双阀针浇口双折内盖的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及涉及塑胶制品技术领域，特别是涉及一种双阀针浇口双折内盖。
【背景技术】
[0002]目前，双阀针浇口双折内盖在制作过程中，其浇口位置位于两个穿刺面的中心，由于双折内盖的穿刺面比较大造成成型时易有熔接痕，而且产品材料比较软，组装灭菌测试后易变形，所以就以上原因需要对产品结构进行进一步的改进，使此种结构的熔接痕更容易消除。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型主要解决的技术问题是提供一种双阀针浇口双折内盖，能够消除熔接痕。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种双阀针浇口双折内盖，包括:内盖本体，所述内盖本体的外部顶面设置有第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面，所述第一圆形穿刺面的下边缘设置有第一浇口，所述第二圆形穿刺面的上边缘设置有第二浇口，所述第一浇口与第二浇口的位置关系为斜角对称。
[0005]在本实用新型一个较佳实施例中，所述第一圆形穿刺面设置在内盖本体外部顶面的左边，所述第二圆形穿刺面设置在内盖本体外部顶面的右边，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面之间留有间隙。
[0006]在本实用新型一个较佳实施例中，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面的高度高出外部顶面，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面的高度相同。
[0007]本实用新型的有益效果是:本实用新型不易变形、更容易将熔接痕消除掉，并且在使用过程中穿刺前不漏水，密封性好。
【附图说明】
[0008]图1是本实用新型双阀针浇口双折内盖的外部立体结构示意图；
[0009]图2是本实用新型双阀针浇口双折内盖的内部立体结构示意图；
[0010]附图中各部件的标记如下:1、顶面；2、第一圆形穿刺面；3、第二圆形穿刺面；10、内盖本体；20、第一浇口 ；30、第二浇口。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0012]请参阅图1和图2，本实用新型实施例包括:一种双阀针浇口双折内盖，包括:内盖本体10，所述内盖本体10的外部顶面设置有第一圆形穿刺面2和第二圆形穿刺面3，所述第一圆形穿刺面2的下边缘设置有第一浇口 20，所述第二圆形穿刺面3的上边缘设置有第二浇口 30，所述第一浇口 20与第二浇口 30的位置关系为斜角对称。
[0013]进一步说，所述第一圆形穿刺面2设置在内盖本体10外部顶面I的左边，所述第二圆形穿刺面3设置在内盖本体10外部顶面I的右边，所述第一圆形穿刺面2和第二圆形穿刺面3之间留有间隙。
[0014]本实用新型双阀针浇口双折内盖的具体结构及其功能如下:
[0015]顶面I壁厚:此壁厚厚度为1.5mm,目的是增加顶面强度，防止与外盖组装灭菌测试后变形。
[0016]第一浇口 20与第二浇口 30的位置:两个浇口位置在穿刺面边上，为两个浇口，模具上需要做双阀针结构，更容易将熔接痕消除掉。
[0017]第一圆形穿刺面2和第二圆形穿刺面3:此结构壁厚厚度为0.35-0.38mm，此处主要作用是在穿刺前不能漏水，所以不能有熔接痕。厚度不能超过0.38mm，否则穿刺力变大。
[0018]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种双阀针浇口双折内盖，其特征在于，包括:内盖本体，所述内盖本体的外部顶面设置有第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面，所述第一圆形穿刺面的下边缘设置有第一浇口，所述第二圆形穿刺面的上边缘设置有第二浇口，所述第一浇口与第二浇口的位置关系为斜角对称。
2.根据权利要求1所述的双阀针浇口双折内盖，其特征在于，所述第一圆形穿刺面设置在内盖本体外部顶面的左边，所述第二圆形穿刺面设置在内盖本体外部顶面的右边，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面之间留有间隙。
3.根据权利要求1所述的双阀针浇口双折内盖，其特征在于，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面的高度高出外部顶面，所述第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面的高度相同。
【专利摘要】本实用新型公开了一种双阀针浇口双折内盖，包括：内盖本体，所述内盖本体的外部顶面设置有第一圆形穿刺面和第二圆形穿刺面,所述第一圆形穿刺面的下边缘设置有第一浇口，所述第二圆形穿刺面的上边缘设置有第二浇口，所述第一浇口与第二浇口的位置关系为斜角对称。通过上述方式，本实用新型能够消除熔接痕且密封性好。
【IPC分类】B29C45-28
【公开号】CN204451070
【申请号】CN201520054810
【发明人】翁铁建, 于福海, 崔琼瑶
【申请人】江天精密制造科技（苏州）有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年1月27日