专利名称：曝光机的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及半导体工艺中用于微影制程的曝光机。
背景技术：
曝光机(Scanner),作为半导体制程(Semi-conductor Process )中重要的 生产用机台，主要用于微影(L池o)制程。 一般而言，其与涂布显影机(Track) 共同使用，完成微影制程中的图像形成步骤。
ASML的网站(w需.asml.画)公开了用于微影制程的PAS5500系列的曝 光机的产品说明。PAS5500系列曝光机一般拥有四个端口 ( Port )与外间相通， 用于晶圓(Wafer)的出入。其中，第三端口和第四端口与传输轨道(Track)相 连，用于曝光机与传输轨道共同使用时的晶圓片传送；而第一端口或第二端 口放置用来容置晶圓的晶舟(Cassette),可通过升降机(Elevator)在曝光机 内上下移动，从曝光机中取出或向曝光机输入晶圓。在曝光机运行过程中， 常常会有晶圓因为在制程品质上达不到技术要求，从而被曝光机系统自动判 断为不合格，需要将其从正常产品中剔除(Reject )。对于在制程品质上达不 到技术要求的晶圓，为了将其与正常生产完成的产品分开放置， 一般曝光机 系统自动设置将其送到第一端口，而第一端口中需预先放置空的晶舟，这样 曝光机系统就会将在制程品质上达不到技术要求的晶圓送到第 一端口放入晶 舟中。
现有技术曝光机的端口如图1所示，由侧壁5 (只显示三面侧壁)、侧壁 和底^11围成一半封闭的方形容置空间，其中一面侧壁上具有开口 6,与底板 1相对的开口为晶舟入口 。而当晶舟放入端口后，曝光机端口通过升降机下降 到指定位置，并通过侧壁开口 6从曝光机中接收晶圓放入晶舟中。如图2所
示，曝光机端口包括，底板l,用于承载从端口向上开口放入的晶舟；底板上
的沟槽3，用于容置晶舟上的限位条；位于底板上的沟槽3两个纵向边沿的限 位块2，用于配合沟槽3固定晶舟上的限位条；底板上开设的插槽4 ，用于容 置晶舟上的插片。而用来放入端口中的晶舟如图3所示，包括，晶舟的宽部， 具有由两杀+面和一平面构成的向内开口的梯形凹口；晶舟的窄部，具有向内 开口的方形凹口及凹口上的晶圓插槽9，其中晶圓插槽用来容置晶圓；与曝光 机端口的底板相接触的晶周的底面，具有放入曝光机端口底板上的沟槽3内 用来固定晶舟的限位条7以及放置于曝光机端口的插槽4内用来固定晶舟的 插片8。
当曝光机需要剔除晶圓时，将晶舟的窄部对准曝光机端口的可开启侧壁 6,将晶舟底面上的插片8对准曝光机端口的插槽4，将晶舟底面上的限位条 7对准曝光机端口底板上的沟槽3,将晶舟从曝光机端口的向上开口垂直向下 放入，从而将晶舟固定于第一端口内。
但现有技术的缺点在于现有技术曝光机端口中没有限制晶舟放置方向 的部件，而晶舟只有窄部有容置晶圓的插槽，宽部则没有，若晶舟放置方向 颠倒，曝光机探测得到端口中有晶舟但却不能发现晶舟放置方向颠倒，当有 达不到要求的晶圓要剔除时，传送到曝光机端口中的晶圓将直接撞到晶舟宽 部，造成曝光一几损坏。
实用新型内容
本实用新型解决的问题是避免晶舟在曝光机端口中放置的位置颠倒。
为解决上述问题，本实用新型提供了一种曝光机，包括用于容置晶舟的 曝光才几端口 ，该端口包4舌
侧壁，具有侧壁开口用于曝光机剔除晶圓的输送；
底板，与侧壁围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶舟入 口，与底板相对；
沟槽，设置于底板上，与晶舟上的限位条配合；
限位块，设置在底板上的沟槽两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶舟上
的限位条；
插槽，在底板上开设且与晶舟上的插片配合；
挡块，用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板上，且远离侧壁开口。
与现有技术相比，本实用新型具有以下优点由于晶舟宽部的凹口宽度 和窄部的凹口宽度不同，若晶舟在端口中的放置方向颠倒时，晶舟的窄部凹 口放置于设定为卡住晶舟宽部凹口的挡块上时，是不可能放平的，从而防止 了晶舟在啄光机端口中放置位置颠倒。
图1是现有技术曝光机的端口立体图； 图2是现有技术曝光机的端口俯视图； 图3是用于容置晶圓的晶舟示意图； 图4是本实用新型曝光机的端口俯视图； 图5是晶舟放置于本实用新型曝光机的端口的示意图。
具体实施方式
