导电铜靶装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种导电铜靶装置，主要由驱动机构、移动机构、夹持机构以及翻转机构所构成。驱动机构带动移动机构进行位移，而翻转机构枢设于移动机构，并能在连接于夹持机构的组装位置与未连接于夹持机构的拆除位置之间摆动。藉此，翻转机构位于组装位置，而夹持机构夹固被镀物，使移动机构能带动夹持机构移动至电镀槽进行电镀作业，当被镀物在进行电镀作业时有产生任何异状，可将翻转机构翻转至拆除位置，使夹持机构从移动机构拆除下来，进而降低被镀物损坏的范围。
【专利说明】
导电铜靶装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种用于电镀作业的导电铜靶装置，特别是指一种能进行定速移动，并且通过翻掀翻转机构，使得夹持机构能分离于驱动装置的导电铜靶装置。
【背景技术】
[0002]—般电镀加工主要通过电解过程，在阳极与阴极输入电流后，吸引电镀液中的金属离子游至阴极，并且还原镀着于阴极所接续的被镀物上，同时阳极所接续的金属再溶解，提供电镀液更多的金属离子，使电镀过程持续进行，直到被镀物上沉积足够的镀层为止。
[0003]然而，一般电镀加工是通过现有导电铜靶装置I夹固被镀物，并在将一被镀物移动至电镀液中进行电镀，请参阅图1所示，所述现有导电铜靶装置I具有一夹持机构10以及一移动机构11，所述夹持机构10—侧具有一夹固于所述被镀物的夹持部101，另一相对侧具有一凸块102，而所述移动机构11具有一驱动单元111以及一装设于所述驱动单元111的推抵单元112，且所述驱动单元111能带动所述推抵单元112进行直线运动。
[0004]如图所示，于所述现有导电铜靶装置I具体应用时，所述夹持机构10的夹持部101夹固所述被镀物(图未示)，而所述移动机构11的驱动单元111带动所述推抵单元112进行移动，使所述推抵单元112碰触到所述夹持机构10的凸块102，进而所述夹持机构10受到所述推抵单元112的推动而将所述被镀物(图未示)移动至电镀液中进行电镀作业。
[0005]由于，所述夹持机构10是受到所述推抵单元112的推动而进行移动，因而，所述夹持机构10在移动上可能因为产生滑动现象而忽快忽慢，进而无法以定速的方式进行移动，致使所述被镀物(图未示)进行电镀作业时，可能无法得到较佳良率的镀层，严重则可能导致所述被镀物(图未示)损坏而无法再使用。
[0006]有鉴于此，现有导电铜靶装置在进行电镀作业时仍有不足之处，实有改良现有导电铜靶装置之必要，藉由创造出一种能将夹持机构进行定速移动的导电铜靶装置，使背部物进行电镀作业时，能产生良率较佳的镀层。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型的主要目的在于被镀物进行电镀作业时，操作者能依照被镀物的电镀状况(例如:被镀物产生异状)，快速地将夹持机构与被镀物同时从电镀液中取出，进而降低被镀物损坏的机率。
[0008]本实用新型的次要目的在于夹持机构能以定速且无滑动现象的方式进行移动，使被镀物移动至电镀液内不会忽快忽慢，进而被镀物表面上能形成良率较佳的镀层。
[0009]为达所述目的，本实用新型提供一种导电铜靶装置，运用于一电镀机台，所述电镀机台具有一第一导引件以及一第二导引件，而所述导电铜靶装置，其特征在于包括:
[0010]一驱动机构；
[0011 ] 一移动机构，连接于所述第一导引件，并受到所述驱动机构带动而沿着所述第一导引件进行移动；
[0012]—夹持机构，连接于所述第二导引件，并用来夹固一被镀物；以及
[0013]—翻转机构，枢转连接于所述移动机构，并连接于所述夹持机构以位于一组装位置，而所述翻转机构能以一翻转路径进行翻掀，使得所述翻转机构能由所述组装位置移动至一未连接于所述夹持机构的拆除位置。
[0014]在一较佳实施例中，所述夹持机构具有一第一组接件，而所述翻转机构具有一能选择性拆装于所述第一组接件的第二组接件，当所述翻转机构位于组装位置时，所述第一组接件连接于所述第二组接件，而当所述翻转机构位于拆除位置时，所述第一组接件分离于所述第二组接件。
