一种鞋模脱离剂涂抹装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及制鞋技术领域，具体涉及一种鞋模脱离剂涂抹装置。
【背景技术】
[0002]在聚氨酯注塑制鞋机鞋模装置上，各种规格的鞋模摆放于鞋模输送带托板上不停的运转流动，当输送带电机带动输送带转动一周时，各鞋模依次经过各处理工位，实现一次完整的循环，获得鞋类制品。鞋模在注塑成型之后，需要向模腔表面涂抹脱离剂，以使鞋制品易从鞋模中脱出，是制鞋过程中的一个必要工序。
[0003]目前，脱离剂喷涂操作需要通过手工完成，涂抹操作不但劳动强度大，而且脱离剂对生产环境和人体会造成污染，亟待换装脱离剂涂抹装置。然而在国内、国际鞋机行业，还没有成功的脱离剂涂抹装置供选用，鞋企不得不采用手工操作模式。
【实用新型内容】
[0004]为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种鞋模脱离剂涂抹装置，通过控制器自动控制毛刷在各个方向上的运动，实现鞋模脱离剂的自动涂抹，解决了人工涂抹脱离剂费时费力的问题。
[0005]本实用新型所采用的技术方案是:一种鞋模脱离剂涂抹装置，其特征在于:包括竖直滑轨，所述竖直滑轨的上段活动连接有第一水平滑轨；第一水平滑轨由安装在竖直滑轨顶端的竖直电机控制上下运动，由安装在第一水平滑轨一端的第一水平电机控制左右运动；所述第一水平滑轨的另一端底部活动连接有第二水平滑轨，所述第二水平滑轨由安装在第二水平滑轨一端的第二水平电机控制左右运动；第二水平滑轨的底部安装有毛刷；所述各电机均连接到安装在竖直滑轨侧面的总控制器上。
[0006]作为优选，所述总控制器由PLC单片机自动控制或由开关手动控制，实现全自动或半自动化控制，解决了手工喷涂费时费力的问题。
[0007]作为优选，所述电机为交流伺服电机，反应快速，运动速度、运动位置精准。
[0008]本实用新型通过总控制器控制电机的运转状态，进而控制各滑轨在其运动方向上的往复运动，最终使毛刷运动到相应位置，进行涂抹脱离剂的操作。
[0009]本实用新型的有益效果是:1.实现了脱离剂的自动喷涂，解决了人工喷涂费时费力的问题。2.通过控制器自动控制毛刷在各个方向上的运动，能够均匀快速的涂抹脱离剂，提高了鞋模脱离效率。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的整体结构示意图；
[0011]图中，1:竖直滑轨；2:第一水平滑轨；3:第二水平滑轨；4:竖直电机；5:第一水平电机；6:第二水平电机；7:毛刷；8:总控制器。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
[0013]实施例1:
[0014]本实施例的技术方案为:一种鞋模脱离剂涂抹装置，包括竖直滑轨1，所述竖直滑轨I的上段活动连接有第一水平滑轨2 ;第一水平滑轨2由安装在竖直滑轨I顶端的竖直电机4控制上下运动，由安装在第一水平滑轨2 —端的第一水平电机5控制左右运动；所述第一水平滑轨2的另一端底部活动连接有第二水平滑轨3，所述第二水平滑轨3由安装在第二水平滑轨3 —端的第二水平电机6控制左右运动；第二水平滑轨3的底部安装有毛刷7 ;所述电机4、5、6均连接到安装在竖直滑轨侧面的总控制器8上。
【主权项】
1.一种鞋模脱离剂涂抹装置，其特征在于:包括竖直滑轨，所述竖直滑轨的上段活动连接有第一水平滑轨；第一水平滑轨由安装在竖直滑轨顶端的电机控制上下运动，由安装在第一水平滑轨一端的电机控制左右运动；所述第一水平滑轨的另一端底部活动连接有第二水平滑轨，所述第二水平滑轨由安装在第二水平滑轨一端的电机控制左右运动；第二水平滑轨的底部安装有毛刷；所述各电机均连接到安装在竖直滑轨侧面的总控制器上。2.如权利要求1所述的一种鞋模脱离剂涂抹装置，其特征在于:所述总控制器由PLC单片机自动控制或由开关手动控制。3.如权利要求1所述的一种鞋模脱离剂涂抹装置，其特征在于:所述电机为交流伺服电机。4.如权利要求1所述的一种鞋模脱离剂涂抹装置，其特征在于:所述第二水平滑轨的长度短于第一水平滑轨。
【专利摘要】本实用新型涉及制鞋技术领域，具体涉及一种鞋模脱离剂涂抹装置，包括竖直滑轨，竖直滑轨的上段活动连接有第一水平滑轨；第一水平滑轨由安装在竖直滑轨顶端的电机控制上下运动，由安装在第一水平滑轨一端的电机控制左右运动；所述第一水平滑轨的另一端底部活动连接有第二水平滑轨，第二水平滑轨由安装在第二水平滑轨一端的电机控制左右运动；第二水平滑轨的底部安装有毛刷；所述各电机均连接到安装在竖直滑轨侧面的总控制器上。本实用新型的有益效果是：实现了脱离剂的自动喷涂，解决了人工喷涂费时费力的问题；通过控制器自动控制毛刷在各个方向上的运动，能够均匀快速的涂抹脱离剂，提高了鞋模脱离效率。
【IPC分类】B29C33/58
【公开号】CN205058414
【申请号】CN201520676786
【发明人】胡晔, 赵庸中, 刘存世
【申请人】青岛赛诺克自动化科技有限公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年9月2日