本实用新型曝光机通过在曝光机端口的底面上加装挡块，从而防止了晶 舟在曝光机端口中放置位置颠倒。
图4给出本实用新型曝光机的实施例，如图4所示，本实用新型曝光机
包括用于容置晶舟的曝光机端口，该端口包括
侧壁50,具有侧壁开口 60,用于曝光机剔除晶圓的输送；
底板IO，与侧壁50围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶
舟入口，与底4反相对；
沟槽30,设置于底板10上，与晶舟上的限位条配合； 限位块20,设置在底板上的沟槽30两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶 舟上的限位条；
插槽40,在底板上开设且与晶舟上的插片配合；
挡块70,用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板10上，且远离侧壁开 口 60。
所述位于底4反上的沟槽30两个纵向边沿的限位块20为两边各两个。
所述限位块20的高度加高到与晶舟底面上的限位条6的直径相同。
所述插槽40呈"回"型，该插槽40的垂直边的长度等于晶舟底面上的 插片8的长度。
所述挡块70为长边长度等于晶舟宽部梯形凹口的底边宽度的长方体。 所述挡块70为契合晶舟宽部梯形凹口形状的梯形体。 所述挡块70由硬质有机玻璃材料制成。
结合图4和图5所示，当曝光机需要剔除晶圓时，将晶舟的窄部对准曝 光机端口的可开启侧壁6，将晶舟底面上的插片8对准曝光机端口的"回"型 插槽40的垂直边，将晶舟底面上的限位条7对准曝光机端口底板上的沟槽30, 将晶舟宽部的凹口对准挡块70，将晶舟从曝光机端口的晶舟入口垂直向下放 入。
当晶舟的底面接触到曝光机端口的底板10时，晶舟底面上的限位条7就 正好卡入曝光机端口底板上的沟槽30内，而沟槽30两个纵向边沿的各两A 限位块20就S己合沟槽30将晶舟底面上的限位条7夹持住，防止晶舟底面上 的限位条7滑出沟槽30。而晶舟底面上的插片8则插入曝光机端口的"回" 型插槽40内，使晶舟能够平稳地安置于曝光机端口内，不至于在曝光机端口 的产生晃动。而晶舟宽部的梯形凹口则正好被曝光端口底板上的挡块70卡住，
该挡块70可以是长边长度等于晶舟宽部梯形凹口的底边宽度的长方体，这样
挡块70的直角正好"l氐住晶舟宽部的梯形凹口的两个斜面；该挡块70也可以 是契合晶舟宽部梯形凹口形状的梯形体，这样挡块70就正好卡入晶舟宽部的 梯形凹口之内，同时抵住了晶舟宽部的梯形凹口的一个平面和两个斜面，限 制了晶舟在曝光机端口内前后移动，而为了防止挡块70由于晶舟在曝光机端 口中的放入;^出导致挡块70耗损过快，挡块70采用硬质有机玻璃材料制成。 更由于晶舟宽部凹口的宽度大于晶舟窄部凹口的宽度，如果晶舟在曝光机端 口中放置的方向颠倒，即晶舟在放入曝光机端口时，晶舟的宽部反而对准了 曝光机端口的可开启侧壁6,这样晶舟窄部的凹口由于宽度较小而无法将挡块 70卡入，就造成了晶舟无法在端口内放平，因此避免了晶舟在曝光机端口中 放置方向颠倒的问题。
而为了使得晶舟在曝光机端口中的位置更牢固，还可以对上述端口作进 一步改进，将上述端口中的限位块20的高度加高到与晶舟上的限位条6的直 径相同，将上述端口中的"回"型插槽40的垂直边的长度做成等于晶舟底面 上的插片8的长度。
结合图4和图5所示，当曝光机需要剔除晶圓时，将晶舟的窄部对准曝 光机端口的可开启側壁6，将晶舟底面上的插片8对准曝光机端口的"回"型 插槽40的垂直边，将晶舟底面上的限位条7对准曝光机端口底板上的沟槽30, 将晶舟宽部的凹口对准挡块70，将晶舟从曝光机端口的晶舟入口垂直向下放 入。
当晶舟的底面接触到曝光机端口的底板10时，晶舟底面上的限位条7就 正好卡入咏光机端口底板上的沟槽30内，而沟槽30两个纵向边沿的各两个 限位块20就配合沟槽30将晶舟底面上的限位条7夹持住，由于限位块20的 高度加高到了与晶舟底面上的限位条6的直径相同，也即加深了限位块20与 沟槽30整体构成的凹槽的深度，因此更加能够防止晶舟底面上的限位条7滑
