一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置的制造方法

文档序号:9147178阅读:457来源:国知局
一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于烟气脱硝装置技术领域,具体涉及一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置。
【背景技术】
[0002]我国作为水泥生产世界第一大国,目前拥有水泥企业近五千家,产能占到全球总产量的六成以上,水泥行业氮氧化物的大约160万吨,占氮氧化物总排放量的十分之一左右,按照《水泥工业“十二五”发展规划》,随着水泥行业落后产能淘汰工作的推进氮氧化物作为主要的大气污染物之一,是继二氧化硫之后国家严格控制排放的对象。现在水泥行业应用最广泛的烟气脱硝技术是SCR技术和SNCR技术,SCR技术脱硝效率可达到95%以上,但是由于其投资大,系统复杂,催化剂寿命短,运行成本高,并不适用于低温低硫的水泥窑炉。而SNCR技术虽然投资低,运行成本少,系统简单,适用范围广,但其致命的缺陷就是脱硝效率低,仅有30% -50%,远不能达到排放的标准。另外,水泥窑窑尾分解炉烟气中NOX浓度较高,同时水泥窑协同处理垃圾窑窑尾烟气中含有二恶英、重金属离子及酸性气体等有害物质,通过上述两种方法都不能得到很好的清除。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于克服现有技术中的缺陷,而提供一种结构简单,可有效脱除水泥窑尾气中的二恶英、重金属离子及酸性气体等有害物质的一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置。
[0004]本实用新型的目的是这样来实现的:包括SCR反应器本体,SCR反应器本体的底部和顶部分别设有烟气进口和烟气出口,SCR反应器本体的下部设有过滤网层,过滤网层的上部设有氢氧化钠喷淋,氢氧化钠喷淋的上部依次设有活性炭吸附层、第一催化剂层和第二催化剂层,所述的第一催化剂层和第二催化剂层上均设有反应剂喷头。
[0005]本实用新型具有结构简单,可有效脱除水泥窑尾气中的二恶英、重金属离子及酸性气体等有害物质的优点。
【附图说明】
[0006]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0007]如图1所示,本实用新型为一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置,包括SCR反应器本体1,SCR反应器本体I的底部和顶部分别设有烟气进口 2和烟气出口 3,SCR反应器本体I的下部设有过滤网层4,过滤网层4的上部设有氢氧化钠喷淋5,氢氧化钠喷淋5的上部依次设有活性炭吸附层6、第一催化剂层7和第二催化剂层8,所述的第一催化剂层7和第二催化剂层8上均设有反应剂喷头9。
[0008]本实用新型的工作原理为,将本实用新型装在SCR脱硝塔上,SCR脱硝塔产生的废气通过SCR反应器本体I的底部的烟气进口 2进入SCR反应器本体I内,烟气通过过滤网层4向上运动,过滤网层4可以过滤掉烟气中的粉尘,氢氧化钠喷淋5喷出的氢氧化钠溶液可以有效去除烟气中的酸性气体,活性炭吸附层6可以有效吸附醛酚类有害气体,第一催化剂层7和第二催化剂层8上均设有反应剂喷头9,反应剂喷头9喷出的氨水可以有效去除氮氧化物,最后烟气通过烟气出口 3排出。
[0009]本实用新型通过在SCR反应器本体I内增设氢氧化钠喷淋5和活性炭吸附层6,使得烟气中的二恶英、重金属离子及酸性气体等有害物质得到有效处理,大大促进了水泥行业的绿色环保健康发展。
[0010]上文的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明,它们并非用以限制本实用新型的保护范围,凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式、变更和改造均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置,包括SCR反应器本体(I),SCR反应器本体(I)的底部和顶部分别设有烟气进口(2)和烟气出口(3),其特征在于:SCR反应器本体(I)的下部设有过滤网层(4),过滤网层(4)的上部设有氢氧化钠喷淋(5),氢氧化钠喷淋(5)的上部依次设有活性炭吸附层¢)、第一催化剂层(7)和第二催化剂层(8),所述的第一催化剂层(7)和第二催化剂层(8)上均设有反应剂喷头(9)。
【专利摘要】本实用新型属于一种水泥窑协同处理垃圾工艺的烟气脱硝装置;包括SCR反应器本体,SCR反应器本体的底部和顶部分别设有烟气进口和烟气出口,SCR反应器本体的下部设有过滤网层,过滤网层的上部设有氢氧化钠喷淋,氢氧化钠喷淋的上部依次设有活性炭吸附层、第一催化剂层和第二催化剂层,所述的第一催化剂层和第二催化剂层上均设有反应剂喷头;具有结构简单,可有效脱除水泥窑尾气中的二恶英、重金属离子及酸性气体等有害物质的优点。
【IPC分类】B01D53/86, B01D53/56
【公开号】CN204816225
【申请号】CN201520576435
【发明人】张朝辉, 蒋惠, 李晓燕, 周冬生, 孔祥明, 许可, 叶锋, 魏戈
【申请人】张朝辉
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年7月30日
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