胶辊喷洗裹膜设备的制造方法

文档序号:8877622阅读:334来源:国知局
胶辊喷洗裹膜设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型属于胶辊技术领域,尤其是涉及一种胶辊喷洗裹膜设备。
【背景技术】
[0002] 胶辊是以金属或其他材料为芯,外覆橡胶经硫化而制成的辊状制品,主要应用于 造纸、印染、印刷、粮食加工、冶金、塑料加工等方面,待用的胶辊应清洗干净后,用塑料薄膜 把胶体封包起来,放在胶辊架上,切不可几根随便堆放在一块或顺手竖靠在墙壁旁,以免使 胶体受到不应有的损失,人们往往进行人工冲洗,冲洗不干净,包上塑料薄膜后,更容易使 胶辊出现损伤,一种专用于胶辊。 【实用新型内容】
[0003] 本实用新型的目的是提供一种结构简单、操作简单、生产效率高的胶辊喷洗裹膜 设备,尤其适合胶辊的保养作业。
[0004] 本实用新型的技术方案是:本实用新型的一种胶辊喷洗裹膜设备,其特征在于: 包括电机、滚轴、第一托架、转轴、集水槽、出水口、水管、喷口、冲洗室、裹膜室、滑槽、第一滑 动挂轴、第二滑动挂轴、加热室、加热装置、风机、第二托架和隔网,所述冲洗室、所述裹膜 室、所述加热室依次连接,所述裹膜室和所述加热室之间固定设有所述隔网,所述冲洗室的 顶端设有所述水管,所述水管的下端均匀分布有若干所述喷口,所述喷口的方向指向正下 方,所述冲洗室的一侧设有所述滚轴,所述滚轴上设有所述电机,所述电机和所述滚轴通过 电连接,所述冲洗室和所述裹膜室之间设有所述转轴,所述转轴上固定设有所述第一托架, 所述第一托架和所述滚轴的高度相同,所述冲洗室底部设有所述集水槽,所述集水槽上设 有所述出水口,所述出水口和所述集水槽相通,所述裹膜室顶端设有所述滑槽,所述滑槽上 设有所述第一滑动挂轴和所述第二滑动挂轴,所述第一滑动挂轴、所述第二滑动挂轴和所 述滑槽滑动连接,所述裹膜室内的所述隔网上固定设有所述第二托架,所述第二托架的高 度和所述转轴的高度相同,所述加热室内设有所述加热装置和所述风机。
[0005] 所述水管上设有高压水泵。
[0006] 所述集水槽内铺设有橡胶。
[0007] 本实用新型具有的优点和积极效果是:
[0008] 1、由于采用上述技术方案,胶辊的冲洗裹膜作业更加方便;具有结构简单,维修方 便,加工成本低、生产效率高等优点。
[0009] 2、避免了人工冲洗的繁琐,该装置省时省力,冲洗干净。
[0010] 3、用该装置处理后,可有效延长胶辊的使用寿命。
【附图说明】
[0011] 图1是本实用新型的结构示意图。
[0012] 图中:
[0013]
【主权项】
1. 一种胶辊喷洗裹膜设备,其特征在于:包括电机、滚轴、第一托架、转轴、集水槽、出 水口、水管、喷口、冲洗室、裹膜室、滑槽、第一滑动挂轴、第二滑动挂轴、加热室、加热装置、 风机、第二托架和隔网,所述冲洗室、所述裹膜室、所述加热室依次连接,所述裹膜室和所述 加热室之间固定设有所述隔网,所述冲洗室的顶端设有所述水管,所述水管的下端均匀分 布有若干所述喷口,所述喷口的方向指向正下方,所述冲洗室的一侧设有所述滚轴,所述滚 轴上设有所述电机,所述电机和所述滚轴通过电连接,所述冲洗室和所述裹膜室之间设有 所述转轴,所述转轴上固定设有所述第一托架,所述第一托架和所述滚轴的高度相同,所述 冲洗室底部设有所述集水槽,所述集水槽上设有所述出水口,所述出水口和所述集水槽相 通,所述裹膜室顶端设有所述滑槽,所述滑槽上设有所述第一滑动挂轴和所述第二滑动挂 轴,所述第一滑动挂轴、所述第二滑动挂轴和所述滑槽滑动连接,所述裹膜室内的所述隔网 上固定设有所述第二托架,所述第二托架的高度和所述转轴的高度相同,所述加热室内设 有所述加热装置和所述风机。
2. 根据权利要求1所述的一种胶辊喷洗裹膜设备,其特征在于:所述水管上设有高压 水泵。
3. 根据权利要求1所述的一种胶辊喷洗裹膜设备,其特征在于:所述集水槽内铺设有 橡胶。
【专利摘要】本实用新型提供一种胶辊喷洗裹膜设备,包括电机、滚轴、第一托架、转轴、集水槽、出水口、水管、喷口、冲洗室、裹膜室、滑槽、第一滑动挂轴、第二滑动挂轴、加热室、加热装置、风机、第二托架和隔网,所述冲洗室、所述裹膜室、所述加热室依次连接,所述冲洗室的一侧设有所述滚轴,所述冲洗室和所述裹膜室之间设有所述转轴,所述转轴上固定设有所述第一托架,所述冲洗室底部设有所述集水槽,所述裹膜室顶端设有所述滑槽,所述滑槽上设有所述第一滑动挂轴和所述第二滑动挂轴,所述第一滑动挂轴、所述第二滑动挂轴和所述滑槽滑动连接,所述裹膜室内的所述隔网上固定设有所述第二托架。本实用新型的有益效果是延长胶辊的使用寿命。
【IPC分类】B65B11-02, B65B55-00
【公开号】CN204587452
【申请号】CN201520164187
【发明人】王福林
【申请人】天津蓝马胶辊有限公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2015年3月23日
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