一种多功能触摸显示屏及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种触摸显示屏技术领域，尤其是涉及一种多功能触摸显示屏及其制造方法。
【背景技术】
[0002]随着社会的进步和科技的发展，手机、电脑、电视已广泛进入人们的工作和生活中，目前市面上手机、电脑、电视所带的显示屏以液晶、LED、LCD为主，随着人们对电脑、电视等带有显示屏的电子设备的使用时间的日益增长，这些显示屏内所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。
[0003]蓝光是波长为400-500nm的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。
[0004]现有的触摸显示屏在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，触摸显示屏的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的触摸显示屏较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从触摸显示屏上感染细菌，给人体造成伤害。因此市场上迫切需要出现一种带有抗菌、防蓝光、防炫目功能的耐磨的触摸显示屏来取代现有的传统显示屏。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有高耐磨性和防炫目功能，适于夜间使用的多功能触摸显示屏及其制造方法。
[0006]为实现上述目的，本发明采用以下技术方案:
一种多功能触摸显示屏，包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-1OOnm;所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm;所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm;所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5_20nm;所述第九膜层为ITO层，第九膜层的厚度为1-1OOnm;所述第十膜层为高硬度层，厚度为10-50nm;所述第^ 膜层为氟化物层，第^ 膜层的厚度为3-10nmo
[0007]所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
[0008]所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型;所述银的氧化物为Ag20、Ag0 或 Ag2〇3。
[0009]所述氟化物层为电阻蒸镀成型的氟化镁层。
[0010]所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
[0011]所述基片由树脂或玻璃成型。
[0012]本发明还公开一种多功能触摸显示屏的制造方法，所述触摸显示屏的基片由树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥；
2)对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50_70°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第三膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7A/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第五膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7A/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1A/S，第七膜层最终形成后的厚度为5_20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第八膜层的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1A/S，第八膜层最终形成后的厚度为5_20nm的薄层的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、AgO或Ag2〇3 ；
1、镀第九膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1A/S，第九膜层最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层；
J、镀第十膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7A/S，第十膜层最终形成后的厚度为10_50nm;其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第^^一层膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电阻加热第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5A/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层的膜材为氟化物，形成氟化物层。
[0013]所述的步骤I)中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片放在真空蒸镀机的真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。
[0014]当所述触摸显示屏的基片由玻璃成型时，所述制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥；
2)对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50