专利名称：检测基片转速装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种检测基片转速装置，具体地说，涉及在对用于生产半导
体晶片的圆形硅基片，用于生产计算机磁记录存储器(HDD)介质的玻璃、陶瓷 和铝质圆形基片，用于生产光学记录存储器光盘(CD)、数字通用光盘(DVD) 塑料圆形基片，用于生产光学器件的玻璃圆形基片的碾磨、化学机械抛光、清 洗装置中，检测圆形基片转速的装置。
背景技术：
圆形硅基片，玻璃、陶瓷、塑料和铝质圆形基片广泛应用于半导体、计算机、 信息工业、及民用产品中。在基片的生产过程中，必需对基片反复进行碾磨、 化学机械抛光(CMP， Chemical mechanical polishing),通过使用去离子水(DIW)
或化学品的湿法清洗工艺，去除残留在表面的化学物质、小颗粒和其它杂质， 降低基片的表面粗糙度，提高基片的表面光洁性，从而提高产品的成品率。
在现有的基片碾磨、化学机械抛光、清洗装置中，基片或水平或垂直放置。 液体注入组件提供基片所需的碾磨剂、化学机械抛光液体、清洗液体，或将基 片浸人充满碾磨剂、化学机械抛光液体、清洗液体的容器中，以提高基片的碾 磨、化学机械抛光、清洗效果。基片的碾磨、化学机械抛光、清洗过程由一对 或水平或垂直平行安装、做方向相反的旋转运动、与基片表面接触的碾磨抛光 清洗组件来完成，同时驱动基片旋转。
在基片的碾磨、化学机械抛光、清洗工艺中，基片的旋转是一个重要的参量， 它直接影响到基片的碾磨、化学机械拋光、清洗效果。然而，由于使用碾磨剂、化学机械抛光液体、清洗液体，又基片光滑，或透明或完全不透明，且没有明 显的结构特征，因而在现有的碾磨、化学机械抛光、清洗装置中，很难直接通 过检测装置对基片旋转作出检测，从而无法判断基片是否以工艺要求设定的速 度旋转，以及对碾磨、化学机械抛光、清洗装置的工作状况进行监测，影响设 备的生产效率和基片的成品率。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种检测基片转速装置，用于在 基片的碾磨、化学机械抛光、清洗装置中，对基片旋转作出检测。用于本实用 新型的基片可以是圆形硅基片，磁记录介质基片，以及具有相似形状结构的其 他圆形盘状基片。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是-
一种检测基片转速装置，包括驱动组件，其旋转速度为N1，用于驱动主 动轮组件旋转；主动轮组件，其旋转速度为N2，用于支撑基片及驱动基片旋转； 从动轮组件，其旋转速度为N3，用于支撑基片；以及转速轮组件及转速测量传 感器，其旋转速度为N4，用于测量转速轮组件旋转速度；其中，主动轮组件与 从动轮组件并行排列，支撑及驱动基片旋转，转速测量传感器安装在转速轮组 件附近，转速轮组件由从动轮组件驱动。
当驱动组件以旋转速度Nl驱动主动轮组件以旋转速度N2旋转，若传动件 没有打滑或异常，则主动轮组件旋转速度N2与驱动组件旋转速度Nl相等；当 主动轮组件以旋转速度N2驱动基片旋转，基片驱动从动轮组件以旋转速度N3 旋转，若主动轮组件、从动轮组件及基片间没有打滑或异常，则主动轮组件旋 转速度N2与从动轮组件旋转速度N3相等；当从动轮组件以旋转速度N3驱动转速轮组件以旋转速度N4旋转，若传动件没有打滑或异常，则转速轮组件旋转速 度N4与从动轮组件旋转速度N3相等。即是有且仅有驱动组件旋转速度Nl与 转速轮组件旋转速度N4相等，则基片以工艺要求设定的速度NO旋转，且碾磨、 化学机械拋光、清洗装置的工作状况无异常。
若驱动组件、主动轮组件、从动轮组件、转速轮组件及传动件间有打滑或 异常，则将造成驱动组件旋转速度Nl与转速轮组件旋转速度N4不相等，从而 可监测到基片未以工艺要求设定的速度NO旋转，或碾磨、化学机械抛光、清洗 装置的工作状况出现异常，需对装置进行检测。