[0015]所述第一组接件与第二组接件的其中之一为一凸块，另一为一凹槽，而所述凹槽具有一第一区段以及一相交于所述第一区段的第二区段，并且，当所述翻转机构位于所述组装位置时，所述翻转机构底端与所述夹持机构的顶端之间会产生间隙而形成一间隔距离。
[0016]另外，所述翻转机构具有一容置空间，所述容置空间具有一开口，而所述抵顶机构主要由一抵顶件以及一推抵弹簧所构成，所述抵压件具有一受压部以及一抵触部，所述受压部位于所述容置空间，而所述推抵弹簧位于所述容置空间，并一端抵触于所述容置空间端部，另一端推抵于所述受压部，使所述抵压件的抵触部外凸于所述开口以形成所述抵压部，其中，所述开口体积小于所述抵压件的受压部的体积。
[0017]由前述说明可知，本实用新型特点在于翻转机构位于组装位置时，夹持机构通过翻转机构组装于移动机构，使驱动机构能同步带动移动机构与夹持机构进行定速移动，进而被镀物移动至电镀液内不会忽快忽慢，致使被镀物表面上能形成良率较佳的镀层。
[0018]此外，当操作者发现被镀物在进行电镀作业时有任何异状，可将翻转机构翻掀至拆除位置，使得夹持机构能分离于移动机构，进而夹持机构与被镀物能同时从电镀液中取出，致使能有效降低被镀物损坏的范围，间接相对地降低制作成本。
【附图说明】
[0019]图1为现有导电铜靶装置的示意图；
[0020]图2为本实用新型导电铜靶装置的示意图；
[0021 ]图3为本实用新型导电铜靶装置的分解图；
[0022]图4为翻转机构的剖视立体图；
[0023]图5A为翻转机构位于组装位置示意图；
[0024]图5B为翻转机构位于拆除位置示意图；
[0025]图5C为抵顶装置抵触于夹持机构的示意图；
[0026]图6为本实用新型夹持机构夹固被镀物的示意图；
[0027]图7为本实用新型夹持机构以第一路径进行移动的示意图；
[0028]图8为本实用新型夹持机构以第二路径进行移动的示意图。
[0029]附图标记说明:1-现有导电铜靶装置;10-夹持机构；101-夹持部；102-凸块;11-移动机构；111-驱动单元;112-推抵单元;2-导电铜革E装置;20-驱动机构;21-驱动单元;211 —马达;212-齿轮;22-传动单元;221-链条;23-动作路径;30-移动机构；31-移动组件；32-凸部;321-滑动空间；33-枢接部;34-连接部;40-夹持机构;41-连接单元;411-连接件;412_嵌合槽;413—组接板;42-夹固单元;421-夹具;43-第一组接件;431-凸块;44-第一路径;45-第二路径;50-翻转机构;51-翻掀组件;511-容置空间；51 Ia-开口端;51 Ib-封闭端;51 Ic-开口；52-第二组接件;521-凹槽;521a-第一区段;521b-第二区段;521c-预留空间；53-组装位置;54-摆动路径；55-拆除位置;60-抵顶装置;61-抵压件;611-受压部;612-抵触部;62-推抵弹簧;63-抵压部;70-电镀机台；71-电镀槽;72-第一导引件;73-第二导引件;80-间隔距离;90-被镀物。
【具体实施方式】
[0030]下面结合具体实施例和附图来进一步描述本实用新型，本实用新型的优点和特点将会随着描述而更为清楚。
[0031]请参阅图2及图3所示，本实用新型导电铜靶装置2主要运用于一电镀机台70，所述电镀机台70具有一电镀槽71(如图6所示)、一第一导引件72以及一第二导引件73，所述第二导引件73位于所述第一导引件72与所述电镀槽71两者之间。
[0032]如图所不，所述导电铜革El装置2主要由一驱动机构20、一移动机构30、一夹持机构40、一翻转机构50以及一抵顶机构60所构成。
[0033I 所述驱动机构20具有一驱动单元21以及一传动单元22，所述驱动单元21与传动单元22两者相互组接，于此较佳实施例中，所述驱动单元21具有一马达211以及一固定于所述马达211的齿轮212，而所述传动单元22具有一嵌合于所述齿轮212的链条221。
[0034]所述移动机构30具有一移动组件31，所述移动组件31顶端水平延伸形成一凸部32，并于底端设有一枢接部33，所述凸部32凹陷形成一滑动连接于所述第一导引件72的滑动空间321，其中，所述移动组件31于所述滑动空间321与枢接部33之间具有连接于所述传动单元22的连接部34，藉此，所述驱动单元21通过所述传动单元22而带动所述移动组件31沿着一动作路径23进行定速且无滑动的位移，而所述动作路径23平行于所述第一导引件72的长轴方向。
