抗静电表面保护膜的制造方法和抗静电表面保护膜的利记博彩app

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【专利摘要】本发明提供一种对被粘附体的污染少并且无经时劣化，具有优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜。一种抗静电表面保护膜的制造方法，是在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面上形成粘结剂层(2)后，将在树脂膜(3)的单面上层叠含有抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过该剥离剂层(4)贴合于所述粘结剂层(2)的表面上的抗静电表面保护膜(10)的制造方法，其中，剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
【专利说明】抗静电表面保护膜的制造方法和抗静电表面保护膜

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件（下面，有 时也称"光学用膜"）的表面上的抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜。更 详细而言，本发明提供一种对被粘附体的污染少、无经时劣化且具有优良的抗剥离静电性 能的抗静电表面保护膜的制造方法、以及抗静电表面保护膜。

【背景技术】
[0002] 目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面 板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用 膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染、刮伤。为了节省对表面保护膜进 行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查 而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
[0003] 以往以来，为了在光学产品的制造工序中防止伤痕和污垢的附着，通常使用在基 材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合 于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从 光学用膜表面剥离而去除时，能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作 为被粘附体的产品的光学用膜上（所谓的防止粘结剂残留的发生）的现象。
[0004] 近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜 剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示面板的显示画面的驱动IC等 电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。
[0005] 另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC 的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+〇. 7kV?一 0. 7kV的范围内。
[0006] 因此，为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高 所引起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电 剂的粘结剂层。
[0007] 例如，在专利文献1中，公开了一种使用由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚 合物、聚异氰酸酯组成的粘结剂的表面保护膜。
[0008] 另外，在专利文献2中，公开了一种由离子性液体和酸值为I. 0以下的丙烯酸聚合 物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的粘结片类。
[0009] 另外，在专利文献3中，公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴 离子吸附性化合物处理过的碱金属盐组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保 护膜。
[0010] 另外，在专利文献4中，公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为 (TC以下的聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
[0011] 另外，在专利文献5、6中，公开了在表面保护膜的粘结剂层中混合聚醚改性聚硅 氧烷的技术内容。
[0012] 上述专利文献1?4中，在粘结剂层内部添加有抗静电剂，但粘结剂层的厚度越 厚，并且随着时间的推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜所贴合的被粘附体移动的量 会越多。另外，在LR(Low Reflective)偏光板、AG(Anti Glare)-LR偏光板等的光学用膜 中，由于采用聚硅氧烷化合物或氟化物等对光学用膜表面施加了防污染处理，因此，当从作 为被粘附体的光学用膜上剥离该光学用膜所使用的表面保护膜时，剥离静电压变高。
[0013] 另外，如专利文献5、6所述，当在粘结剂层中混合了聚醚改性聚硅氧烷时，难以对 表面保护膜的粘结力进行微调。另外，由于在粘结剂层内混合有聚醚改性聚硅氧烷，因此， 当在基材膜上涂布、干燥粘结剂组合物的条件发生变化时，表面保护膜上形成的粘结剂层 表面的特性微妙地发生变化。并且，从保护光学用膜表面的观点出发，无法使粘结剂层的厚 度设定为极薄。因此，根据粘结剂层的厚度，需要增加粘结剂层内混合的聚醚改性聚硅氧烷 的添加量，结果容易污染被粘附体表面，随时间的粘结力和对被粘附体的污染性发生变化。
