专利名称：用于直写式光刻机的多区域真空吸盘的利记博彩app
技术领域：
本实用新型属于半导体光刻机领域技术领域，具体涉及用于直写式光刻机的真空吸盘。
背景技术：
真空吸盘是直写式光刻机必须的零部件，但现有的真空吸盘是一种规格只对应吸附一种硅片。这样的话，如果想要吸附不同大小的硅片，就要设计相对应的多个吸盘，即浪费了人力财力，又影响生产效率。针对以上的实际情况，本实用新型要解决的问题就是提供一种能吸附多个不同尺寸硅片的真空吸盘。
发明内容为了解决现有规格的真空吸盘不能实现对多种不同尺寸硅片进行吸附加工的问题，本实用新型提供一种改进结构的用于直写式光刻机的多区域真空吸盘。具体的技术解决方案如下用于直写式光刻机的多区域真空吸盘包括矩形盘状的吸盘本体，吸盘本体上均布设有六个安装孔，吸盘本体一侧面中部设有一圆形的空腔，空腔处通过螺钉设有腔盖；所述吸盘本体另一侧面上由一侧边缘向中部延伸设有一条安装槽，吸盘本体上均布设有两条以上的大半圆形的真空槽，其中最内侧的一条真空槽位于安装槽内，其它真空槽均环绕在安装槽外侧；每条真空槽的底部连通着一条进气管，进气管的进气口位于吸盘本体另一侧边缘；每条真空槽外侧的吸盘本体上设有两个挡销。所述吸盘本体上均布设有四条大半圆形的真空槽。四条真空槽底部连通的进气管的进气口均位于吸盘本体一侧的边缘。所述腔盖上设有密封圈。本实用新型的有益技术效果是，一个真空吸盘可吸附不同规格的硅片，避免了多种规格硅片吸盘的制作，降低生产成本；同时，避免了曝光过程中频繁更换硅片吸盘，提高了生产效率。
图1为本实用新型结构示意图。图2为图1的俯视图。图3为图2的A-A剖视图。
具体实施方式
以下结合附图，通过实施例对本实用新型作进一步地说明。实施例[0016]参见图1、图2和图3，用于直写式光刻机的多区域真空吸盘包括矩形盘状的吸盘本体1，吸盘本体1上均布开设有六个安装孔，吸盘本体1 一侧面中部开设有一圆形的空腔， 空腔处通过螺钉装有腔盖3，腔盖3上装有密封圈4。吸盘本体1另一侧面上由一侧边缘向中部延伸开设有一条安装槽，吸盘本体1上均布开设有四条大半圆形的真空槽，其中最内侧的一条真空槽位于安装槽内，其它真空槽均环绕在安装槽外侧；每条真空槽的底部连通着一条进气管，四条真空槽底部连通的进气管的进气口均位于吸盘本体一侧的边缘。其中第一真空区域由第一真空槽和第一进气管 1. 1构成，第二真空区域由第二真空槽和第二进气管1. 2构成，第三真空区域由第三真空槽和第三进气管1. 3构成，第四真空区域由第四真空槽和第四进气管1. 4构成，这样就得到了四个独立的真空区域。每条真空槽外侧的吸盘本体1上均安装有两个挡销2，实现吸附不同规格硅片的生产需要。
权利要求1.用于直写式光刻机的多区域真空吸盘，包括矩形盘状的吸盘本体，吸盘本体上均布设有六个安装孔，其特征在于吸盘本体一侧面中部设有一圆形的空腔，空腔处通过螺钉设有腔盖；所述吸盘本体另一侧面上由一侧边缘向中部延伸设有一条安装槽，吸盘本体上均布设有两条以上的大半圆形的真空槽，其中最内侧的一条真空槽位于安装槽内，其它真空槽均环绕在安装槽外侧；每条真空槽的底部连通着一条进气管，进气管的进气口位于吸盘本体另一侧边缘；每条真空槽外侧的吸盘本体上设有两个挡销。
2.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机的多区域真空吸盘，其特征在于所述吸盘本体上均布设有四条大半圆形的真空槽。
3.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机的多区域真空吸盘，其特征在于四条真空槽底部连通的进气管的进气口均位于吸盘本体一侧的边缘。
4.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机的多区域真空吸盘，其特征在于所述腔盖上设有密封圈。
专利摘要本实用新型涉及用于直写式光刻机的多区域真空吸盘。包括矩形盘状的吸盘本体，吸盘本体一侧面中部设有一圆形的空腔，空腔处通过螺钉设有腔盖；所述吸盘本体另一侧面上由一侧边缘向中部延伸设有一条安装槽，吸盘本体上均布设有两条以上的大半圆形的真空槽，其中最内侧的一条真空槽位于安装槽内，其它真空槽均环绕在安装槽外侧；每条真空槽的底部连通着一条进气管，进气管的进气口位于吸盘本体另一侧边缘；每条真空槽外侧的吸盘本体上设有两个挡销。本实用新型实现了一个真空吸盘可吸附不同规格的硅片，避免了多种规格硅片吸盘的制作，降低了生产成本；同时，避免了曝光过程中频繁更换硅片吸盘，提高了生产效率。
文档编号F16B47/00GK202221515SQ20112033558
公开日2012年5月16日 申请日期2011年9月8日 优先权日2011年9月8日
发明者刘文海, 王友车, 胡震, 赵华, 陈新宏, 项宗齐 申请人:合肥芯硕半导体有限公司