一种周期性碗状结构模板的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及微纳米结构制备和应用技术领域，具体设计一种周期性碗状结构模板。
【背景技术】
[0002]材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征，纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一，而半导体器件技术的发展很大程度上依赖于微纳米加工技术的不断进步，半导体微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件，实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术。
[0003]在现有的半导体平面工艺技术中，随着光刻精度的不断提升，平面二维图形的分辨能力已经能达到十纳米级别；但是基于平面工艺的传统半导体技术(例如刻蚀、淀积等)均只能实现垂直侧壁或倾斜侧壁等直线条结构，无法实现曲面结构的制造；这严重限制了微纳米器件的设计思路，阻碍了一些特殊结构的实现；而以3D打印为代表的新兴技术虽然结构自由度较大，但其精度还远远达不到微纳米级别。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种周期性碗状结构模板，其具有简单实用、高效率和低成本的特点。
[0005]为解决上述问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0006]—种周期性碗状结构模板，包括基底和位于基底上方的二氧化硅，其特征是，二氧化硅上部形成多个碗状的金属孔，且这些金属孔在二氧化硅上部呈周期性排布。
[0007]所述金属孔的周期范围为10纳米?10微米之间。
[0008]所述金属孔的周期性排布方式为十字排布或六方排布。
[0009]与现有技术相比，本实用新型具有如下特点:
[0010]1、周期性碗状结构具有微纳米尺度下的曲面结构，突破了传统半导体平面工艺在第三维度(即剖面)上只能获得直线条的限制因素。
[0011]2、碗状结构尺寸均一且大小可控，且与常规微纳米工艺技术兼容，简单实用，成本低廉，兼顾科研和生产的需求。
[0012]3、本实用新型制备的碗状结构模板适用于LED、太阳能电池、光子晶体、量子器件等器件和结构的制备，可应用于光电子技术领域。
【附图说明】
[0013]图1是一种周期性碗状结构模板的结构示意图；
[0014]图中标号:1、基底，2、二氧化硅，3、金属孔。
【具体实施方式】
[0015]—种周期性碗状结构模板，如图1所示，包括基底1和位于基底1上方的二氧化硅2，二氧化硅2上部形成多个碗状的金属孔3，且这些金属孔3在二氧化硅2上部呈周期性排布。上述金属孔3呈十字排布、六方排布及其他周期性排布，其周期范围为10纳米?10微米。
【主权项】
1.一种周期性碗状结构模板，包括基底(1)和位于基底(1)上方的二氧化硅(2)，其特征是，二氧化硅(2)上部形成多个碗状的金属孔(3)，且这些金属孔(3)在二氧化硅(2)上部呈周期性排布。2.根据权利要求1所述的一种周期性碗状结构模板，其特征是，所述金属孔(3)的周期范围为10纳米?10微米之间。3.根据权利要求1所述的一种周期性碗状结构模板，其特征是，所述金属孔(3)的周期性排布方式为十字排布或六方排布。
【专利摘要】本实用新型公开一种周期性碗状结构模板，包括基底1和位于基底1上方的二氧化硅2，二氧化硅2上部形成多个碗状的金属孔3，且这些金属孔3在二氧化硅2上部呈周期性排布。上述金属孔3呈十字排布、六方排布及其他周期性排布，其周期范围为10纳米～10微米。本实用新型制备的周期性碗状模板面积大，结构均匀完整，在制备图形衬底、光子晶体、表面粗化、表面制绒和微纳米器件等方面有很好的应用前景，能广泛应用于LED、太阳能电池、光子晶体、量子器件等方面，或作为基底材料的刻蚀掩膜层，用于其它微纳米结构的制造。
【IPC分类】B81B7/04
【公开号】CN204999607
【申请号】CN201520510415
【发明人】李海鸥, 徐文俊, 李思敏, 李琦, 首照宇, 高喜, 肖功利
【申请人】桂林电子科技大学
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年7月15日