[0014] 近年来，伴随着3D显示器（立体视觉显示器）的普及，有在偏光板等光学用膜的 表面贴合FPR(图案相位差膜，Film Patterned Retarder)膜的情况。剥离在偏光板等光学 用膜的表面所贴合的表面保护膜后，贴合FPR膜。但是，当偏光板等的光学用膜表面被表面 保护膜使用的粘结剂、抗静电剂所污染时，存在难以粘接FPR膜的问题。因此，对该用途上 使用的表面保护膜而言，要求其对被粘附体的污染少。
[0015] 另一方面，在一些液晶面板制造厂商中，作为表面保护膜对被粘附体的污染性的 评价方法，是采用如下方法：对偏光板等的光学用膜上贴合的表面保护膜进行一次剥离，在 混入了气泡的状态下进行再贴合，对再贴合后的物件在规定条件下加热处理，然后剥离表 面保护膜并观察被粘附体的表面。在这种评价方法中，即使被粘附体的表面污染是微量的， 若在混入气泡的部分与表面保护膜的粘结剂相接触的部分之间存在被粘附体表面污染的 差异，则会作为气泡痕迹（有时也称作"气泡污痕"）残留。因此，作为对被粘附体表面的污 染性的评价方法，会是非常严格的评价方法。近年来，即使是以这种严格的评价方法进行判 定的结果，也需要对被粘附体的表面污染性方面没有问题的表面保护膜。但目前的状况是， 在以往所提出的使用了含有抗静电剂的粘结剂层的表面保护膜中，难以解决该课题。
[0016] 因此，需要一种在光学用膜中使用的表面保护膜，其对被粘附体的污染非常少、且 对被粘附体的污染性没有经时变化（不随着时间推移发生变化）。并且，需要将从被粘附体 上剥离时的剥离静电压抑制得低的表面保护膜。
[0017] 现有技术文献
[0018] 专利文献
[0019] 专利文献1 :日本特开2005-131957号公报
[0020] 专利文献2 :日本特开2005-330464号公报
[0021] 专利文献3 :日本特开2005-314476号公报
[0022] 专利文献4 :日本特开2006-152235号公报
[0023] 专利文献5 :日本特开2009-275128号公报
[0024] 专利文献6 :日本特许第4537450号公报


【发明内容】

[0025] 发明要解决的课题
[0026] 为了解决该课题，本发明人等进行了精心研究。
[0027] 为了减少对被粘附体的污染并且也减少抗静电性能的经时变化，需要降低被推测 是污染被粘附体的原因的抗静电剂的添加量。但是，当降低抗静电剂的添加量时，会导致从 被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。本发明人等研究了在不增加抗静电剂 添加量的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方 法。其结果发现，不在粘结剂组合物中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布 粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，通过对粘结剂层表面赋予适量的抗静电剂成 分，能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时的剥离静电压，并基 于上述发现完成了本发明。
[0028] 本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于提供一种对被粘附体的污染少、 且具有无经时劣化（不随着时间推移发生劣化）的优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保 护膜的制造方法、以及抗静电表面保护膜。
[0029] 解决课题的方法
[0030] 为了解决上述课题，本发明抗静电表面保护膜的技术思想在于，在涂布粘结剂组 合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，对该粘结剂层的表面赋予适量的20°C下是液体的聚硅 氧烷（silicone)类化合物和抗静电剂，由此，能够较低地抑制对被粘附体的污染性，而且 能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的剥离静电压。
[0031] 为了解决上述课题，本发明提供一种抗静电表面保护膜的制造方法，其是在由具 有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成粘结剂层后，将在树脂膜单面上层叠了含有抗 静电剂的剥离剂层的剥离膜，通过前述剥离剂层贴合在前述粘结剂层表面的抗静电表面保 护膜的制造方法，其中，前述剥离剂层是由含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、 20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
[0032] 另外，优选前述聚硅氧烷类化合物为聚醚改性聚硅氧烷。
[0033] 另外，优选前述抗静电剂为碱金属盐。
[0034] 另外，优选前述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结 剂层。
[0035] 另外，为了解决上述课题，本发明提供一种抗静电表面保护膜，该抗静电表面保护 膜是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成粘结剂层，并且在树脂膜单面层叠了 含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜通过前述剥离剂层贴合于前述粘结剂层表面而成，前述 剥离剂层是由含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20°C下是液体的聚硅氧烷类 化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
[0036] 另外，优选前述聚硅氧烷类化合物为聚醚改性聚硅氧烷。
[0037] 另外，优选前述抗静电剂为碱金属盐。
[0038] 另外，优选前述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结 剂层。
[0039] 另外，本发明提供一种光学用膜，其贴合有上述抗静电表面保护膜。
[0040] 另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述抗静电表面保护膜。
