专利名称：浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法
技术领域：
本发明涉及一种浸润式微影系统(Immersion Lithography System)，特别是涉及一种一种接管(Take-Over)浸润式微影系统的封闭板(ClosingPlate)的方法与系统。
背景技术：
浸润式微影技术是一种增强解析度及加大焦距深度(Depth Of Focus)的技术，用以将影像曝光在如半导体晶圆基材的表面上。浸润式微影技术将高折射率的浸润流体(例如水)插入在微影系统的镜头与基材之间。此基材通常是置放在平台或承载装置上，此流体被流体围阻机构(例如一组“喷洒头(Shower Heads)”)保持在投影镜头与平台之间。然后，影像可被如具有深紫外光(DUV)的辐射线所投射，其先穿透过投影镜头，再穿过浸润流体，然后曝光在基材表面上。
为了在基材的载入与卸下的过程中将基材表面与浸润流体隔离，可使用一流体封闭板。在曝光过程中，流体封闭板被放在平台的平板承载装置中。在晶圆卸下之前，自平板承载装置被掀起流体封闭板并固定在流体围阻机构。用此法，当此基材被卸下时，从基材表面隔离此流体。当新基材被载入到平台之后，此流体封闭板被重新放回平板承载装置。此时该浸润的流体会重新插入至投影镜头和基材的表面之间。流体封闭板从平板承载装置移开与重新放回的过程，简称为“接管封闭板”制程。
目前，在经过一定数目的制作循环后，使用传送影像感测器(Transmission Image Sensor；TIS)来校正流体封闭板的位置。传送影像感测器被装设在基材承载装置中并与平板承载装置相距有一距离。传送影像感测器校正流体封闭板位置的方式是借由侦测来自投影镜头的深紫外光辐射线；并基于所侦测到的辐射线与平板承载装置间的距离来调整流体封闭板的位置。
然而，因为若流体封闭板的位置超出规格时需要额外的维修时间以调整流体封闭板板的位置，故此种型式的校正并无效率。此外，在每次封闭板接管之后，此种校正并未监视流体平板的位置，而可能会造成流体封闭板与晶圆的承载装置或其他材料相碰撞，其可能导致零件损坏、不想要的粒子、与机器停机时间。
因此，需要提供一种在每次封闭板接管后监视流体封闭板位置的方法与系统，借以避免与晶圆承载装置或其他材料的碰撞到，并改善浸润式微影的效率。
发明内容
本发明的主要目的在于，克服现有技术存在的缺陷，而提供一种浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法，所要解决的技术问题是使其改善习知使用传送影像感测器来校正流体封闭板位置的缺点，借以避免与晶圆承载装置或其他材料的碰撞到，并改善浸润式微影的效率，从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其中该浸润式微影系统包括具有一封闭板的一基材承载装置，该浸润式微影系统的封闭板的对准方法至少包括提供一平板承载装置给该封闭板；提供一光侦测器至该平板承载装置的下方；以及进行一侦测步骤，以使用该光侦测器来侦测穿过该封闭板的一辐射线是否对准该平板承载装置，使该封闭板通过该侦测步骤而被对准。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的对准方法，其更至少包括当该辐射线与该平板承载装置对准时，降低一流体围阻机构；以及放置该封闭板至该平板承载装置中。
前述的对准方法，其更至少包括当该辐射线被侦测到时，降低一流体围阻机构，至该封闭板的一上表面的下方；固定该封闭板至该流体围阻机构；以及升高具有该封闭板的该流体围阻机构。
前述的对准方法，其更至少包括当该辐射线未对准于平板承载装置时，触发一错误讯息，并停止一扫描机构。
前述的对准方法，其中所述侦测步骤至少包括决定穿过一圆形图案的一光讯号的中心，是否刚好位于该平板承载装置的中心。
前述的对准方法，其更至少包括重新插入一浸润流体于该基材承载装置中的一晶圆的表面与该浸润式微影系统的一投影镜头之间。
前述的对准方法，其更至少包括基于相对于该平板承载装置的一中心点的该辐射线的一中心点，监视该封闭板的一位置。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种浸润式微影系统，其至少包括一扫描机构，用以对一半导体晶圆进行曝光；一晶圆承载装置，用以承载该半导体晶圆来被该扫描机构进行曝光，其中该晶圆承载装置更至少包括一平板承载装置，用以承载一封闭板；以及一光侦测器，其中该光侦测器位于该平板承载装置的下方。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的系统，其中一光侦测器是操作来决定穿过该封闭板的该光讯号是否与该平板承载装置对准。
本发明的目的及解决其技术问题另外还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种浸润式微影方法，至少包括进行一侦测步骤，以使用一光侦测器来侦测穿过一封闭板的一辐射线，其中该光侦测器位于一平板承载装置的下方；决定该辐射线是否对准于该平板承载装置；以及当该辐射线是否对准于该平板承载装置时，执行一接管封闭板。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的浸润式微影方法，其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心，放置该封闭板于该平板承载装置中。
