熔凝器构件组合物的利记博彩app
【专利摘要】本发明提供一种包含聚酰亚胺和醇的磷酸酯的组合物的静电复印熔凝器构件。
【专利说明】熔凝器构件组合物
【技术领域】
[0001] 本发明总体涉及可用于电子照相成像装置中的熔凝器构件，所述成像装置包括数 字系统、图像叠图像（image on image)系统和转印定影固体喷墨打印系统，并且其中所述 熔凝器构件包括包含聚酰亚胺和醇的磷酸酯的混合物的基底层。
【背景技术】
[0002] 为通过热和压力固定或熔凝调色剂材料到支承构件如纸上，常常需要升高调色剂 的温度并同时施加足以使得调色剂的组分变粘并聚结的压力。在静电复印以及电子图记录 技术二者中，已知使用热能来定影调色剂图像到支承构件上。
[0003] 还已知离心模塑方法来获得聚酰亚胺熔凝器带，其中向刚性圆筒形芯轴的内表面 施加约〇. 5微米的含氟薄离型层或有机硅薄离型层，并向含离型层的芯轴的内表面施加聚 酰亚胺涂层，并且其中所述聚酰亚胺被固化并然后从芯轴释放。前述方法存在许多缺点，例 如，聚酰亚胺带的长度由芯轴的尺寸决定并且要求在芯轴的内表面上有离型层，离型层可 能价格昂贵并且涉及额外的工艺步骤。因此，在没有外加的离型层时，聚酰亚胺常常不会在 无任何外部努力的情况下自释放。
[0004] 另外，在制备熔凝器构件时，需要具有从所选择的众多基底自释放的特性的熔凝 器构件材料。
[0005] 也需要针对静电复印过程中显影图像的热熔凝选择的无缝熔凝构件，并且其中所 述构件无单独的离型层。
[0006] 另一需要在于提供可在比含有离型层的那些熔凝器构件低的成本下以及在比已 知的离心制造无缝聚酰亚胺带方法低的成本下制造的无缝熔凝构件和无缝熔凝带。
[0007] 另外，需要含有为醇的磷酸酯的非氟内离型剂的静电复印熔凝器构件，并且该磷 酸酯允许含聚合物如聚酰亚胺的组合物以经济的方式从基底快速释放，并且其中外涂层 (如像有机硅层的聚合物）的粘附是基本永久的。
[0008] 此外，需要含有可经济高效地制备的组合物的熔凝构件及其无缝带。
[0009] 另外，需要具有优异力学性质的组合从而延长其使用时间并如本文所示具有稳定 的基本一致的特性的熔凝构件，并且其中仅需要单个涂层。
【发明内容】
[0010] 本发明公开了一种包括基底层的熔凝器构件，所述基底层包含聚酰亚胺和醇的磷 酸酯的混合物。
[0011] 本文还阐明了包含聚酰亚胺与下式/结构的醇的磷酸酯的组合物混合物的静电 复印熔凝器带，
[0012] CnH2n+1-0-P(=0) (0H)2
[0013] 和
[0014] 0^-0^(=0) (0H)2
[0015] 其中，η表示碳和氢原子以及它们的混合物的个数；并且其中呈层的形式的聚酰 亚胺和醇的磷酸酯混合物在任选的硅橡胶涂层上包含含氟聚合物或其混合物。
[0016] 此外本文还公开了一种形成适于与静电复印图像形成系统一起使用的熔凝器带 的方法，所述方法包括：向旋转基底的外表面上流涂包含聚酰亚胺、醇的磷酸酯和溶剂的组 合物，在约125°c至约250°C的温度下预固化所述涂层组合物，然后在约250°C至约370°C的 温度下终固化，任选地，其中所述溶剂选自四氢呋喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、Ν，Ν' -二 甲基甲酰胺、Ν，Ν' -二甲基乙酰胺、Ν-甲基吡咯烷酮和二氯甲烷，并且任选地，其中所述醇 的磷酸酯以固体的约〇. 03至约0. 5重量％的量存在，并且所述醇的磷酸酯由以下中的至少 之一表不
[0017] C6H13-〇-P (=0) (0H) 2,
[0018] C6Hn-0-P(=0) (OH) 2,
[0019] C12H25-〇-P (=0) (OH) 2,
[0020] C12H23-〇-P (=0) (OH) 2,
[0021] C16H33-〇-P (=0) (OH) 2,
[0022] C16H31-〇-P (=0) (0H)2,
[0023] C13H27-〇-P (=0) (OH) 2,
[0024] C18H35-〇-P (=0) (0H)2,
[0025] C8_1(iH17_21-〇_P (=0) (OH) 2，
[0026] 或 C8H17-〇_P (=0) (OH) 2 和 C1QH21-〇-P (=0) (OH) 2 的混合物。
【专利附图】
【附图说明】
[0027] 提供附图以进一步示意本文所公开的熔凝器构件。
[0028] 图1示意了呈本发明的带形式的熔凝器构件的横截面视图的示例性实施例。
[0029] 图2A和2B示意了本发明的示例性一般化熔凝构型。
[0030] 图3示意了本发明的转印定影装置的示例性实施例。
[0031] 图4示意了完成熔凝器构件涂层组合物的终固化的张紧装置的示例性实施例。
【具体实施方式】