[0041] 发明效果
[0042] 本发明的抗静电表面保护膜对被粘附体的污染少，且对被粘附体的低污染性无经 时变化（不会随着时间推移发生变化）。另外，基于本发明，能够提供一种抗静电表面保护 膜的制造方法以及抗静电表面保护膜，其中，即使是LR偏光板、AG-LR偏光板等的被粘附体 的表面通过聚硅氧烷化合物、氟化物等进行过防污染处理的光学用膜，该抗静电表面保护 膜也能够较低地抑制从被粘附体上剥离抗静电表面保护膜时发生的剥离静电压，并具有无 经时劣化且优良的抗剥离静电性能。
[0043] 基于本发明的抗静电表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现 生广效率的提商和成品率的提商。

【专利附图】

【附图说明】
[0044] 图1是表示本发明的抗静电表面保护膜的概念的剖面图。
[0045] 图2是表示从本发明的抗静电表面保护膜剥下剥离膜的状态的剖面图。
[0046] 图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
[0047] 附图标记的说明
[0048] 1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；4……剥离剂层；
[0049] 5……剥离膜；7……20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂；
[0050] 8……被粘附体（光学部件）；10……抗静电表面保护膜；
[0051] 11……已剥下剥离膜的抗静电表面保护膜；
[0052] 20……贴合了抗静电表面保护膜的光学部件。

【具体实施方式】
[0053] 下面，基于实施方式详细说明本发明。
[0054] 图1是表示本发明的抗静电表面保护膜的概念的剖面图。该抗静电表面保护膜 10,是在透明的基材膜1单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥 离膜5,该剥离膜5是在树脂膜3的表面形成剥离剂层4而成。
[0055] 作为在本发明的抗静电表面保护膜10中使用的基材膜1，使用由具有透明性 和挠性的树脂构成的基材膜。由此，能够在将抗静电表面保护膜贴合于作为被粘附体的 光学部件的状态下实施光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构 成的膜，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯 (polyethylene isophthalate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。作为该膜只要具有所需 强度且具有光学适应性即可，除了聚酯膜以外也可以使用由其它树脂构成的膜。基材膜1 既可以是未拉伸膜，也可以是被施以单轴拉伸或双轴拉伸而成的膜。另外，也可以将拉伸膜 的拉伸倍率、拉伸膜的伴随晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值上。
[0056] 对本发明的抗静电表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度而言，并没有特别的限 定，例如，优选为12?100 ii m左右的厚度；若为20?50 ii m左右的厚度则易于操作，因此 更优选。
[0057] 另外，根据需要，可在基材膜1的与形成有粘结剂层2的面相反侧的面上，设置用 于防止表面污染的防污层、抗静电层、防止刮伤的硬涂层等。另外，在基材膜1的表面，也可 以实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
[0058] 另外，对本发明的抗静电表面保护膜10中使用的粘结剂层2而言，只要是在被粘 附体的表面上进行粘接、使用完毕后可简单地剥下并且难以污染被粘附体的粘结剂层即 可，并没有特别限定，但考虑到在光学用膜上贴合后的耐久性等，通常采用使（甲基）丙烯 酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结剂层。
[0059] 作为（甲基）丙烯酸酯共聚物，可以举出将主要单体与共聚用单体、官能性单体进 行共聚而成的共聚物，其中，所述主要单体可举出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯 酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等；所述共聚用单体可举出丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、 丙烯酸乙酯等；所述官能性单体可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、 甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等。（甲基）丙烯酸酯共聚物中，主要单体 和共聚用单体均可以为（甲基）丙烯酸酯，也可以作为共聚用单体含有一种或两种以上的 除了（甲基）丙烯酸酯以外的单体。
[0060] 另外，也可以使（甲基）丙烯酸酯共聚物与含有聚氧化亚烧基（polyoxyalkylene) 的化合物进行共聚或者进行混合。作为可共聚的含有聚氧化亚烷基的化合物，可以举出：聚 乙二醇（400)单丙烯酸酯、聚乙二醇（400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400)丙烯酸 酯、甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇（400)单丙烯酸酯、聚丙二醇（400)单 甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400)甲基丙烯酸酯等。 通过将这些含有聚氧化亚烷基的单体与前述（甲基）丙烯酸酯共聚物的主要单体、官能性 单体进行共聚，能够获得由含有聚氧化亚烷基的共聚物所组成的粘结剂。