前述的浸润式微影方法，其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括 当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心时，固定该封闭板于一流体围阻机构，并升高具有该封闭板的该流体围阻机构。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上可知，为了达到上述目的，本发明提供了一种浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其中此浸润式微影系统包括具有封闭板的基材承载装置。在此浸润式微影系统的封闭板的对准方法中，首先，提供平板承载装置至封闭板。接着，提供光侦测器至平板承载装置的下方。然后，进行侦测步骤，以使用光侦测器来侦测穿过封闭板的辐射线是否对准平板承载装置，藉以使封闭板可通过侦测步骤而被对准。若光讯号已被对准，则降低流体围阻机构，并置放封闭板至平板承载装置中；或降低流体围阻机构至封闭板的表面，并固定封闭板至流体围阻机构，再将流体围阻机构与封闭板一起升高。若光讯号未被对准，则触发错误讯息，并停止扫描机构。
借由上述技术方案，本发明浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法至少具有下列优点 应用本发明的实施例，可藉由设置于晶圆承载装置的平板承载装置下的光侦测器，于每次封闭板接管后在线上监视此封闭板的位置；可避免与封闭板、晶圆承载装置、或其他材料的碰撞。可因为不需传送影像感测器来进行校正，而改善浸润式微影的效率。
综上所述，本发明新颖的浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法，改善习知使用传送影像感测器来校正流体封闭板位置的缺点，借以避免与晶圆承载装置或其他材料的碰撞到，并改善浸润式微影的效率。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
图1(a)至图1(i)是根据本发明的实施例的流体封闭板的接管制程的示意图。
图2是根据本发明的实施例的流体封闭板接管系统的示意图。
图3是如图2所示的实施例所使用的流体封闭板的俯视示意图。
图4(a)至图4(h)是根据本发明的实施例的流体封闭板接管制程的示意图。
图5是在卸下晶圆时的流体封闭板接管制程的例示过程的流程示意图。
图6是在载入晶圆时的流体封闭板接管制程的例示过程的流程示意图。
10浸润式微影系统 11扫描机构 12晶圆承载装置13投影镜头 14流体围阻机构15晶圆 16深紫外光17浸润流体 18流体封闭板 19平板承载装置 20传送影像感测器 20a晶圆载入方向 21新晶圆 22浸润式微影系统 22a晶圆卸下方向 23光侦测器 24图案26新晶圆 30曝光后置放扫描机构至平板承载装置的上方 32紫外光的中心是否对准于平板承载装置的中心 34触发错误信息并停止扫描机构 36降低扫描机构至封闭板的表面 38固定封闭板至喷洒头 40提升扫描机构与封闭板 42卸下晶圆 44载入新晶圆后置放扫描机构于平板承载装置的上方 46紫外光的中心是否对准于平板承载装置的中心 48触发错误信息并停止扫描机构 50降低扫描机构 52置放封闭板至平板承载装置中 54重新插入浸润流体于镜头与晶圆表面之间 56继续扫描晶圆
具体实施例方式 为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。
本发明有关于浸润式微影技术，如可应用于制造半导体装置。然而，可理解的是，特定的实施例被提供为例示，以教示较大范围的发明概念，而发明所属领域中具有通常知识者可轻易地应用本发明的教示至其他的方法与系统。而且，可理解的是，本发明所讨论的方法与系统包含有习知结构和或步骤。由于这些结构与步骤此技艺所知，故将只讨论至一般详细的程度。此外，为了方便与清楚的缘故，参考符号重复于所有图示中，而此种重复并未指出所有图示中的特征或步骤的任何必要的结合。
图1(a)至图1(i)是使用于浸润式微影系统10的流体封闭板接管流程的实施例。在图1(a)中，浸润式微影系统10包括有扫描机构11和晶圆承载装置12。扫描机构11包括有投影镜头13和流体围阻机构(例如一组喷洒头)14。晶圆承载装置12承载晶圆15，以被投影镜头13进行曝光。当可容易地移动晶圆承载装置12来让晶圆15被扫描时，扫描机构11大都固定在位置上。在曝光的过程中，深紫外光16穿过投影镜头13投射至此晶圆15上，以图案化晶圆15。紫外光16可为波长193nm的紫外光雷射。