[0032] 在各种实施例中，熔凝器构件可包括例如包含聚酰亚胺聚合物和醇的磷酸酯的混 合物的基底层以及形成在其上的一个或多个功能层。基底可用合适的非导电或导电材料形 成为各种形状，例如带或膜，并且熔凝器构件的厚度为例如约30至约1，000微米、约100至 约800微米、约150至约500微米、约100至约125微米或约75至约80微米。
[0033] 在每个附图中，当存在时，箭头示意所示各种部件的运动方向。
[0034] 在图1中，本发明的示例性实施例--烙凝或转印定影构件200可包括由聚酰亚 胺聚合物和醇的磷酸酯的混合物构成的基底或带210,和一个或多个，例如1个至约4个，或 1个至约2个中间功能层220,以及任选的形成在其上的外表面离型层230。
[0035] 图2A和2B示意了根据本发明的用于熔凝过程的示例性一般化熔凝构型，应指出， 虽然本文描述了电子照相打印机，但所公开的装置和方法可应用于其它打印技术，其例子 包括胶印、喷墨和固体喷墨转印定影机器，以及应用于无油熔凝系统。
[0036] 图2A示意了引入了图1中所示熔凝器构件200的熔凝构型300B。构型300B可包 括周向地缠绕鼓100的图1熔凝器带，鼓100与压力施加机构335形成熔凝器压区，压力施 加机构335包括用于图像支承材料315的压力带。在各种实施例中，压力施加机构335可 与热灯(未示出）组合使用，以为调色剂颗粒在图像支承材料315上的熔凝或定影提供压力 和热二者。此外，构型300B可包括一个或多个外部热辊350以及清洁幅材360,如图2A中 所示。
[0037] 图2B示意了具有图1中所示烙凝器构件的烙凝构型400B。构型400B可包括呈 图1的带200的形式的熔凝器构件，其与压力施加机构435如压力带形成熔凝器压区，压力 施加机构435具有用于介质或纸基底415的辊。在各种实施例中，压力施加机构435可与 热灯(未示出）组合使用以为调色剂颗粒在介质基底如纸415上的熔凝提供压力和热二者。 此外，构型400B可包括机械系统445，其也可用作热辊或在需要时用作热辊，并用至少一个 辊，例如分别由447、449和448指示的辊a、b和c，来移动熔凝器带200并熔凝调色剂颗粒 以在介质基底415上形成显影图像。
[0038] 图3示出了转印定影构件7的一个实施例的视图，其可呈带、板、膜等形式。转印 定影构件7与本文中所示图1的熔凝器构件200或图2B的带200类似地构造。位于熔凝 构件1上的静电复印调色剂显影图像12经由辊4和8与转印定影构件7接触并转印到转 印定影构件7上。辊4和/或辊8可具有或可不具有伴随其的热。转印定影构件7沿箭头 13的方向行进。随着复制基底9在辊10和11之间前行，显影图像12通过转印定影构件7 转印并熔凝至复制基底9,以产生最终的熔凝调色剂显影图像12。辊10和/或11可具有 或可不具有伴随其的热。
[0039] 图4示意了用于本发明的熔凝器构件的固化装置。所公开熔凝器构件涂层的固化 在例如约1至约10千克或约3至约7千克的张力下实现，并且其中预固化构件或带210张 紧在两个辊250之间，同时沿箭头20的方向旋转。所公开涂层组合物混合物的预固化可在 各种合适的温度例如约125°C至约250°C、或约175°C至约200°C下实现，然后在约250°C至 约370°C或约300°C至约325°C下终固化。
[0040] 所公开的聚酰亚胺和醇的磷酸酯的熔凝器构件组合物混合物可在期望的产品圆 周下流涂到焊接或无缝不锈钢带或鼓、无缝铝带或鼓、电成型的无缝镍带或鼓、或者玻璃鼓 上。使所述聚酰亚胺-醇的磷酸酯带在例如约150°c至约250°C、约125°C至约250°C、或 约180°C至约220°C下部分固化或预固化例如约30至约90分钟、或约45至约75分钟的时 间，从焊接或无缝不锈钢带或鼓、或无缝铝带或鼓、或电成型的无缝镍带或鼓、或玻璃鼓自 释放，然后以图4中所示构型于张力下在例如约250°C至约370°C、或约300°C至约340°C下 进一步完全固化例如约30至约150分钟、或约60至约120分钟的时间段。对于终固化，带 处于约1至约10千克或约3至约7千克的张力下，并且其中预固化带210张紧在两个辊 250之间，同时沿箭头20的方向旋转。
[0041] 本文还公开了一种形成适于与图像形成系统、例如静电复印图像形成系统一起使 用的熔凝器带的方法。所述方法包括，例如，包含聚酰亚胺、醇的磷酸酯和溶剂的组合物在 期望的产品圆周下向旋转基底如焊接或无缝不锈钢带或鼓、或无缝铝带或鼓、或电成型的 无缝镍带或鼓、或玻璃鼓的外表面上的流涂。涂层经部分固化并然后如本文中所示接着固 化，或者完全固化于旋转基底上。
[0042] 焙凝器构件纟目合物
[0043] 所公开的熔凝器构件可由聚酰亚胺和醇的磷酸酯的混合物构成，所述组合物从金 属基底如不锈钢自释放，并且其中可避免金属基底上的外离型层。因此，所公开的组合物是 有成本效率的，因为例如仅需要一个涂层。