[0061] 作为可与（甲基）丙烯酸酯共聚物进行混合的含有聚氧化亚烷基的化合物，优选 为含有聚氧化亚烷基的（甲基）丙烯酸酯共聚物，更优选为含有聚氧化亚烷基的（甲基）丙 烯酸类单体的聚合物，例如，可以举出聚乙二醇（400)单丙烯酸酯、聚乙二醇（400)单甲基 丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯、聚丙二 醇（400)单丙烯酸酯、聚丙二醇（400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400)丙烯酸酯、 甲氧基聚丙二醇（400)甲基丙烯酸酯等的聚合物。通过将这些含有聚氧化亚烷基的化合物 与前述（甲基）丙烯酸酯共聚物进行混合，能够获得添加了含有聚氧化亚烷基的化合物的 粘结剂。
[0062] 对添加于粘结剂层2中的固化剂而言，作为使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联的交 联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物等。另外，作为 增粘剂，可以举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
[0063] 对本发明的抗静电表面保护膜10中使用的粘结剂层2的厚度，并没有特别的限 定，例如，优选为5?40 iim左右的厚度，更优选为10?30 iim左右的厚度。当为抗静电表 面保护膜对被粘附体表面的剥离强度（粘结力）为〇? 03?0? 3N/25mm左右的、具有微粘结 力的粘结剂层2时，从被粘附体上剥离抗静电表面保护膜时的操作性优良，因此优选。另 夕卜，基于从抗静电表面保护膜10剥下剥离膜5时的操作性优良的观点，优选剥离膜5从粘 结剂层2上剥下的剥离力为0? 2N/50mm以下。
[0064] 另外，对本发明的抗静电表面保护膜10中使用的剥离膜5而言，是在树脂膜3的 单面上形成有剥离剂层4,该剥离剂层4是使用含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥 离剂、20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
[0065] 作为树脂膜3,可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从 透明性优良或价格比较低廉的观点出发，特别优选为聚酯膜。树脂膜既可以是未拉伸膜，也 可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体 化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
[0066] 对树脂膜3的厚度并没有特别的限定，例如，优选为12?IOOiim左右的厚度；若 为20?50 ii m左右的厚度则易于操作，因此更优选。
[0067] 另外，在树脂膜3的表面，也可以根据需要实施基于电晕放电进行的表面改性、底 涂剂的涂抹等易粘接化处理。
[0068] 作为构成剥离剂层4的、以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂，可以举出加 成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等的公知的聚硅氧烷类剥离剂。作为 加成反应型聚硅氧烷类剥离剂市售的产品，例如，可以举出：KS-776A、KS-847T、KS-779H、 KS-837、KS-778、KS-830 (信越化学工业株式会社制造）；SRX-211、SRX-345、SRX-357、 SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(陶氏康宁东丽株式会社（Dow Corning Toray Co.，Ltd.)制造）等。作为缩合反应型市售的产品，例如，可以举出SRX-290、 SYL0FF-23(陶氏康宁东丽株式会社制造）等。作为阳离子聚合型市售的产品，例如，可 以举出 TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430(迈图高新材料公司（Momentive Performance Materials Inc.)制造）、X62_7622(信越化学工业株式会社制造）等。作为 自由基聚合型市售的产品，例如，可以举出X62-7205 (信越化学工业株式会社制造）等。 [0069] 作为构成剥离剂层4的、20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物，可以举出聚醚改性 聚娃氧烧、烧基改性聚娃氧烧、甲醇1?级脂肪酸醋改性聚娃氧烧等。在本发明中，为了提1? 粘结剂层表面的抗静电性，使用在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂层中相溶的状 态的20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物。从本发明的用途而言，优选为改性聚硅氧烷化合 物中的聚醚改性聚硅氧烷。聚醚改性聚硅氧烷中的聚醚链是由氧化乙烯（环氧乙烷）、氧化 丙烯（环氧丙烷）等构成，例如，通过选择侧链中使用的聚氧化乙烯的分子量，能够调整与 聚硅氧烷剥离剂的相溶性、抗静电效果等物理性质。
[0070] 另外，作为聚醚改性聚硅氧烷市售的产品，例如，可以举出：KF-351A、KF-352A、 KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642 (信越化学工业株式会社制造）；SH8400、SH8700、 SF8410 (陶氏康宁东丽株式会社制造）；TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、 TSF_4450(迈图高新材料公司（MomentivePerformanceMaterials Inc.)制造）；BYK_300、 BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330 (BYK-Chemie 公司社制造）等。
[0071] 20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥 离剂的添加量，是根据聚硅氧烷化合物的种类、与剥离剂的相溶性程度的不同而不同，只要 考虑到从被粘附体上剥离抗静电表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、 粘结特性等而进行设定即可。
