光分布测量仪的利记博彩app

本发明是关于一种光分布测量仪，特别是关于一种具有轨道的光分布测量仪。

背景技术：

当光线通过材质时，光线除了折射、反射、吸收等现象外，也会伴随着散射现象。不同的材质与表面，光线散射的特性也不同。物体表面散射特性可用双向散射分布函数BSDF(bi-direction scattering distribution function)表达，BSDF为与角度相依的函数，跟光线入射的角度与光线散射的角度有关，英文字意bi-direction指的即是光线入射与光线散射的方向。

物体表面的散射特性以双向散射分布函数(BSDF，bidirection scattering distribution function)描述时，其要旨为测量物体表面对光的散射程度，广泛的应用在纺织、化妆品、涂料、照明、3D计算机绘图、以及显示器等与光泽、光学相关的产业。

而物体表面散射特性的实际应用，必须仰赖测量设备取得各角度的散射能量，以及后端的数据处理与模型参数拟合，才能运用于各种类型的设计与模拟。如反射罩、导光板、扩散膜、增亮膜(bright enhanced film,BEF)等各部件的散射特性与模块效能息息相关，掌握各部件的散射特性，有助于设计者在提升导光板导引效率与优化面板照度与均匀度的准确性；而在光学镜头制作上，借由测量光学及机构部件的表面性质并可预测杂散光位置与能量，并加以有效的改善。

基本上，在测量过程中，散射能量强度会与传感器与仪器架构相关，最终BSDF再以反应出材质表面的特性。

然而，现今的散射仪大多着眼较高动态范围(dynamic range)、灵敏度以及低噪声等特点的改良或创新。对于定量散射数值的测量则仍会产生装置对光遮蔽或改变取像角度时影响光源对于待测物的入射角度，而导致测量准确性产生缺失。

有鉴于此，如何发展出一种创新发明，可使光分布测量能获得较小的光遮蔽，而且在取像系统改变取像角度时，也不会影响待测物系统中的光源对于待测物的入射角度，而能确保测量的精准，便成为光学、材料等领域所引颈企盼，并可逐步建立材质散射特性数据库，协助光学设计者、制造业者、研究单位等更准确地掌握材质特性，而于产品之设计、仿真、分 析、制作以及与应用上能更臻完善。

技术实现要素：

本发明提出一种光分布测量仪，其解决的技术问题为使待测物系统旋转或移动至指定的取像角度时光分布测量能获得较小的光遮蔽，取像系统改变取像角度时，不会影响待测物系统中的光源对于待测物的入射角度，确保测量的精准。

本发明解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。

一种光分布测量仪，其包括：待测物系统，其包括有：弧形支具，其具有自基点向弧形的中心方向延伸设置的载物台，用以承载待测物；轨道基座，用以承载该弧形支具，又该轨道基座设有第一轨道、第一马达及第二马达，该第一马达用以控制该轨道基座进行以第一轴线为轴心的旋转；该第二马达用以控制该弧形支具在该轨道上移动，其中该第一轴线为该轨道基座的中心轴；取像系统，设置于该载物台的一侧，其包括：屏幕，该待测物所散射的光分布信息投射至该屏幕，且显现于该屏幕的表面；取像器，与该屏幕相对设置，用以撷取并记录该屏幕的该表面的光分布信息。

本发明解决其技术问题还可以通过以下技术措施来实现。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该取像器由镜头及影像侦测器所组成。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该待测物系统进一步包括第三马达，固定于该载物台的该基点上，用以控制该载物台进行以第二轴线为轴心的旋转。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该载物台为载物轨道。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该待测物系统进一步包括第四马达，连接该载物台，并控制该待测物沿着该载物轨道进行转动。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该待测物系统进一步包括光源，设置于该弧形支具的一端，其中该光源为聚光模块，其包含有至少发光体、导光筒、散热片及聚光透镜。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该第二轴线为该光源照射至该待测物的光点的中心延伸过该基点的延伸线。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该聚光透镜是将该发光体发射的光线放大成像，又该聚光透镜的放大率介于2至20之间。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该导光筒的侧壁的光吸收率大于90％。

较佳的，上述的光分布测量仪，其中该屏幕结合遮光层，该遮光层并具有二维分布的多个透光孔。

较佳的，上述的光分布测量仪，其进一步在该屏幕及该取像器之间设置有光栅。

较佳的，上述的光分布测量仪，其进一步在该镜头及该影像侦测器之间设置有光栅。

本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本发明一种光分布测量仪可达到相当的技术进步性及实用性，并具有产业上的广泛利用价值，其至少具有下列优点：

一、可使待测物系统旋转或移动至指定的取像角度，使光分布测量因轨道的设计而能获得较小的光遮蔽。

二、以轨道承载待测物系统，使得取像系统改变取像角度时，不会影响待测物系统中的光源对于待测物的入射角度，确保测量的精准。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。

