专利名称：一种真空除氧器的喷嘴装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种喷水装置，具体地是一种应用于工业锅炉真空除氧器的喷水装置。
目前，真空除氧器脱气塔中大都采用喷雾除气，和热力除氧一样，就是将水喷成雾状增大水、汽接触表面积，以利于氧从水中逸出。但实际上，与热力除氧相比，往往不能获得良好的除氧效果，这是因为微小的水滴具有很大的表面张力，溶解的气体不容易通过水滴的表面扩散出来，水的表面张力随温度升高而降低，热力除氧的工作温度在100℃左右，真空除氧的工作温度在30～60℃之间，显然，由于表面张力与温度的关系，使真空除氧的效果不及热力除氧，限制了真空除氧节能优势的发挥。
本实用新型的目的在于避免上述现有技术中存在的不足之处而提供的一种真空除氧器的喷嘴装置。
本实用新型的目的是采取以下措施实现的永磁体下压盖通过进水嘴基座中的槽系安装在进水嘴基座上，永磁体下压盖与进水嘴基座之间留有一定的磁路工作间隙，导向杆通过上下螺母固定在永磁体下压盖上，在进水嘴基座上有一外螺纹。
附图及图面说明
图1是本实用新型的结构示意图；图2是本实用新型的俯视图。
其中[1]---进水嘴基座、[2]、[5]---螺母、[3]---永磁体下压盖、[4]---上压盖、[6]---导向杆、[7]---外螺纹。
以下结合附图对本实用新型的实施详述通过进水嘴基座[1]上的外螺纹[7]将本实用新型固定在真空除氧器脱气塔中的进水管上。其中永磁体下压盖[3]与上压盖[4]构成N-S相吸的磁场，永磁体下压盖[3]通过进水嘴基座[1]中的槽系安装在进水嘴基座[1]上，并与进水嘴基座[1]之间留有一定磁路工作间隙，待氧水流过，导向杆[6]通过螺母[2]、[5]固定在永磁体下压盖[3]上，使上压盖[4]沿导向杆[6]被永磁体下压盖[3]吸在进水嘴基座[1]上，上压盖与下压盖之间的环锥形空间可以形成喷雾。当有一定压力的待除氧水流过永磁体下压盖[3]和进水嘴基座[1]之间的间隙时，流体的压力克服上压盖[4]与永磁体下压盖[3]之间的磁场作用力，穿越之间形成的磁场，使待除氧水的表面张力降低，从喷嘴喷出的水经磁化雾化后，达到最佳的除氧效果。上压盖[4]沿导向杆[6]上下移动，可根据水压大小自动调节喷嘴间隙、角度，并且可以调整磁场强度，待无水时自动关闭喷嘴，以防止氧化和已除氧水相混。
本实用新型的优点是在较低工作温度条件下可降低水滴的表面张力，从而达到和热力除氧一致的除氧效果，以求采用真空除氧达到节能的目的。当负载变化时，除氧水的表面张力，残氧量比较均衡。
权利要求1.一种真空除氧器的喷嘴装置，其特征在于永磁体下压盖[3]通过进水嘴基座[1]中的槽系安装在进水嘴基座[1]上，并与进水嘴基座[1]之间留有一定的磁路工作间隙，导向杆[6]通过螺母[2]、[5]固定在永磁体下压盖[3]上，在进水嘴基座[1]上有一外螺纹[7]。
专利摘要本实用新型涉及一种工业锅炉真空除氧器的喷嘴装置。主要特征是永磁体下压盖通过进水嘴基座中的槽系安装在进水嘴基座上，并与进水嘴基座之间留有一定的磁路工作间隙，导向杆通过上下螺母固定在永磁体下压盖上。该装置不仅可以将水喷成雾状，增大水汽接触表面积，而且降低水的表面张力，使溶解在水中的气体比较容易通过水滴表面扩散出来，增强除氧器的除氧效果。
文档编号B05B1/02GK2255299SQ9522577
公开日1997年6月4日 申请日期1995年11月9日 优先权日1995年11月9日
发明者娄树普, 潘德华 申请人:潘德华, 娄树普