专利名称：防止液体回溅的装置的利记博彩app
技术领域：
本发明涉及一种防止液体回溅的装置，特别是涉及一种应用于显影制作工艺的防止回溅装置。
背景技术：
在半导体制作工艺，要在一薄膜中形成图案，通常需先在薄膜上形成一光致抗蚀剂层，接着，以一具有图案的光掩模为屏蔽，对光致抗蚀剂层进行曝光。此时，则接受光照射的区域，将产生光化转换(photochemicaltransformation)反应。
接着，则是进行显影(development)的步骤，以便将光致抗蚀剂层所转移的潜在性图案显现出来，而此显影出来的图案，即是后续用以蚀刻薄膜层的依据。因此，显影的条件必须严密地控制，以免未经曝光的光致抗蚀剂层也被显影液所侵蚀(attack)，而影响所转移图案的精确性。控制显影的主要操作条件有显影时间、显影剂的浓度及温度等等。
进行显影的方式有许多种，但是为了配合整条光刻制作工艺的一贯性(in-line)作业，一般的显影方式大都采用喷洒/涂布(spray/puddle)的方式来进行。这种方式如下请参考图1a，首先，喷洒显影液120在经过曝光的光致抗蚀剂层110的表面上，光致抗蚀剂层110位于玻璃基板100之上，玻璃基板100则置于一旋转器130上，而旋转器130的两侧为收集罩170(outercup)；接着，请参考图1b，玻璃基板100在静止的状态下，靠表面张力进行所谓的涂布(puddle)显影，此时，显影液正在与光致抗蚀剂层进行中和作用，之后，利用旋转器130高速旋转的过程，玻璃基板100上的显影液，将因离心力而离开玻璃基板100，以完成显影的程序，而其结果如图1c所示。
在图1b中的旋干(spin dry)过程，收集罩170的功能为收集飞离自玻璃基板100上的显影液，使显影液顺着收集罩170往下流，如箭头150所示，而不至于污染机台内部的其它组件。然而，利用高速旋转而离开玻璃基板100的显影液，其碰撞到收集罩170后，有可能反弹回玻璃基板100，如箭头160所示。此种回溅的现象，将导致光致抗蚀剂的图案变形，而产生缺陷113现象，进而降低产品的合格率。尤其，在玻璃基板100变薄的情形下，玻璃基板100边缘会增加上下起伏的幅度，将使回溅的情形更为严重。
因此，即使显影时间、显影剂浓度与温度等等显影条件控制得宜，在最后旋干的过程中，若有所疏失，仍会降低转移至光致抗蚀剂层的图案的精确性。
本发明针对此问题，提供一解决的方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防止一显影液体回溅至玻璃基板上的装置，以增加光致抗蚀剂层所转移图案的精确性。本发明的装置至少包括一旋转器，其上放置玻璃基板，并利用该旋转器的旋转运动，使玻璃基板与显影液分离；一侧壁，其环绕于旋转器的周围，以防止显影液飞溅至侧壁之外；以及一缓冲棉，其贴于侧壁的内侧，以防止显影液由侧壁回溅至玻璃基板上。其中，侧壁为一不锈钢材质。本发明的缓冲棉具有吸震与抗腐蚀性的效果，也可以有吸水的功能，而其表面可为波浪状或粗糙状。
图1a至图1c为依据现有的显影装置，其显示显影的流程；图2a至图2d为依据本发明的显影装置，其显示显影的流程。
具体实施例方式
本发明提供一种在显影制作工艺中，避免显影液回溅至玻璃基板的装置。
请参考图2a，首先，在一旋转器230之上提供一玻璃基板200。玻璃基板200已涂布一主要由树脂、感光剂及溶剂所组成的光致抗蚀剂层210，其中，树脂的功能是作为黏合剂(binder)，感光剂则是一种光活性(photoactivity)极强的化合物。
当适当厚度的光致抗蚀剂层覆盖在玻璃基板200上之后，玻璃基板200会经过一道软烤(soft bake)的过程，以将光致抗蚀剂内的溶剂，由加温蒸发而加以排出，以增加光致抗蚀剂对玻璃基板表面的附着能力。接着，以一具有图案的光掩模为屏蔽，对玻璃基板200进行曝光，因此，此时在光致抗蚀剂层210中，具有转移自光掩模的潜在性图案。