[0072] 作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥 离剂溶液的分散性良好、并且不阻碍以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固化的抗 静电剂。作为这样的抗静电剂，优选碱金属盐。
[0073] 作为碱金属盐，可以举出：包含锂、钠、钾的金属盐，具体而言，例如，优选使用通过 包含 Li+、Na+、K+ 的阳离子与包含 Cl' I' BF4' PF6' SCN' ClO4' CF3SO3' (CF3SO2)2N' (C2F 5SO2)2N' (CF3SO2)3C-的阴离子所构成的金属盐。其中，特别优选使用LiBr、LiI、LiBF 4、 LiPF6、LiSCN、LiClO4' LiCF3SO3' Li (CF3SO2) 2N、Li (C2F5SO2) 2N、Li (CF3SO2) 3C 等锂盐。这些碱 金属盐既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。为了离子性物质的稳定化，也可以添加 含有聚氧化亚烷基（聚乙二醇）结构的化合物。
[0074] 抗静电剂相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的添加量，是根据抗静 电剂的种类、与剥离剂的亲和性的程度的不同而不同，但考虑到从被粘附体上剥离抗静电 表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等进行设定即可。
[0075] 对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂 的混合方法而言，并没有特别的限定。可以采用下列混合方法中的任一种方法：在以二甲基 聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂中，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂进行混合后，添加 剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷作为主 要成分的剥离剂后，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂以及剥离剂固化用催化剂并加以混 合的方法；预先将以聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂稀释于有机溶剂后，添加催化剂而进 行混合，然后，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂并加以混合的方法等。另外，根据需要，也 可以添加硅烷偶联剂等粘合促进剂、含有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材 料。
[0076] 对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂 的混合比率而言，并没有特别的限定，但相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂 的固体成分1〇〇,优选聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂以固体成分计为5?100左右的比例。 相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分1〇〇,若聚醚改性聚硅氧烷和 抗静电剂的以固体成分换算的添加量小于5的比例，则抗静电剂对粘结剂层表面的转移量 也变少，难以使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分 的剥离剂的固体成分1〇〇,若聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的以固体成分换算的添加量超 过100的比例，则导致与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂一起以二甲基聚硅氧烷作为主要成 分的剥离剂也会被转移至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。
[0077] 本发明中在抗静电表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合 剥离膜5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可以举出：（1) 将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层 后贴合剥离膜5的方法；（2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5表面上 并进行干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可以采用其中的任一种方法。
[0078] 另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1表面时，可采用公知的方法来进行。具体而 言，能够使用逆转涂布、逗号刮刀涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒（Mayer bar)涂 布、气刀涂布等公知的涂布方法。
[0079] 另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可以采用公知的方法来进行。具 体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
