积模块的数量来进行匹配；所述的加热段装置采用连续梯度加热方法加热，可梯度的将基片加热至设定温度，该装置最高可将基片均匀加热至350摄氏度；所述的沉积模块中沉积室同真空过渡室之间装有自动轧板阀，沉积室与真空过渡室之间真空度可以根据要求设置真空压差，避免交叉污染。本实用新型中沉积段中各膜层沉积模块的数量可根据沉积膜层所需要时间的不同来进行匹配排列，以获得最佳工作效率。本实用新型所述的沉积室中阳极板下方装有光栅尺和微动气缸，可以精确控制阳极板升降高度，精确度可达10微米。本实用新型所述的沉积模块中的真空过渡室中设有横向滚轮和纵向滚轮，纵向滚轮安装在横向滚轮中间，横向滚轮位置固定不变，纵向滚轮可以双向滚动，并且纵向滚轮下 方安装有微动气缸可以调节升降，当需要向前输送基片时，纵向滚轮处于跟横向滚轮同一高度，横向滚轮工作向前输送基片；当需要将基片输送进沉积室或从沉积室将基片输出吋，则升起纵向滚轮，纵向滚轮逆向工作。本实用新型所述的沉积模块中沉积室和真空过渡室均安装了温度測量及加热控制装置，可以使基片传送过程中保持恒温，当不同膜层需要不同的反应温度时，也可精确控制沉积室的反应温度。本实用新型所述的基片的传送和各膜层的沉积控制等均全程由电脑自动控制，无需任何人工手动操作。如图I所示，本实用新型提供的装置由加热段(I)、真空过渡段I (3)、沉积段(4)、真空过渡段2 (5)、冷却段(6)组成，自动闸板阀(2)装于各工作室之间，加热段(I)和冷却段(6)为非真空段。沉积段由数个沉积模块构成。如图2所示，每个沉积模块均由沉积室(7-1)、真空过渡室(7-2)、传动装置、位置測量装置、真空获得装置(7-4)、配气装置和排气装置(7-3)组成，两个沉积室(7-1)对称或不对称地排列在真空过渡室(7-2)的两侧，每ー个沉积室分别与一台エ艺干泵(7-3-1)相连，沉积室(7-1)和真空过渡室(7-2 )共用ー套真空获得装置(7-4 )。沉积模块(7 )两端均设有尺寸和形状完全相同或相互配合的连接装置，通过连接装置将数个平行排列的沉积模块
(7)连接起来形成一个连续镀膜的沉积段(4)，沉积段(4)中沉积各膜层所用沉积模块(7)的数量可根据エ艺配方中沉积膜层所需要时间的不同来进行匹配排列，以获得最佳工作效率。真空过渡室(7-2)中设有横向滚轮(7-2-1)和纵向滚轮(7-2-2)，纵向滚轮(7-2-2)安装在横向滚轮(7-2-1)中间。横向滚轮(7-2-1)位置固定不变，纵向滚轮(7-2-2)可以双向滚动，并且纵向滚轮(7-2-2)下方安装有微动气缸可以调节升降。当需要向前输送基片时，纵向滚轮(7-2-2)处于跟横向滚轮(7-2-1)同一高度，横向滚轮(7-2-1)工作；当需要将基片输送进沉积室或从沉积室将基片输出时，则升起纵向滚轮，纵向滚轮(7-2-2)逆向工作。基片输送进沉积室(7-1)处于阳极板(7-1-4)上，阳极板(7-1-4)向上升起一定高度，开始沉积反应。阳极板(7-1-4)下方装有光栅尺和微动气缸(7-1-6)，可以精确控制阳极板(7-1-4)升降高度，精确度可达10微米。沉积结束之后，阳极板(7-1-4)下降回复至原高度，沉积室(7-1)与真空过渡室(7-2)之间的自动闸板阀打开，纵向滚轮(7-2-2)工作，将基片输送出沉积室(7-1)。本实用新型的工作过程如下本实用新型中，所述加热段(I)用于梯度加热已经预处理干净的基片，加热段(I)可根据エ艺要求将基片加热至设定温度(最高可达350摄氏度)，然后加热到设定温度的基 片经传动装置传送至真空过渡室I (3)，自动闸板阀(2)关闭，将加热段(I)与真空过渡段I (3)隔离开来，加热段(I)为非真空段。基片从真空过渡段I (3)输送至沉积段(4)中，在各沉积模块中依次沉积各膜层，最后经真空过渡段2 (5)后输送到冷却段(6)中冷却至室温。
权利要求1.一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段、沉积段、真空过渡段、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，加热段装置采用连续梯度加热方法加热，可梯度的将基片加热至设定温度，沉积段由至少两个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置測量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，沉积室分布在真空过渡室的两侧，每ー个沉积室分别与一台エ艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用ー套真空获得装置，沉积模块两端均设有连接装置，连接装置的尺寸和形状完全相同或相互配合的，通过连接装置将平行排列的沉积模块连接起来形成ー个连续镀膜的沉积段。
2.根据权利要求I所述的ー种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中沉积室同真空过渡室之间装有自动轧板阀。
3.根据权利要求I所述的ー种硅基薄膜生产装置，其特征在于沉积室中阳极板下方装有光栅尺和微动气缸。
4.根据权利要求I所述的ー种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中的真空过渡室中设有横向滚轮和纵向滚轮，纵向滚轮安装在横向滚轮中间，横向滚轮位置固定不变，纵向滚轮可以双向滚动，并且纵向滚轮下方安装有微动气缸可以调节升降。
5.根据权利要求I所述的ー种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中沉积室和真空过渡室均安装了温度測量及加热控制装置。
专利摘要本实用新型公开了一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段1、沉积段、真空过渡段2、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，沉积段由数个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置测量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，两个沉积室对称或不对称地分布在真空过渡室的两侧，每一个沉积室分别与一台工艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用一套真空获得装置，沉积模块两端均设有尺寸和形状完全相同或相互配合的连接装置，通过连接装置将数个平行排列的沉积模块连接起来形成一个连续镀膜的沉积段，本装置可以根据镀膜工艺和产能设计的不同要求增减沉积模块的数量，其适用范围广，生产效率高，维护维修方便。
文档编号H01L31/18GK202465874SQ201220022528
公开日2012年10月3日 申请日期2012年1月18日 优先权日2012年1月18日
发明者刘先平, 史国华, 王伟, 解欣业, 邓晶 申请人:威海中玻光电有限公司