在曝光的过程中，高折射率的浸润流体17被插入于投影镜头13与晶圆15的表面之间。此组喷洒头14(亦称为流体围阻机构)限制浸润流体17于投影镜头13的下方。因为投影镜头13可用大于1的数值孔径来设计，故高折射率的浸润流体17可提供解析度的增强。在曝光的过程中，提供流体封闭板18并置放于晶圆承载装置12的平板承载装置19上。在晶圆卸下之前，从平板承载装置19上举起流体封闭板18，并固定至流体围阻机构。在卸下基材时，流体封闭板18将流体自基材表面15隔离开。在载入新基材至平台后，重新置放流体封闭板18位于平板承载装置19上，其可允许浸润流体17重新插入于投影镜头13与基材表面15之间。此种将流体封闭板18从平板承载装置19移开；再重新置放回平板承载装置19的过程称为“封闭板接管”制程。
在一实施例中，流体封闭板18可由石英(Quartz)或其他无孔性材料所制成。流体封闭板18的厚度可为例如约1mm。亦提供并置放传送影像感测器20于此晶圆承载装置12之内且远离平板承载装置19。在曝光过程中，扫描机构11沿着晶圆载入方向20a中扫描跨越晶圆15的表面。
如图1(b)所示，在扫描机构11完成晶圆15表面的扫描后，晶圆承载装置12移动至扫描机构11直接位于流体封闭板18上方的位置，流体封闭板18被置放于平板承载装置19中。如图1(c)所示，当基材15被卸下时，为了将浸润流体17自基材15表面隔离开，降低此组喷洒头14至与流体封闭板18的表面接触。然后，固定流体封闭板18至此组喷洒头14。流体封闭板18可通过由扫描机构11所提供的真空吸力来固定。如图1(d)所示，扫描机构11与流体封闭板18一起被提升，此可防止浸润流体17分注至晶圆15的表面。一旦流体封闭板18被提升，此时平板承载装置19是空的。如图1(e)所示，晶圆承载装置12沿着晶圆卸下方向22a移动，并卸下晶圆15。
如图1(f)所示，载入新晶圆21至晶圆承载装置12中，并沿着晶圆装载的方向20a移动晶圆承载装置12。如图1(g)所示，移动晶圆承载装置12至具有固定的流体封闭板18的扫描机构11直接位于平板承载装置19上方的位置。如图1(h)所示，降低流体封闭板18至平板承载装置19中。流体封闭板18相对于投影镜头13的位置准确性是由影像感测器20来监测和校正，其在一定数目的晶圆制作循环后校正平板的位置，例如每400片晶圆。如图1(i)所示，一旦流体封闭板18位于平板承载装置19中，中止流体封闭板接管的制程，并重新插入浸润流体17于投影镜头13与晶圆表面21之间。当晶圆承载装置12沿着晶圆载入方向20a移动时，扫描机构11继续扫描晶圆表面。
请参照图2，在又一实施例中，浸润式微影系统22包括有许多与上述的系统10相同的元件，并具有如以下所示的修改与额外的元件。浸润式微影系统22包括有扫描机构11和晶圆承载装置12。扫描机构11包括有投影镜头13和一组喷洒头14。晶圆承载装置12承载晶圆15，以被投影镜头13进行曝光。当可容易地移动晶圆承载装置12来让晶圆15被扫描时，扫描机构11大都固定在位置上。在曝光的过程中，深紫外光16穿过投影镜头13而投射至晶圆15上。在曝光的过程中，高折射率的浸润流体17被插入于投影镜头13与晶圆15的表面之间。此组喷洒头14(亦称为流体围阻机构)限制浸润流体17于投影镜头13的下方。
在曝光的过程中，提供流体封闭板18并置放于晶圆承载装置12的平板承载装置19上。在晶圆卸下之前，从平板承载装置19上举起流体封闭板18，并固定至流体围阻机构。在卸下基材时，流体封闭板18将流体自基材表面15隔离开。在载入新基材至平台后，重新置放流体封闭板18于平板承载装置19上，其可允许浸润流体17重新插入于投影镜头13与基材表面15之间。此种将流体封闭板18从平板承载装置19移开；再重新置放回平板承载装置19的过程称为“封闭板接管”制程。
在一实施例中，流体封闭板18可由石英或其他无孔性材料所制成。流体封闭板18的厚度可为例如约1mm。传送影像感测器20被提供并置放于晶圆承载装置12之内并远离平板承载装置19。
此外，在晶圆承载装置12内，提供一种包含有光侦测器23的位置对准系统。发明所属领域中具有通常知识者皆知可使用许多不同种类的光侦测器。光侦测器23被置放位于平板承载装置19中的流体封闭板18的下方。光侦测器23较佳是被置放于平板承载装置19的中心点的下方，并与平板承载装置19的两端等距。在一例示的实施例中，光侦测器23通过分析穿过流体封闭板18的图案的深紫外光16，来侦测封闭板的位置。当深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心时，则流体封闭板18的位置对准于平板承载装置19，而可降低流体封闭板18至平板承载装置19。否则，触发一错误讯息，以指出流体封闭板18的位置已偏移超出规格。
图3是根据图2所示的实施例的流体封闭板18的俯视示意图。在本实施例中，流体封闭板18包含有圆形图案24。当晶圆承载装置12移动至扫描机构11直接位于流体封闭板18上方的位置时，光侦测器23分析并决定深紫外光16的中心点穿过图案24是否对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光16的中心正好位于平板承载装置19的中心，则深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心。若侦测器23侦测到深紫外光16的中心未对准于平板承载装置19的中心，则流体封闭板18的位置已偏移超出规格。此时，可触发一错误指示器，并停止扫描机构11的操作。然后，可开始适当的校正，以改正此问题。