[0080] 对具有上述构成的本发明抗静电表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用 膜上剥离时的表面电位优选为+0. 7kV?一 0. 7kV。并且，更优选表面电位为+0. 5kV?一 0. 5kV，特别优选表面电位为+0. IkV?一 0. lkV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含 有的聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的种类、添加量等来进行调整。
[0081] 图2是表示从本发明的抗静电表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
[0082] 通过将剥离膜5从如图1所示的抗静电表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂 层4所含的、20°C下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂（附图标记7)的一部分，被转 移（附着）至抗静电表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中，以附图标记7 的斑点示意性地示出了被转移至抗静电表面保护膜的粘结剂层2表面的、20°C下是液体的 聚硅氧烷类化合物和抗静电剂。
[0083] 对本发明的抗静电表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的抗静 电表面保护膜11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的、20°C下是液体的聚 硅氧烷类化合物和抗静电剂，与被粘附体表面进行接触。通过该操作，能够较低地抑制再次 从被粘附体上剥下抗静电表面保护膜时的剥离静电压。
[0084] 图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
[0085] 在将剥离膜5从本发明的抗静电表面保护膜10上剥下从而粘结剂层2外露的状 态下，通过该粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
[0086] S卩，在图3中示出了贴合有本发明抗静电表面保护膜10的光学部件20。作为光学 部件，可以举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光 板等光学用膜。这种光学部件被用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类光学 系统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可以举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透 明导电膜等光学用膜。特别是，能够优选用作贴合于表面已用聚硅氧烷化合物、氟化合物等 进行过防污染处理的低反射处理偏光板（LR偏光板）、防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光 板）等光学用膜的施加了防污染处理的面上的抗静电表面保护膜。
[0087] 基于本发明的光学部件，当将抗静电表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件 (光学用膜）上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平，因此，不用担心会破 坏驱动1C、TFT元件、栅极线驱动电路等的电路部件，能够提高制造液晶显示面板等工序中 的生产效率，确保生产工序的可靠性。
[0088] 实施例
[0089] 下面，通过实施例进一步说明本发明。
[0090](实施例1)
[0091](抗静电表面保护膜的制造）
[0092] 将5重量份的加成反应型聚娃氧烧（产品名称为SRX-345,陶氏康宁东_株式会 社（Dow Corning Toray Co.，Ltd.)制造）、0? 15重量份的聚醚改性聚娃氧烧（产品名称 为SH8400,陶氏康宁东丽株式会社制造）、5重量份的高氯酸锂为10%的醋酸乙酯溶液、95 重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、以及0.05重量份的钼催化剂（产品名称为 SRX_212Catalyst (催化剂），陶氏康宁东丽株式会社制造）混合在一起并进行搅拌混合，配 制了形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将形成实施例1的剥离剂层的涂料，以 使干燥后的厚度成为〇. 2 ii m的方式，涂布在厚度为38 ii m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表 面，并在120°C的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，将 由丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸2-羟乙酯以100:4的重量比进行共聚而成的、重均分子量 为47万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中而获得粘结剂（固 体成分含量为30%的醋酸乙酯溶液），相对于100重量份的该粘结剂，添加1. 2重量份的 HDI类固化剂（产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社（Nippon Polyurethane Industry Co.，Ltd.)制造）并进行混合而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成 为20 Ii m的方式涂布于厚度为38 Ii m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过100°C的 热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上 述制造的实施例1的剥离膜的剥离剂层（聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘着膜在40°C的 环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了实施例1的抗静电表面保护膜。
