专利名称：一种真空灭弧室用的触头座线圈的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种线圈结构，特别是一种真空灭弧室用杯状纵磁触头的触头座线圈结构。
背景技术：
现有的小型真空灭弧室中，其灭弧所用的杯状纵磁触头的触头座线圈的构成包括一个导电圆环，圆环上开有凹槽，在凹槽下开有沿圆环圆周旋转的斜槽，这些斜槽沿圆环圆周旋转的角度一般为90°，大的也不超过100°。这种触头座线圈虽然可以完成真空灭弧室的正常开断工作，但并没有使触头座线圈的灭弧能力得到最大利用。
发明内容
本实用新型的目的在于，提供一种新的真空灭弧室用的触头座线圈。它可以增加电流路径，从而增强开断时触头间的磁场，提高对开断时的真空电弧的灭弧能力，达到提高开断能力的目的。
本实用新型是这样实现的。一种真空灭弧室用的触头座线圈，它的构成包括导电圆环1，圆环1上开有二个或二个以上的凹槽3，在凹槽3下开有沿圆环1圆周旋转的斜槽2；其特征在于沿圆环1圆周旋转的斜槽2是沿圆环1圆周旋转180°的斜槽2。
与现有技术比较，本实用新型在原有结构上增加了斜槽沿圆周旋转的角度，通过增加电流路径，从而增强开断时触头间的磁场，起到了提高真空灭弧室灭弧能力的作用。在实现相同的开断能力下，利用本实用新型，可以较大幅度地减小触头座体积和触头表面积。本实用新型结构简单，实用效果好，可减小触头座体积和触头表面积以及真空灭弧室的体积，对真空灭弧室的小型化有积极作用。可用于真空灭弧室的生产中。
附图1是本实用新型的结构示意图；附图2是本实用新型的外形示意图。
具体实施方式
实施例。如图1所示，本实用新型真空灭弧室用的触头座线圈的构成包括与现有触头座线圈结构相同的导电圆环1，圆环1上开有二个或二个以上的凹槽3，在凹槽3下开有沿圆环1圆周旋转的贯通斜槽2；不同的是，沿圆环1圆周旋转的斜槽2是沿圆环1圆周旋转180°的斜槽2。
权利要求1.一种真空灭弧室用的触头座线圈，它的构成包括导电圆环(1)，圆环(1)上开有二个或二个以上的凹槽(3)，在凹槽(3)下开有沿圆环(1)圆周旋转的斜槽(2)；其特征在于沿圆环(1)圆周旋转的斜槽(2)是沿圆环(1)圆周旋转180°的斜槽(2)。
专利摘要本实用新型公开了一种真空灭弧室用的触头座线圈，它的构成包括导电圆环1，圆环1上开有二个或二个以上的凹槽3，在凹槽3下开有沿圆环1圆周旋转的斜槽2；特点是沿圆环1圆周旋转的斜槽2是沿圆环1圆周旋转180°的斜槽2。本实用新型通过增加电流路径，从而增强开断时触头间的磁场，起到了提高真空灭弧室灭弧能力的作用。在实现相同的开断能力下，利用本实用新型，可以较大幅度地减小触头座体积和触头表面积。本实用新型结构简单，实用效果好，可减小触头座体积和触头表面积以及真空灭弧室的体积，对真空灭弧室的小型化有积极作用。可用于真空灭弧室的生产中。
文档编号H01H9/30GK2619352SQ0323452
公开日2004年6月2日 申请日期2003年5月20日 优先权日2003年5月20日
发明者王德志 申请人:中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司