专利名称：紫外消毒系统水位控制装置的利记博彩app
专利说明
背景技术：
众所周知，水渠式紫外线消毒系统需要保持一定的水位以保证消毒效果，若水流量增大超过有效的杀菌水位，将会使部分水未经消毒直接排出，影响总体效果，因此需要控制水位使其保持在一定的高度。在现有的紫外线水消毒系统的水渠中，常用的水位控制装置有两种形式，一种是装设单片机系统控制液位，如
图1所示，包含装设液位传感器4和液位控制阀门5，系统正常运行即水位不超过液位传感应器4预设值时，液位控制阀门5关闭；当水量增大超过预设值时，液位传感器4传递信号至单片机控制系统，控制系统发出指令，液位控制阀门5开启放水，水位恢复正常后，液位控制阀门5关闭。
另一种是在消毒水渠的末端设置过水堰14作为消毒渠道的出水口，并在过水堰14上装设水压控制阀门6保持水位，如图2所示。系统正常运行即水压在正常值范围内时，水压控制阀门(6)关闭，消毒后的水由过水堰顶部排出。当水流量增大时，水压增大，水压控制阀门6开启放水，水压恢复正常后水压控制阀门6关闭。另上述两种方案中，需加设阀门，由水的压力控制或液位传感器和单片机系统控制，系统设备多，安装及维护不方便，且可靠性不高。
溢流槽的尺寸、个数和排放位置根据系统最高水位限位高度、系统流量变化范围和水渠的几何长度确定。当流量增大使水渠内的水面高于槽的上表面时，高于溢流槽顶面的水越过槽的上表面流入槽中，经槽的出水口排入系统的出水渠，使水流量在设计流量范围内变化时，水渠内的水位始终保持在系统的最高限位水位H2和最低水位限位之间，达到满意的杀菌效果。
此装置与上述现有的紫外线消毒系统中的液位控制装置相比能可靠保持液位而无需任何电力和附加设备，结构简单，易维护，运行可靠、安全、节能。
图7b是本实用新型实施例二的剖视图图8是本实用新型实施例二的消毒系统C-C向视图图中1为电控柜，2为消毒水渠，3为紫外灯架，4为液位传感器，5为液位控制阀门，6水压控制阀门7为溢流槽，8为溢流槽出水口，9为出水渠，10为格栅，11为阀门，12为溢流槽架设孔，13为溢流槽架设板，14为过水堰。H1为消毒水渠顶面，H2为最高水位限位，H3为系统最低水位限位，H4为溢流槽顶面，最高水位限位H2略高于溢流槽的顶面。
实施例一如图4。在消毒水渠2的两个侧壁上开孔作为溢流槽架设孔12，一侧或两侧的开孔开成通孔作为出水口，在紫外消毒灯架3的后方沿水流方向架设若干个溢流槽7，溢流槽7的出水口8延伸至溢流槽架设孔12的外壁，溢流槽7的出水排至出水渠9后排出。
实施例二中如图7和图8所示，溢流槽7架设在水渠内，在水渠的两个侧壁和水渠的末端开孔作为溢流槽架设孔12，溢流槽架设板13架设在消毒渠侧壁的溢流槽架设孔12上，用于支撑溢流槽7。溢流槽7在紫外灯架3的后方沿水渠方向架设在溢流槽架设板13上，溢流槽7的末端架设在消毒渠末端的溢流槽架设孔12中，消毒渠末端的溢流槽架设孔12开成通孔用于出水。
权利要求1.一种紫外消毒系统水位控制装置，其特征在于包含消毒水渠(2)、溢流槽架设孔(12)和溢流槽(7)，溢流槽(7)架设在紫外灯架(3)后方靠近消毒水渠(2)末端的位置。兼做消毒系统的出水口。
2.如权利要求1所述的紫外消毒系统水位控制装置，其特征在于溢流槽(7)的顶面与紫外线消毒系统的最低限位水位H3在同一水平面或略低于系统的最低限位水位H3，溢流槽(7)的侧面开口，作为出水口与消毒系统的出水渠(9)相连。
3.如权利要求1所述的紫外消毒系统水位控制装置，其特征在于溢流槽(7)为长方体形槽或其他非长方体的形状。
专利摘要一种紫外消毒系统水位控制装置，包含消毒水渠、溢流槽架设孔和溢流槽。溢流槽镶嵌在紫外线消毒系统的灯架后方靠近水渠末端的位置，兼做消毒系统的出水口，当系统流量增大使水渠内的水面高于槽的上表面时，高于溢流槽顶面的水越过槽的上表面流入槽中，经槽的出水口排入系统的出水渠，使水渠内的水位保持在系统的最高限位水位和最低限位水位之间，达到保持液位的目的，也可以用于其他需要控制液位的系统中。
文档编号G05D9/00GK2537036SQ0220347
公开日2003年2月19日 申请日期2002年2月6日 优先权日2002年2月6日
发明者陈健, 章志强 申请人:福建新大陆环保科技有限公司