[0093] (实施例2)
[0094] 除了将形成实施例1的剥离剂层的涂料的干燥后的厚度设定为0. I U m以外，与实 施例1同样地进行操作，获得了实施例2的抗静电表面保护膜。
[0095] (实施例3)
[0096] 作为实施例1的加成反应型聚娃氧烧使用了陶氏康宁东丽株式会社（Dow Corning Toray Co.，Ltd.)制造的名称为SRX-211的产品，作为聚醚改性聚硅氧烷使用了信越化学工 业株式会社制造的名称为KS-352A的产品，使用10重量份的双（三氟甲烷磺酰）亚胺锂为 10%的醋酸乙酯溶液来代替5重量份的高氯酸锂为10%的醋酸乙酯溶液，除上述以外与实 施例1同样地进行操作，获得了实施例3的抗静电表面保护膜。
[0097] (比较例1)
[0098] 将5重量份的加成反应型聚娃氧烧（产品名称为SRX-345,陶氏康宁东_株式会社 制造）、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、以及0.05重量份的钼催化剂（产 品名称为SRX-212Catalyst，陶氏康宁东丽株式会社制造）混合在一起并进行搅拌混合，配 制了形成比较例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将形成比较例1的剥离剂层的涂料，以 使干燥后的厚度成为〇. 2 ii m的方式，涂布在厚度为38 ii m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表 面，并在120°C的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了比较例1的剥离膜。另一方面，相 对于100重量份的实施例1的粘结剂（固体成分含量为30%的醋酸乙酯溶液），添加并混 合了 0.3重量份的聚醚改性聚娃氧烧（产品名称为SH8400,陶氏康宁东_株式会社（Dow Corning Toray Co.，Ltd.)制造）、10重量份的高氯酸锂为10%的醋酸乙酯溶液、L 2重量份 的HDI类固化剂（产品名称为C〇r〇nate( = a才、一卜）HX，日本聚氨酯工业株式会社制造） 而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20 ii m的方式涂布于厚度为38 ii m的 聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过KKTC的热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成 了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的比较例1的剥离膜的剥离剂层 (聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘着膜在40°C的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得 了比较例1的抗静电表面保护膜。
[0099] (比较例2)
[0100] 除了将聚醚改性聚硅氧烷（产品名称为SH8400,陶氏康宁东丽株式会社制造）设 定为0. 03重量份、将高氯酸锂为10%的醋酸乙酯溶液设定为1重量份以外，与比较例1同 样地进行操作，获得了比较例2的抗静电表面保护膜。
[0101] (实施例4)
[0102] 将丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸2-羟乙酯以60:40:4的重量比进行 共聚而成的重均分子量为48万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯 中形成粘结剂（固体成分含量为30 %的醋酸乙酯溶液），相对于100重量份的该粘结剂添 加并混合1. 2重量份的HDI类固化剂（产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社 制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外，与实施例1同样 地进行操作，获得了实施例4的抗静电表面保护膜。
[0103] (实施例5)
[0104] 将丙烯酸2-乙基己酯、甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯和丙烯酸2-羟乙酯 以90:10:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为38万的（甲基）丙烯酸酯共聚物30 重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂（固体成分含量为30%的醋酸乙酯溶 液），相对于100重量份的该粘结剂添加并混合1. 2重量份的HDI类固化剂（产品名称为 Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1 的涂抹液，除此以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例5的抗静电表面保护膜。
[0105] (实施例6)
[0106] 将丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸以100:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为 52万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂（固体成 分含量为30%的醋酸乙酯溶液），相对于100重量份的该粘结剂添加并混合I. 0重量份的 环氧类固化剂（产品名称为TETRAD-C，三菱瓦斯化学株式会社（Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.)制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外与 实施例1同样地进行操作，获得了实施例6的抗静电表面保护膜。
[0107] 下面，示出评价试验的方法和结果。
[0108] 〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
