一种极转动惯量测试设备释放机构的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种惯量测量辅助机构，具体是一种极转动惯量测试设备释放机构。
【背景技术】
[0002]随着机械行业的迅速发展，回转体在船舶设备、工程机械、轻工机械、冶金机械、医疗机械、工业机械人、隧道掘进机、旋转舞台灯行业得到了广泛的应用。
[0003]回转体在出厂之前，需要检测回转体的承载能力和回转体的使用寿命，以判断回转体的承载能力。现有的检测方式都是将回转轴承装配到一些专用的使用设备上进行检测，不仅安装过程复杂，成本较高；并且利用现有技术进行测量时，均是采用人工方式进行摆架的初始扭摆，转动的角度不易控制。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种结构简单、使用方便的极转动惯量测试设备释放机构，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0006]一种极转动惯量测试设备释放机构，包括底座、光轴、滑块、前轴承座、后轴承座、轴承、手柄和手柄座，所述前轴承座和后轴承座分别安装在底座的前方和后方，所述滑块安装在前轴承座和后轴承座之间的底座上，滑块前侧和后侧面的中间位置均安装有直线轴承，所述光轴穿过直线轴承连接在前轴承座和后轴承座之间，所述轴承安装在滑块的上方，所述手柄通过手柄座安装在滑块的后方。
[0007]作为本实用新型进一步的方案:所述底座上设有安装凹槽。
[0008]作为本实用新型再进一步的方案:所述安装凹槽设有两个。
[0009]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:
[0010]本实用新型在摆架转动一定预摆角度后能锁住摆架，并在释放摆架过程中不会对摆架有法向作用力。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合【具体实施方式】对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
[0013]请参阅图1，一种极转动惯量测试设备释放机构，包括底座1、光轴2、滑块4、前轴承座5、后轴承座6、轴承7、手柄8和手柄座9，所述前轴承座5和后轴承座6分别安装在底座I的前方和后方，所述滑块4安装在前轴承座5和后轴承座6之间的底座I上，滑块4前侧和后侧面的中间位置均安装有直线轴承3，所述光轴8穿过直线轴承3连接在前轴承座5和后轴承座6之间，所述轴承7安装在滑块4的上方，所述手柄8通过手柄座9安装在滑块4的后方，所述底座I上设有两个安装凹槽10。
[0014]所述极转动惯量测试设备释放机构是由两根光轴2做导轨，一个滑块4上安装两个直线轴承3在光轴2上滑动，推动手柄8带动滑块4上的轴承7前后滑动，滑动方向与摆架转动方向成90°，前滑至顶端时轴承7与摆架上的定位面接触并锁住摆架，后滑时轴承脱离摆架，摆架开始自由扭摆。
[0015]本实用新型在摆架转动一定预摆角度后能锁住摆架，并在释放摆架过程中不会对摆架有法向作用力。
[0016]上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。
【主权项】
1.一种极转动惯量测试设备释放机构，其特征在于，包括底座(I)、光轴(2)、滑块(4)、前轴承座(5)、后轴承座(6)、轴承(7)、手柄(8)和手柄座(9)，所述前轴承座(5)和后轴承座(6 )分别安装在底座(I)的前方和后方，所述滑块(4)安装在前轴承座(5 )和后轴承座(6 )之间的底座(I)上，滑块(4)前侧和后侧面的中间位置均安装有直线轴承(3)，所述光轴(8)穿过直线轴承(3)连接在前轴承座(5)和后轴承座(6)之间，所述轴承(7)安装在滑块(4)的上方，所述手柄(8)通过手柄座(9)安装在滑块(4)的后方。2.根据权利要求1所述的极转动惯量测试设备释放机构，其特征在于，所述底座(I)上设有安装凹槽(10)。3.根据权利要求1-2任一所述的极转动惯量测试设备释放机构，其特征在于，所述安装凹槽(10)设有两个。
【专利摘要】本实用新型公开了一种极转动惯量测试设备释放机构，包括底座、光轴、滑块、前轴承座、后轴承座、轴承、手柄和手柄座，所述前轴承座和后轴承座分别安装在底座的前方和后方，所述滑块安装在前轴承座和后轴承座之间的底座上，滑块前侧和后侧面的中间位置均安装有直线轴承，所述光轴穿过直线轴承连接在前轴承座和后轴承座之间，所述轴承安装在滑块的上方，所述手柄通过手柄座安装在滑块的后方，所述底座上设有两个安装凹槽。本实用新型在摆架转动一定预摆角度后能锁住摆架，并在释放摆架过程中不会对摆架有法向作用力。
【IPC分类】G01M1/02, G01M1/10
【公开号】CN204758216
【申请号】CN201520593664
【发明人】史国权, 李俊烨, 赵友, 王德民, 张心明, 戴正国, 房洪蛟, 宋斌
【申请人】长春理工大学
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年8月10日