专利名称：一种密封罐盖的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及瓶盖技术领域，具体的说是一种结构简单、成本低廉的密封罐盖。
背景技术：
目前轻工业部颁布的空罐生产工艺，涉及罐盖部分，采用台阶式膨胀纹的方式，其抗膨胀能力不足，且容易造成罐盖涂膜损伤，故为防止成品罐头在杀菌过程中罐盖凸角或塌陷，多采用厚度较大的马口铁，这就无形中提高了产品成本，且在生产中为防止损伤涂膜，多采用喷淋石蜡油，增加了罐体的污染。
发明内容本实用新型的技术任务是解决现有技术的不足，提供一种结构简单、避免罐体污染、降低成本的密封罐盖。本实用新型的技术方案是按以下方式实现的，一种密封罐盖，包括圆形盖体，所述盖体中央处内凹设置有膨胀纹，该膨胀纹最高点与最低点之间的距离为1±0.1mm，在盖体的边缘处设置有连续外凸的环形膨胀圈。作为优选，所述膨胀圈设置有三道且该三道膨胀圈连续连接。作为优选，所述膨胀圈呈圆弧形，每两个相邻膨胀圈的圆弧最高点之间的距离为20±3mm。本实用新型与现有技术相比所产生的有益效果是:本实用新型的一种密封罐盖具有结构简单、使用方便、构思巧妙等特点，通过改善圆型罐盖的膨胀结构，使罐盖强度明显提高，在保证强度的基础上，生产罐盖的马口铁，其厚度由原来的0.28_减为0.24_，大大节约了原材料，降低了生产成本，并有效的保护了罐盖的内外涂膜，提高了产品质量，因而，本实用新型具有很好的推广使用价值。
附图1是本实用新型的结构示意图。附图中的标记分别表示:1、盖体，2、膨胀纹，3、膨胀圈。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的一种密封罐盖作以下详细说明。为了解决现有技术中传统罐盖用铁厚度大，成本高，罐盖强度不足，容易造成凸角或塌陷的台阶式纹路对涂膜的影响等缺陷，如附图1所示，现提供一种密封罐盖，包括圆形盖体1，所述盖体I中央处内凹设置有膨胀纹2，该膨胀纹2最高点与最低点之间的距离为1±0.1mm，在盖体I的边缘处设置有连续外凸的环形膨胀圈3，上述膨胀纹2、膨胀圈3均呈圆环形。[0014]所述膨胀圈3设置有三道且该三道膨胀圈3连续连接；所述膨胀圈3呈圆弧形，每两个相邻膨胀圈3的圆弧最高点之间的距离为20±3mm。所述罐盖采用马口铁制作而成，且该罐盖最好为型号为603的罐盖。本实用新型在制作时，膨胀圈的高度及弧度根据空罐的真空度及抗膨胀力计算得出，并根据具体情况选择合适的模具，模具包括上模和下模，将上模和下模共同组装在罐盖生产组合机上，利用上下模具对马口铁冲压，完成603罐盖的制作。在上述实施例中，对本实用新型的最佳实施方式做了描述，很显然，在本实用新型的发明构思下，仍可做出很多变化，在本实用新型的实质范围内还可做出很多变化、改型、添加或替换。在此，应该说明，在本实用新型的发明构思下所做出的任何改变都将落入本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种密封罐盖，其特征在于:包括圆形盖体，所述盖体中央处内凹设置有膨胀纹，该膨胀纹最高点与最低点之间的距离为1±0.1mm，在盖体的边缘处设置有连续外凸的环形膨胀圈。
2.根据权利要求1所述的一种密封罐盖，其特征在于:所述膨胀圈设置有三道且该三道膨胀圈连续连接。
3.根据权利要求1所述的一种密封罐盖，其特征在于:所述膨胀圈呈圆弧形，每两个相邻膨胀圈的圆弧最高点之间的距离为20±3mm。
专利摘要本实用新型提供一种密封罐盖，包括圆形盖体，所述盖体中央处内凹设置有膨胀纹，该膨胀纹最高点与最低点之间的距离为1±0.1mm，在盖体的边缘处设置有连续外凸的环形膨胀圈。该一种密封罐盖和现有技术相比，具有设计合理、结构简单、使用方便等特点，大大节约了原材料，降低了生产成本，并有效的保护了罐盖的内外涂膜，提高了产品质量，因而本实用新型具有很好的推广使用价值。
文档编号B65D43/02GK203033118SQ20122071697
公开日2013年7月3日 申请日期2012年12月24日 优先权日2012年12月24日
发明者王照永 申请人:山东环球印铁制罐有限公司