图4(a)图4(a)至图4(c)是根据使用如图2与图3所示的浸润式微影系统22的本发明的一实施例的流体封闭板接管制程的示意图。如图4(a)所示，在扫描机构11完成扫描晶圆21的表面后，移动晶圆承载装置12至扫描机构11直接位于平板承载装置19中的流体封闭板18上方的位置。此时，光侦测器23分析并决定穿过圆形图案24的深紫外光16的中心是否对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光16的中心正好位于平板承载装置19的中心，则深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心。
若深紫外光16的中心未对准于平板承载装置19的中心，则触发一错误讯息，用以指示此流体封闭板18的位置已偏移超出规格，并停止扫描机构11。如图4(b)所示若深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心时，降低此组喷洒头14至流体封闭板18的表面，且固定流体封闭板18至此组喷洒头14。流体封闭板18可通过由扫描机构11所提供的真空吸力来固定。
如图4(c)所示扫描机构11与流体封闭板18一起被提升，此浸润流体17自晶圆15表面隔离开。一旦流体封闭板18被提升，此时平板承载装置19是空的。如图4(d)所示，晶圆承载装置12沿着晶圆卸下方向22a移动，并卸下晶圆21。如图4(e)所示，载入新晶圆26至晶圆承载装置12中，并沿着晶圆装载的方向20a移动晶圆承载装置12。如图4(f)所示，移动晶圆承载装置12至具有固定的流体封闭板18的扫描机构11直接位于平板承载装置19上方的位置。降低流体封闭板18至平板承载装置19中之前，光侦测器23分析与决定，是否深紫外光16的中心点穿过图案24是对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光16的中心正好位于平板承载装置19的中心，则深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光16的中心未对准于平板承载装置19的中心，则触发一错误讯息，并停止扫描机构11。
如图4(g)所示，若光侦测器23侦测深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心时，此组喷洒头14被降低，且流体封闭板18被置放于平板承载装置19中。如图4(h)所示，一旦流体封闭板18位于平板承载装置19中，中止流体封闭板接管制程，并重新插入浸润流体17于投影镜头13与晶圆表面26之间。当晶圆承载装置12沿着晶圆载入方向20a移动时，扫描机构11继续扫描晶圆表面。
图5是用以卸下晶圆的流体封闭板接管的例示性制程的流程示意图。于曝光之后，当晶圆承载装置12移动至扫描机构11直接位于平板承载装置19的上方的位置时，接管制程从步骤30开始。然后，进行步骤32以决定穿过流体封闭板的圆形图案深紫外光16的中心是否对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光16的中心正好位于平板承载装置19的中心时，则深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光的中心16未对准于平板承载装置19的中心时，则在步骤34会触发一错误讯息，且停止扫描机构。接着，终止接管制程。
若侦测器侦测到深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心，则进行步骤36，以降低一组喷洒头至封闭板的表面。进行步骤38，以固定封闭板至此组喷洒头上。进行步骤40，以提升此组喷洒头与封闭板，并进行步骤42，以卸下晶圆。
图6是用以载入晶圆的流体封闭板接管的例示性制程的流程示意图。于载入新晶圆后，当晶圆承载装置12移动至扫描机构11直接位于平板承载装置19上方的位置时，接管制程从步骤44开始。然后，进行步骤46以决定穿过图案的深紫外光16的中心是否对准于平板承载装置19的中心。若深紫外光的中心16未对准于平板承载装置19的中心时，则进行步骤48以触发一错误讯息，并停止扫描机构。然后，终止接管制程。
若侦测器侦测到深紫外光16的中心对准于平板承载装置19的中心时，则进行步骤50，以降低此组喷洒头。接着，进行步骤52，以置放封闭板至平板承载装置19中。然后，进行步骤54，以重新插入浸润流体17于投影镜头13与晶圆表面之间。接着，进行步骤56，以使用扫描机构继续扫描晶圆。
综上所述，本发明藉由提供光侦测器于晶圆承载装置的平板承载装置下方，可在每次接管后于线上监视封闭板的位置。可基于相对于平板承载装置中心的深紫外光中心，来监视封闭板的位置。此外，可避免与封闭板、晶圆承载装置、或其他材料的碰撞。又可因为不需传送影像感测器来进行校正，而改善浸润式微影的效率。