[0035]如图所示，所述夹持机构40具有一滑动连接于所述第二导引件73的连接单元41以及一装设于所述连接单元41的夹固单元42，所述连接单元41具有一第一组接件43，于此较佳实施例中，所述连接单元41设为一连接件411，所述连接件411上侧具有一滑设于所述第二导引件73顶部的嵌合槽412，并于底侧具有一组接板413，而所述夹固单元42设为多个装设于所述组接板413的夹具421，其中，所述第一组接件43设为于一体成形于所述连接件411的凸块431。
[0036]请参阅图3及图4所示，所述翻转机构50具有一翻掀组件51，所述翻掀组件51枢转连接于所述移动组件31的枢接部33，并具有一能选择性拆装于所述第一组接件43的第二组接件52，而所述抵顶机构60—端装设于翻掀组件51内部，另一端外凸于所述翻掀组件51以形成一抵压部63。
[0037]如图所示，所述翻掀组件51底部具有两容置空间511，而所述抵顶机构60具有一抵压件61以及一推抵弹簧62，又所述第二组接件52设为由所述翻掀组件51凹陷形成的凹槽521，其中，所述容置空间511具有一开口端511a以及一封闭端511b，所述开口端511a设有一开口 511c，而所述抵压件61具有一受压部611以及一连接于所述受压部611的抵触部612，其中，所述推抵弹簧62与所述抵压件61的受压部611两者皆位于所述容置空间511，而所述开口 511c体积小于所述受压部611的体积，并且，所述推抵弹簧62—端抵触于所述容置空间511的封闭端511b，另一相对端推抵于所述抵压件61的受压部611，使所述推抵弹簧62推抵于所述抵压件61的受压部611，进而使所述抵压件61的抵触部612外凸于所述开口 511c以形成所述抵压部63，此外，由于所述抵压件61的受压部611体积大于所述开口 511c体积，使得所述抵压件61的受压部611受到所述推抵弹簧62推抵并不会外凸于所述开口 511c。
[0038]如图所示，所述凹槽521具有一第一区段521a以及一垂直于所述第一区段521a的第二区段521b。然而，所述第一组接件43设为所述凸块431与所述第二组接件52设为所述凹槽521仅方便说明之用，亦即所述第一组接件43能设为所述凹槽521，而所述第二组接件52设为所述凸块431。
[0039]请参阅图5A至图5C所示，由于所述翻转机构50的翻掀组件51枢转连接于所述移动组件31的枢接部33，因而所述翻转机构50能由一所述第一组接件43装设于第二组接件52的组装位置53以一摆动路径54翻掀至一所述第一组接件43分离于所述第二组接件52的拆除位置55，藉此，所述翻转机构50能在所述组装位置53与拆除位置55之间来回摆动，其中，当所述翻转机构50位于所述组装位置53时，所述抵顶机构60的抵压部63抵触于所述夹持机构40的连接单元41，使所述连接单元41与第二导引件73相互紧密接触。
[0040]如图所示，所述翻转机构50由所述组装位置53翻掀至所述拆除位置55，所述凸块431从位于所述凹槽521的第一区段521a而转换位于所述凹槽521的第二区段521b，并随后分离于所述凹槽521的第二区段521b，使得所述夹持机构40能分离于所述第二导引件73，然而，当所述翻转机构50位于所述组装位置53时，所述凹槽521与所述凸块431的第一区段521a能相互穿设，其中，所述凸块431穿设于所述第一区段521a的局部区域，使所述凹槽521的第一区段521a未受到所述凸块431穿设的部分形成一预留空间521c，并且，所述翻转机构50的翻掀组件51底端与夹持机构40的连接单元41顶端之间产生间隙而形成一间隔距离80，此外，所述抵压件61受到所述推抵弹簧62推抵，使得所述抵压的抵触部612抵压于所述连接件411。
[°041 ]请参阅图6所示，于具体应用时，所述夹持机构40的夹固单元42夹固一被镀物90，而所述驱动机构20的驱动单元21带动所述传动单元22进行移动，使所述移动机构30沿着所述动作路径23进行移动，进而使所述第二组接件52推抵于所述第一组接件43而带动所述夹持机构40以所述动作路径23朝着所述电镀槽71进行定速移动。