[0109] 以宽度50mm、长度150mm的尺寸切割抗静电表面保护膜的试样。在23°C X 50 % RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测 定此时的强度，并将其作为剥离膜的剥离力（N/50mm)。
[0110]〈抗静电表面保护膜的粘结力的测定方法〉
[0111] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然后， 将切割成宽度为25mm的抗静电表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试 验环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离掉 抗静电表面保护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力（N/25mm)。
[0112] 〈抗静电表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
[0113] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然后， 将切割成宽度为25mm的抗静电表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试 验环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机（TESTER产业株式会社（TESTER Sangyo Co.，Ltd.)制造）以每分钟40m的剥离速度剥离抗静电表面保护膜的同时，使用表面电位 计（株式会社基恩士（Keyence Corporation)制造）每IOms测定前述偏光板表面的表面电 位,并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压（kV)。
[0114] 〈抗静电表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
[0115] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然后， 将切割成宽度为25mm的抗静电表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试 验环境下保管3天和30天。然后，剥下抗静电表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面的 污染性。作为表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染转移时判定为（〇），当确认偏光 板上有污染转移时判定为（X)。
[0116] 对所得到的实施例1?6和比较例1?2的抗静电表面保护膜进行测定，并将测 定结果示于表1?2中。其中，"2EHA"是指丙烯酸2-乙基己酯，"HEA"是指丙烯酸2-羟乙 酯，"BA"是指丙烯酸丁酯，"#400G"是指甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯，"AA"是指丙 烯酸，"LiC10 4"是指高氯酸锂，"Li(CF3S02)2N"是指双（三氟甲烷磺酰）亚胺锂。粘结剂层 和剥离剂层的组成，是以使粘结剂总量或者形成剥离剂层的涂料总量分别成为约100重量 份的方式用重量份进行表示。
[0117] 表 1
[0118]

【权利要求】
1. 一种抗静电表面保护膜的制造方法，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上 形成粘结剂层后，将在树脂膜单面上层叠含有抗静电剂的剥离剂层而成的剥离膜，通过所 述剥离剂层贴合于所述粘结剂层的表面上，其中， 所述剥离剂层是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20°c下是液体的 聚硅氧烷类化合物和抗静电剂的树脂组合物来形成。
2. 如权利要求1所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其中， 所述聚硅氧烷类化合物是聚醚改性聚硅氧烷。
3. 如权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其中， 所述抗静电剂是碱金属盐。
4. 如权利要求1?3中任一项所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其中， 所述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结剂层。
5. -种抗静电表面保护膜，是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成粘结剂 层，并且，将在树脂膜的单面层叠了含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，通过所述剥离剂层 贴合于所述粘结剂层表面而成， 所述剥离剂层是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20°C下是液体的 聚硅氧烷类化合物和抗静电剂的树脂组合物来形成。
6. 如权利要求5所述的抗静电表面保护膜，其中， 所述聚硅氧烷类化合物是聚醚改性聚硅氧烷。
7. 如权利要求5或6所述的抗静电表面保护膜，其中， 所述抗静电剂是碱金属盐。
8. 如权利要求5?7中任一项所述的抗静电表面保护膜，其中， 所述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结剂层。
9. 一种光学用膜，其贴合有权利要求8所述的抗静电表面保护膜。
10. -种光学部件，其贴合有权利要求8所述的抗静电表面保护膜。
【文档编号】C09J9/02GK104293222SQ201410242356
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年6月3日 优先权日:2013年7月18日
【发明者】小林弘幸, 春日充, 远藤佳子, 林益史 申请人:藤森工业株式会社