出沟槽30。而晶舟底面上的插片8则插入曝光机端口的"回"型插槽40内， 由于"回"型插槽40的垂直边的长度等于晶舟底面上的插片8的长度，因而 晶舟底面上的插片8被完全固定于曝光机端口的"回"型插槽4()内，使晶舟 更能够平稳地安置于曝光机端口内，不至于在曝光机端口的产生晃动。而晶 舟宽部的梯形凹口则正好被曝光端口底面上的挡块70卡住，该挡块70可以 是长边长度等于晶舟宽部梯形凹口的底边宽度的长方体，这样挡块70的直角 正好抵住晶舟宽部的梯形凹口的两个斜面；该挡块70也可以是契合晶舟宽部 梯形凹口形状的梯形体，这样挡块70就正好卡入晶舟宽部的梯形凹口之内， 同时抵住了晶舟宽部的梯形凹口的一个平面和两个斜面，限制了晶舟在曝光 机端口内前后移动，而为了防止挡块70由于晶舟在曝光机端口中的放入放出 导致挡块70耗损过快，挡块70采用硬质有机玻璃材料制成。更由于晶舟宽 部凹口的宽度大于晶舟窄部凹口的宽度，如果晶舟在曝光机端口中放置的方
向颠倒，即晶舟在放入曝光机端口时，晶舟的宽部反而对准了曝光机端口的 可开启侧壁6，这样晶舟窄部的凹口由于宽度较小而无法将挡块70卡入，就 造成了晶舟无法在端口内放平，因此避免了晶舟在曝光机端口中放置方向颠 倒的问题。
综上所述，本实用新型曝光机通过在曝光机端口的底板上加装挡块，从 而防止了晶舟在曝光机端口中放置位置颠倒。因此本实用新型曝光机解决了 由于晶舟在曝光机端口中放置位置颠倒而引起的曝光机损坏的问题。
权利要求1.一种曝光机，包括用于容置晶舟的曝光机端口，其特征在于，所述曝光机端口包括侧壁，具有侧壁开口用于曝光机剔除晶圆的输送；底板，与侧壁围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶舟入口，与底板相对；沟槽，设置于底板上，与晶舟上的限位条配合；限位块，设置在底板上的沟槽两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶舟上的限位条；插槽，在底板上开设且与晶舟上的插片配合；挡块，用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板上，且远离侧壁开口。
2. 如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述位于底板上的沟槽两个纵 向边沿的限位块为两边各两个。
3. 如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述限位块的高度加高到与晶 舟底面上的限位条的直径相同。
4. 如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述插槽为"回"型。
5. 如权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述"回"型插槽的垂直边的 长度等于晶舟上的插片的长度。
6. 如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述挡块为长边长度等于晶舟 宽部的梯形凹口的底边宽度的长方体。
7. 如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述挡块为契合晶舟宽部的梯 形凹口的梯形体。
8. 如权利要求6或7所述的曝光机，其特征在于，所述挡块由硬质有机玻璃 材料制成。
专利摘要本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及半导体工艺中用于微影制程的曝光机。本实用新型曝光机包括用于容置晶舟的曝光机端口，该端口包括侧壁，具有侧壁开口用于曝光机剔除晶圆的输送；底板，与侧壁围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶舟入口，与底板相对；沟槽，设置于底板上，与晶舟上的限位条配合；限位块，设置在底板上的沟槽两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶舟上的限位条；插槽，在底板上开设且与晶舟上的插片配合；挡块，用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板上，且远离侧壁开口。本实用新型曝光机的端口能够避免晶舟在曝光机端口中放置位置颠倒，从而防止曝光机损坏。
文档编号H01L21/027GK201015024SQ20062016233
公开日2008年1月30日 申请日期2006年12月28日 优先权日2006年12月28日
发明者刘宇翔, 薛文明 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司