应注意的是，光侦测器的实施亦可不使用传送影像感测器。在此情形下，光侦测器可进行类似于传送影像感测器的校正功能，但以每次接管后具有收集封闭板位置资料能力的更精确的形式进行。此外，可实施光侦测器，以在扫描装置扫描晶圆时可追踪封闭板的移动。在这种方式中，可安全地进行每次封闭板接管，而不会伤害到晶圆或其他材料。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
权利要求
1.一种浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其中该浸润式微影系统包括具有一封闭板的一基材承载装置，其特征在于该浸润式微影系统的封闭板的对准方法至少包括
提供一平板承载装置给该封闭板；
提供一光侦测器至该平板承载装置的下方；以及
进行一侦测步骤，以使用该光侦测器来侦测穿过该封闭板的一辐射线是否对准该平板承载装置，使该封闭板通过该侦测步骤而被对准。
2.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括
当该辐射线与该平板承载装置对准时，降低一流体围阻机构；以及
放置该封闭板至该平板承载装置中。
3.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括
当该辐射线被侦测到时，降低一流体围阻机构，至该封闭板的一上表面的下方；
固定该封闭板至该流体围阻机构；以及
升高具有该封闭板的该流体围阻机构。
4.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括
当该辐射线未对准于平板承载装置时，触发一错误讯息，并停止一扫描机构。
5.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于其中所述侦测步骤至少包括
决定穿过一圆形图案的一光讯号的中心，是否刚好位于该平板承载装置的中心。
6.根据权利要求3所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括
重新插入一浸润流体于该基材承载装置中的一晶圆的表面与该浸润式微影系统的一投影镜头之间。
7.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括
基于相对于该平板承载装置的一中心点的该辐射线的一中心点，监视该封闭板的一位置。
8.一种浸润式微影系统，其特征在于至少包括
一扫描机构，用以对一半导体晶圆进行曝光；
一晶圆承载装置，用以承载该半导体晶圆来被该扫描机构进行曝光，其中该晶圆承载装置更至少包括
一平板承载装置，用以承载一封闭板；以及
一光侦测器，其中该光侦测器位于该平板承载装置的下方。
9.根据权利要求8所述的浸润式微影系统，其特征在于其中一光侦测器是操作来决定穿过该封闭板的该光讯号是否与该平板承载装置对准。
10.一种浸润式微影方法，其特征在于至少包括
进行一侦测步骤，以使用一光侦测器来侦测穿过一封闭板的一辐射线，其中该光侦测器位于一平板承载装置的下方；
决定该辐射线是否对准于该平板承载装置；以及
当该辐射线是否对准于该平板承载装置时，执行一接管封闭板。
11.根据权利要求10所述的浸润式微影方法，其特征在于其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括
当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心，放置该封闭板于该平板承载装置中。
12.根据权利要求10所述的浸润式微影方法，其特征在于其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括
当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心时，固定该封闭板于一流体围阻机构，并升高具有该封闭板的该流体围阻机构。
全文摘要
一种浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法。该浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其中该浸润式微影系统包括具有一封闭板的一基材承载装置，该浸润式微影系统的封闭板的对准方法至少包括提供一平板承载装置给该封闭板；提供一光侦测器至该平板承载装置的下方；以及进行一侦测步骤，以使用该光侦测器来侦测穿过该封闭板的一辐射线是否对准该平板承载装置，使该封闭板通过该侦测步骤而被对准。本发明还公开了一种浸润式微影方法及浸润式微影系统。本发明改善习知使用传送影像感测器来校正流体封闭板位置的缺点，借以避免与晶圆承载装置或其他材料的碰撞到，并改善浸润式微影的效率。
文档编号H01L21/00GK101231479SQ200710129408
公开日2008年7月30日 申请日期2007年7月10日 优先权日2007年1月25日
发明者傅中其, 鑫 章 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司