前述的检测基片转速装置，其中主动轮组件主动轮直径与从动轮组件从动 轮直径相等，或主动轮组件主动轮直径与从动轮组件从动轮直径以一定比例设 置。
前述的检测基片转速装置，其中主动轮组件可由驱动组件通过传动件驱 动，也可由驱动组件直接驱动。
前述的检测基片转速装置，其中转速轮组件可由从动轮组件通过传动件驱 动，也可直接安装在从动轮组件上。
前述的检测基片转速装置，其中转速测量传感器可是光电传感器，也可是 电磁传感器。
本实用新型的有益效果是，通过比较驱动组件旋转速度与由转速测量传感器 检测到的转速轮组件旋转速度，对基片旋转作出检测，同时对碾磨、化学机械 抛光、清洗装置的工作状况进行监测，从而提高设备的生产效率和基片的成品 率。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型检测基片转速装置一个实施例的立体结构示意图。
图2是本实用新型检测基片转速装置一个实施例的正面构造示意图。
具体实施方式
本实用新型检测基片转速装置，用于在碾磨、化学机械抛光、清洗装置中 对基片旋转作出检测。其中所涉及的基片，包括用于生产半导体晶片的圆形硅 基片，用于生产计算机磁记录存储器介质的玻璃、陶瓷和铝质圆形基片，用于生 产光学记录存储器光盘、数字通用光盘的塑料圆形基片，及用于生产光学器件的 玻璃圆形基片。为方便说明，在下面实施例中所提及的"基片"是表示上述各 种基片，用101表示。
图1是本实用新型检测基片转速装置一个实施例的立体结构示意图。在图1 所示实施例中，检测基片转速装置由驱动组件105，主动轮组件103，从动轮组
件104，转速轮组件106及转速测量传感器109安装在支撑板102上构成。主动 轮组件103与从动轮组件104并行排列，驱动组件105通过传动件107驱动主 动轮组件103旋转，从动轮组件104通过传动件108驱动转速轮组件106旋转。 在碾磨、化学机械抛光、清洗装置对基片101进行碾磨、化学机械抛光、清洗 过程中，碾磨、抛光、清洗组件lll、 112以一定压力挤压在基片101的两表面 上，且做相对旋转运动，对基片101进行碾磨、抛光、清洗。同时由于碾磨、 抛光、清洗组件lll、 112相对旋转运动在基片101表面上产生的摩擦力，将基 片101挤压在主动轮组件103和从动轮组件104上。主动轮组件103通过与基 片101间摩擦力驱动基片101按工艺要求设定的速度旋转，而基片101通过与 从动轮组件104间的摩擦力驱动从动轮组件104旋转，经由传动件108，转速测量传感器109可检测转速轮组件106的旋转速度。
在本实用新型检测基片转速装置的实施例中，当基片101与碾磨、抛光、清 洗组件111、 112垂直布置，主动轮组件103和从动轮组件104可以安装在基片 101与碾磨、抛光、清洗组件111、 112的上方，也可以安装在其下方；当基片 101与碾磨、抛光、清洗组件lll、 112水平布置，主动轮组件103和从动轮组 件104可以安装在其前方或后方。主动轮组件103的主动轮直径与从动轮组件 104从动轮直径可相等设置，也可以一定比例设置。主动轮组件103可通过传动 件107由驱动组件105驱动旋转，也可由驱动组件105直接驱动。转速轮组件 106可通过传动件108由从动轮组件104驱动旋转，也可直接安装在从动轮组件 104上。转速测量传感器109可是光电传感器，也可是电磁传感器。