在图2a中的旋转器230上，即提供此具有潜在性图案的光致抗蚀剂层210的玻璃基板200，并开始进行显影的制作工艺，其中，旋转器230的两侧为收集罩(outer cup)270，且收集罩上贴有吸水棉280，以利后续的制作工艺。在此步骤中，一显影剂供给器260依垂直纸面的方向，在玻璃基板200上涂布显影液220于具有潜在性图案的光致抗蚀剂层210上。玻璃基板200在静止的状态下，显影液与光致抗蚀剂层210进行中和作用。
接着，请参考图2b，中和作用后以一清洗液供给器290清洗，并利用旋转器230高速旋转的过程，其过程如图2c所示，玻璃基板200上的显影液与清洗液，将因离心力而离开玻璃基板200，以完成显影的程序，显影后的情形如图2d所示。
在旋转器230高速旋转的过程中，显影液220混合清洗液也会同样以高速离开玻璃基板210，当其碰到收集罩270之后，会有一撞击的作用力，同时也会有一反作用力，若因角度上的巧合，有可能会再次回到玻璃基板200之上。因此，本发明即在收集罩270上贴附一吸水棉280，该吸水棉280不但具有吸水的效果，而且有避震与缓冲的功能，以吸收显影液220碰到收集罩270的作用力。由于显影液220具有腐蚀性，因此，本发明所使用的吸水棉280需具有抗腐蚀的特性。较佳者，吸水棉280的表面为粗糙且具有波浪的设计，以增加其缓冲的效果。
而值得注意的是，一仅仅具有吸收作用力的缓冲棉，也可应用于本发明，缓冲棉使显影液220不致于回溅至玻璃基板200上，显影液220可自然顺着收集罩270，依着箭头250的方向往下流，同样可在不污染显影反应室其它组件的情况下，达到防止显影液220回溅至玻璃基板200上的效果。
所以，通过提供具有缓冲功能的显影装置，本发明可避免显影液的回溅，进而改善光致抗蚀剂层因回溅所导致的缺陷现象，以提高产品的合格率。
综上所述，虽然结合以上一较佳实施例揭露了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围应以权利要求所界定的为准。
权利要求
1.一种防止一液体回溅至一物体上的装置，该液体原本位于该物体内，该装置至少包括一旋转器，其上放置该物体，并利用该旋转器的旋转运动，使该物体与该液体分离；一侧壁，其环绕于该旋转器的周围，以防止该液体飞溅至该侧壁之外；以及一缓冲棉，其贴于该侧壁的内侧，以防止该液体由该侧壁回溅至该物体上。
2.如权利要求1所述的装置，其中该侧壁为一不锈钢材质。
3.如权利要求1所述的装置，其中该物体为一玻璃基板。
4.如权利要求4所述的装置，其中该液体为显影液。
5.如权利要求1所述的装置，可应用在显影制作工艺中。
6.如权利要求1所述的装置，其中该缓冲棉具有波浪状的表面。
7.如权利要求1所述的装置，其中该缓冲棉具有粗糙的表面。
8.如权利要求1所述的装置，其中该缓冲棉具有抗腐蚀性。
9.如权利要求1所述的装置，其中该缓冲棉具有吸震的效果。
10.如权利要求1所述的装置，其中该缓冲棉具有吸水的功能。
全文摘要
本发明提供一种防止一液体回溅至一物体上的装置，尤其是涉及一种应用于显影制作工艺的防止回溅装置，其至少包括一旋转器，其上放置上述的物体，利用旋转器的旋转运动，使物体与液体分离；一侧壁，其环绕于旋转器的周围，以防止液体飞溅至侧壁之外；以及一缓冲棉，其贴于侧壁的内侧，以防止液体由侧壁回溅至物体上。
文档编号H01L21/027GK1567093SQ0314846
公开日2005年1月19日 申请日期2003年6月30日 优先权日2003年6月30日
发明者曾士庭, 钟昱正, 郭丁瑞 申请人:友达光电股份有限公司