附图说明

图1为本发明实施例的一种光分布测量仪的系统图；

图2为本发明实施例的一种光分布测量仪进一步包括第三马达的示意图；

图3为本发明实施例的一种光分布测量仪进一步包括第三马达及第四马达的示意图；

图4为本发明实施例的一种光源的示意图；

图5A为本发明实施例的一种具有二维分布的多个透光孔的遮光层的示意图；

图5B为本发明实施例的一种屏幕结合遮光层的示意图；

图6A为本发明实施例的一种取像器前设置光栅的示意图；

图6B为本发明实施例的一种镜头及影像侦测器间设置光栅的示意图；

图7为本发明实施例的一种弧形支具及载物台在轨道基座上移动的示意图。

【主要组件符号说明】

100： 光分布测量仪 110： 待测物系统

120： 取像系统 10： 弧形支具

11： 基点 12： 载物台

20： 轨道基座 21： 第一轨道

31： 第一马达 32： 第二马达

33： 第三马达 34： 第四马达

41： 第一轴线 42： 第二轴线

50： 屏幕 51： 表面

60： 取像器 61： 镜头

62： 影像侦测器 70： 光源

71： 发光体 72： 导光筒

73： 散热片 74： 聚光透镜

80： 遮光层 81： 透光孔

90： 光栅 200： 待测物

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定的目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种光分布测量仪其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参阅图1所示，为实施例的一种光分布测量仪100，其包括待测物系统110以及取像系统120。待测物系统110包括有弧形支具10及轨道基座20；取像系统120包括有屏幕50及取像器60。

如图1所示，弧形支具10，其具有自基点11向弧形的中心方向延伸设置的载物台12，用以承载待测物200。基点11的位置并无特殊的限定，但靠近弧形支具10的中间部份，一般说来为较佳的应用选择。

如图1所示，轨道基座20，用以承载弧形支具10，又轨道基座20设有第一轨道21、第一马达31及第二马达32。第一马达31用以控制轨道基座20进行以一个第一轴线41为轴心的旋转；而第二马达32则用以控制弧形支具10在第一轨道21上移动。其中，所述的第一轴线41为轨道基座20的中心轴。

同样如图1所示，取像系统120，设置于载物台12的一侧，取像系统120包括屏幕50及取像器60。该待测物200所散发的光分布信息投影至屏幕50，且显现于屏幕50的一个表面51上。但若待测物200为自发光体，则不须使用探测光线照射，便能将表面51散发光的光分布信息投影至屏幕50。

如图1、图6A及图6B所示，取像器60，则是与屏幕50相对设置，用以撷取并记录在屏幕50的表面51上，待测物200投影至屏幕50的光分布信息，而取像器60可以为镜头61及影像侦测器62所组成，当然取像器60也可以选择使用照相机、摄影机、或是其他的成像装置。

如图2所示，待测物系统110可以进一步包括第三马达33。第三马达33固定于载物台12的基点11上，用以控制载物台12进行以第二轴线42 为轴心的旋转。

接着，请参阅图3所示，包括有第三马达33的待测物系统110可以进一步再包括一个第四马达34。第四马达34可以固设并连接于载物台12，并控制待测物200进行转动。

另外，载物台12又可以是一个载物轨道。而在载物台12为一个载物轨道时，第四马达34可以控制待测物200沿着载物轨道进行转动。

如图2、图3及图4所示，待测物系统110可以进一步包括光源70，设置于弧形支具10的一端。其中，光源70可以使用包含有至少发光体71、导光筒72、散热片73及聚光透镜74的聚光模块。

此时，第三马达33控制载物台12进行旋转的第二轴线42，为光源70照射至待测物200的光点的中心延伸过基点11的延伸线。

在待测物200为非自发光体之时，需使用光源70照射待测物200，方能撷取待测物200表面51所散射出的光分布信息。

所述的聚光透镜74可以将发光体71发射的光线放大成像至待测物200的中心点为中心，前后各5厘米的区间。又，聚光透镜74可以为凹凸透镜或平凸透镜，所使用的聚光透镜74的放大率可以介于2至20之间。

前述的前后各5厘米的区间，则指光源70至待测物200中心的联机上，以待测物200的中心点为基准，前后各5厘米的区间。

至于导光筒72，则可以使用导光筒的侧壁的光吸收率大于90％的导光筒72。导光筒72的使用可以限制光源70，使发光体71发出的光线经过聚光透镜74照射至待测物200时，能降低照射待测物200的张角，而能减少能量损耗。

接下来，请参阅图5A及图5B所示，屏幕50可以结合遮光层80，而遮光层80并具有二维分布的多个透光孔81。如此，可以不经数字处理，直接撷取待测物200所散射的二维光分布信息。

再者，如图6A所示，光分布测量仪100，可以进一步在屏幕50及取像器60之间设置光栅90。光栅90的设置主要可以在必要时对进入取像器60的影像侦测器62的光分布信息先进行分光。

如图6B所示，光栅90也可以设置于取像器60的镜头61与影像侦测器62之间。

总而言之，如图7所示，借由第一轨道21或者是第一轨道21加上载物台12的实施，可以将待测物系统110旋转至指定的取像角度，使光分布测量因而能不产生光遮蔽。另一方面，轨道承载待测物系统110，更可以在取像系统120改变取像角度时，不会影响待测物系统110中的光源70对于待测物200的入射角度。

而当待测物200为自发光物体时，更不需要光源70或改变光源70对 于待测物200的入射角度，而只要转动第一马达31及第二马达32使取像角度改变即可。

而若是待测物200非为自发光物体，而是具备等向性的散射样品，则在进行测量时，只需再加上第三马达33，来使弧形支具10在第一轨道21上转动，改变光源70发出的光线入射至待测物200的角度即可，此时第四马达34可以被省略或不动作。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。