[0042]请参阅图7及图8所示，当操作者发现所述被镀物90在进行电镀作业有发生异状时，操作者能将所述翻转机构50由所述组装位置53翻转至所述拆除位置55，使所述凸块431分离于所述凹槽521，随后，所述夹持机构40再以一第一路径44向上直线移动，使所述夹持机构40的嵌合槽412与所述第一导引件72顶部两者相互分离。
[0043]接下来，操作者在以一垂直于所述第一路径44的第二路径45，将所述夹持机构40由所述移动机构30拆除下来，并将所述夹持机构40与被镀物90同时从电镀液中取出，进而降低所述被镀物90损坏的范围，并且降低制作成本。
[0044]相对地，当操作者确认所述被镀物90没有异样的时候，亦可将所述夹持机构40先以所述第二路径45移动至所述第二导引件73上方，再以所述第一路径44将所述嵌合槽412置放于所述第二导引件73顶部，随后，再将所述翻转机构50由所述拆除位置55翻转至所述组装位置53，使所述夹持机构40通过所述凸块431穿设于所述凹槽521而连接于所述翻转机构50。
[0045]以上的说明和实施例仅是范例性的，并不对本实用新型的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本实用新型的精神和范围下能够对本实用新型技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种导电铜靶装置，运用于一电镀机台，所述电镀机台具有一第一导引件以及一第二导引件，而所述导电铜靶装置，其特征在于包括: 一驱动机构； 一移动机构，连接于所述第一导引件，并受到所述驱动机构带动而沿着所述第一导引件进行移动； 一夹持机构，连接于所述第二导引件，并用来夹固一被镀物；以及 一翻转机构，枢转连接于所述移动机构，并连接于所述夹持机构以位于一组装位置，而所述翻转机构能以一翻转路径进行翻掀，使得所述翻转机构能由所述组装位置移动至一未连接于所述夹持机构的拆除位置。2.根据权利要求1所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述移动机构受到所述驱动机构带动而以一平行于所述第一导引件长轴方向的动作路径进行移动。3.根据权利要求1所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述夹持机构具有一第一组接件，而所述翻转机构具有一能选择性拆装于所述第一组接件的第二组接件，当所述翻转机构位于组装位置时，所述第一组接件连接于所述第二组接件，而当所述翻转机构位于拆除位置时，所述第一组接件分离于所述第二组接件。4.根据权利要求3所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述第一组接件与第二组接件的其中之一为一凸块，另一为一凹槽。5.根据权利要求4所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述凹槽具有一第一区段以及一相交于所述第一区段的第二区段。6.根据权利要求1所述的导电铜靶装置，其特征在于:当所述翻转机构位于所述组装位置时，所述翻转机构底端与所述夹持机构的顶端之间会产生间隙而形成一间隔距离。7.根据权利要求1所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述导电铜靶装置进一步具有一抵顶机构，所述抵顶机构一端组装于所述翻转机构，另一端外凸所述翻转机构以形成一抵压部。8.根据权利要求7所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述翻转机构具有一容置空间，所述容置空间具有一开口，而所述抵顶机构，包含: 一抵压件，具有一受压部以及一抵触部，所述受压部位于所述容置空间；以及 一推抵弹簧，位于所述容置空间，并一端抵触于所述容置空间端部，另一端推抵于所述受压部，使所述抵压件的抵触部外凸于所述开口以形成所述抵压部。9.根据权利要求8所述的导电铜靶装置，其特征在于:所述开口体积小于所述抵压件的受压部的体积。
【文档编号】C25D17/06GK205529105SQ201620070930
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月25日
【发明人】萧朋
【申请人】竞铭机械股份有限公司