图2是本实用新型检测基片转速装置一个实施例的正面构造示意图。如图2 所示，驱动组件105以方向121旋转，其旋转速度为N1;驱动组件105通过传 动件107驱动主动轮组件103以方向122旋转，其旋转速度为N2;主动轮组件 103通过与基片101间摩擦力驱动基片101以方向120旋转，其旋转速度为NO; 基片101通过与从动轮组件104间的摩擦力驱动从动轮组件104以方向123旋 转，其旋转速度为N3;从动轮组件104通过传动件108驱动转速轮组件106以 方向124旋转，其旋转速度为N4;转速测量传感器109检测转速轮组件106的 旋转速度N4。
本实用新型检测基片转速装置的实施例检测技术方案如下
当驱动组件105以旋转速度Nl驱动主动轮组件103以旋转速度N2旋转， 若传动件107没有打滑或异常，则主动轮组件103旋转速度N2与驱动组件105 旋转速度Nl相等；当主动轮组件103以旋转速度N2驱动基片101旋转，基片 101驱动从动轮组件104以旋转速度N3旋转，若主动轮组件103，从动轮组件104及基片101间没有打滑或异常，则主动轮组件103旋转速度N2与从动轮组 件104旋转速度N3相等；当从动轮组件104以旋转速度N3驱动转速轮组件106 以旋转速度N4旋转，若传动件108没有打滑或异常，则转速轮组件106旋转速 度N4与从动轮组件104旋转速度N3相等。即是有且仅有驱动组件105旋转 速度Nl与转速轮组件106旋转速度N4相等，则基片101以工艺要求设定的速 度NO旋转，且碾磨、化学机械抛光、清洗装置的工作状况无异常。
若驱动组件105、主动轮组件103、从动轮组件104、转速轮组件106及传 动件间107、 108有打滑或异常，则将造成驱动组件105旋转速度Nl与转速轮 组件106旋转速度N4不相等，从而可监测到基片101未以工艺要求设定的速度 NO旋转，或碾磨、化学机械抛光、清洗装置的工作状况出现异常，需对装置进 行检测。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并未对本实用新型做任何形式 上的限制。凡是依据本实用新型的技术方案对上述实施例所作的任何简单修改、 变异及修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围。
权利要求1.一种检测基片转速装置，其特征是该检测基片转速装置包括驱动组件，用于驱动主动轮组件旋转；主动轮组件，用于支撑基片及驱动基片旋转；从动轮组件，用于支撑基片；以及转速轮组件及转速测量传感器，用于测量转速轮组件旋转速度；其中，主动轮组件与从动轮组件并行排列，支撑及驱动基片旋转，转速测量传感器安装在转速轮组件附近，转速轮组件由从动轮组件驱动。
2. 如权利要求1所述的检测基片转速装置，其特征是所述的主动轮组件主动轮直径与从动轮组件从动轮直径相等，或主动轮组件主动轮直径与从动轮组件从动轮直径以一定比例设置。
3. 如权利要求1所述的检测基片转速装置，其特征是所述的主动轮组件可由驱动组件通过传动件驱动，也可由驱动组件直接驱动。
4. 如权利要求1所述的检测基片转速装置，其特征是所述的转速轮组件可由从动轮组件通过传动件驱动，也可直接安装在从动轮组件上。
5. 如权利要求1所述的检测基片转速装置，其特征是所述的转速测量传感器可是光电传感器，也可是电磁传感器。
专利摘要一种检测基片转速装置，包括驱动组件，主动轮组件，从动轮组件，转速轮组件及转速测量传感器。主动轮组件和从动轮组件用于支撑基片及驱动基片旋转，转速测量传感器用于测量转速轮组件旋转速度。本实用新型通过比较驱动组件旋转速度与转速轮组件旋转速度，对基片旋转作出检测，同时对碾磨、化学机械抛光、清洗装置的工作状况进行监测，从而提高设备的生产效率和基片的成品率。
文档编号G01P3/42GK201387430SQ200920126839
公开日2010年1月20日 申请日期2009年3月30日 优先权日2009年3月30日
发明者谢鲜武 申请人:谢鲜武