一种改进型烹炒炉具的炉面储水盘的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种烹炒炉具，尤其涉及一种烹炒炉具为防止炉面受热变形而设置的炉面储水盘的改进型结构，属于餐饮炉具设计制造技术领域。
【背景技术】
[0002]在中国专利授权公告号为CN202024367U，名为一种烹炒炉具的实用新型专利中，公开了一种利用炉台面作为储水盘的底面，使炉台面始终被水冷却的技术方案。该储水盘由炉面、炉面边框、炉面凸台、炉面圈围成，储水盘的一侧设有槽底低于炉面的水槽，水槽底部设有漏孔，储水盘与水槽之间由炉面凸台隔开，当自来水龙头适时轮换储水盘内的水使水位高于炉面凸台时，多余的水即溢出炉面凸台而流淌到水槽内，这种结构能使炉台面上的储水盘内的水始终保持一定水位，因而能有效地避免炉台面的热变形。但带有这种储水盘的烹炒炉具在使用中，存在炉面难以清理的弊端，即:烹炒美食时，炒菜原料、佐料、油渍难免落入储水盘内，工作结束后，需要厨师用清理工具将这些杂物连同储水盘内的水一并越过炉面凸台而集中到水槽内，再一并清理。在此过程中，炉面凸台是阻挡水和杂物清理的障碍，如果储水盘中不设置炉面凸台，厨师们只要拔下储水盘旁的水槽底部孔堵，盘内的水就可直接泻入水槽漏孔，残留在炉面上的杂物就可用自来水软管直接冲刷，将杂物集中到水槽内一并清理。
【发明内容】
[0003]本实用新型针对现有烹炒炉具炉面储水盘存在的技术不足，而提供一种改进型烹炒炉具的炉面储水盘，使炉面清理更方便、更简单、炉面更洁净。
[0004]本实用新型的技术方案是:一种改进型烹炒炉具的炉面储水盘，包括炉面圈、炉面、炉面边框和水槽、堵塞，炉面圈内设置炉胆，炉面圈外的底端无缝连接炉面，炉面的外围无缝连接凸起的炉面边框，由此构成以炉面为底的储水盘；水槽的底部设有漏孔，其特征在于:
[0005]所述的水槽设置在储水盘内，且其入水口与炉面平齐；
[0006]所述的堵塞封堵在水槽底部的漏孔中，且堵塞内设有溢水孔，溢水孔的入水口高于炉面、低于炉面边框上端。
[0007]与中国专利授权公告号为CN202020367L名为一种烹炒炉具中公开的储水盘相比，本实用新型具有以下优点:
[0008]1、水槽设置在储水盘内，且水槽的入水口与炉面平齐，因而具有炉面清洗方便、杂物清理无阻碍的优点；
[0009]2、去除了炉面凸台，使储水盘的制作工艺变得简单，用料相对减少，整体炉具的成本下降。
【附图说明】
[0010]附图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]在附图1中:1炉面、2炉面边框、3炉面圈、4堵塞、5水槽、6炉胆、a溢水口。
【具体实施方式】
[0012]以下结合附图对本实用新型作进一步解释说明:
[0013]如附图1所示，炉面圈3内设置炉胆6，炉面圈3外的底端无缝连接炉面1，炉面I的外围无缝连接凸起的炉面边框2，由此构成以炉面I为底的储水盘；水槽5设置在储水盘内，其入水口与炉面I平齐，并在水槽5的底部设有漏孔；堵塞4封堵在水槽5底部的漏孔中，且堵塞4内设有溢水孔a，溢水孔a的入水口高于炉面1、低于炉面边框2上端。
[0014]本实用新型使用时，首先将堵塞4封堵在水槽5底部的漏孔中，然后，通过炉台面上装有的自来水龙头，向储水盘内注入冷却水，当储水盘内的水高于堵塞4的溢水孔a时，多余的水从溢水孔a溢出，使以炉面I为底的储水盘内始终保持恒定水位，从而避免了炉面
I的受热变形；清洗炉具时，拔开水槽5底部漏孔中的堵塞4，储水盘及水槽5内的水一泻而下，并顺势将炉面I上的一些杂物带入水槽5中，尚存杂物可通过自来水软管放水一冲而净。
【主权项】
1.一种改进型烹炒炉具的炉面储水盘，包括炉面圈、炉面、炉面边框和水槽、堵塞，炉面圈内设置炉胆，炉面圈外的底端无缝连接炉面，炉面的外围无缝连接凸起的炉面边框，由此构成以炉面为底的储水盘；水槽的底部设有漏孔，其特征在于: 所述的水槽设置在储水盘内，且其入水口与炉面平齐； 所述的堵塞封堵在水槽底部的漏孔中，且堵塞内设有溢水孔，溢水孔的入水口高于炉面、低于炉面边框上端。
【专利摘要】本实用新型涉及一种改进型烹炒炉具的炉面储水盘，包括炉面圈、炉面、炉面边框和水槽、堵塞，炉面圈内设置炉胆，炉面圈外的底端无缝连接炉面，炉面的外围无缝连接凸起的炉面边框，由此构成以炉面为底的储水盘。水槽设置在储水盘内，且其入水口与炉面平齐；堵塞封堵在水槽底部的漏孔中，且堵塞内设有溢水孔，溢水孔的入水口高于炉面、低于炉面边框上端。清洗炉具时，拔开水槽底部漏孔中的堵塞，储水盘及水槽内的水一泻而下，并顺势将炉面上的一些杂物带入水槽中，尚存杂物可通过自来水软管放水一冲而净。本实用新型不但避免了炉面清理难度，还简化了炉面制作工艺，并节约用材、降低炉具制造成本。
【IPC分类】F24C15/14
【公开号】CN204830080
【申请号】CN201520569995
【发明人】薛绍付
【申请人】薛绍付
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年7月27日