[0044] 在一个实施例中，所公开的熔凝器基底层组合物包含聚酰亚胺前体和醇的磷酸 酯，所述聚酰亚胺前体的例子有聚酰胺酸，特别是联苯四羧酸二酐/苯二胺的聚酰胺酸，并 主要充当内离型剂。
[0045] 聚酰亚胺
[0046] 针对本文所示熔凝器构件选择的聚酰亚胺的例子可自为聚酰胺酸的聚酰亚胺前 体形成，所述聚酰胺酸包括均苯四酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰胺酸、均苯四酸二酐 /苯二胺的聚酰胺酸、联苯四羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰胺酸、联苯四羧酸二酐 /苯二胺的聚酰胺酸、二苯甲酮四羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰胺酸、二苯甲酮四 羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚/苯二胺的聚酰胺酸等中的一者以及它们的混合物。固化 后，所得的聚酰亚胺包括均苯四酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰亚胺、均苯四酸二酐/ 苯二胺的聚酰亚胺、联苯四羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰亚胺、联苯四羧酸二酐/ 苯二胺的聚酰亚胺、二苯甲酮四羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰亚胺、二苯甲酮四羧 酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚/苯二胺的聚酰亚胺以及它们的混合物。
[0047] 选择的均苯四酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰胺酸的市售例子包括PYRE-ML RC5019(在N-乙基-2-吡咯烷酮（NMP)中，约15至16重量％)、RC5057(在80/20的NMP/芳 烃中，约14. 5至15. 5重量％)和RC5083(在15/85的NMP/DMAc中，约18至19重量％)，均来 自 Industrial Summit technology Corp.，Parlin，NJ ; DURIMIDE? !〇〇,可自 FUJIFILM Electron ic Materials U. S. A. , Inc.商购获得。
[0048] 为生成选定用于本文所示熔凝器构件的聚酰亚胺，可利用联苯四羧酸二酐/苯二 胺的聚酰胺酸，包括U-VARNISH A和S(在NMP中，约20重量％)，二者均可得自UBE America 111。.，他￥￥〇4，附.；？1-2610(在匪？中，约10.5重量％)和？1-2611(在匪卩中，约13.5 重量 ％)，二者均可得自 HD Microsystems, Parlin，NJ。
[0049] 二苯甲酮四羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚的聚酰胺酸的市售例子包括RP46和 RP50 (在NMP中，约18重量％)，二者均可得自Unitech Corp.，Hampton, VA.;而二苯甲酮四 羧酸二酐/4, 4' -二氨基二苯醚/苯二胺的聚酰胺酸的市售例子包括PI-2525 (在NMP中， 约25重量％)、PI-2574 (在NMP中，约25重量％)、PI-2555 (在80/20的NMP/芳烃中，约19 重量％)和PI-2556 (在70/15/15的NMP/芳烃/丙二醇甲醚中，约15重量％)，所有均可得 自 HD Microsystems, Parlin，NJ〇
[0050] 更具体而言，可选择以形成聚酰亚胺的聚酰胺酸或聚酰胺酸酯例子通过二酐和二 胺的反应制备。选择的合适二酐包括芳族二酐和芳族四羧酸二酐如9, 9-双（三氟甲基）氧 杂蒽-2, 3, 6, 7-四羧酸二酐、2, 2-双（3, 4-二羧基苯基）六氟丙烷二酐、2, 2-双（(3, 4-二 羧基苯氧基）苯基）六氟丙烧二酐、4, 4' -双（3, 4-二羧基-2, 5, 6-二氟苯氧基）八氟联 苯二酐、3, 3'，4, 4' -四羧基联苯二酐、3, 3'，4, 4' -四羧基二苯甲酮二酐、二-(4-(3, 4-二 羧基苯氧基）苯基）醚二酐、二-(4-(3, 4-二羧基苯氧基）苯基）硫醚二酐、二-(3, 4-二 羧基苯基）甲烷二酐、二-(3, 4-二羧基苯基）醚二酐、1，2, 4, 5-四羧基苯二酐、1，2, 4-三 羧基苯二酐、丁烷四羧酸二酐、环戊烷四羧酸二酐、均苯四酸二酐、1，2, 3, 4-苯四羧酸二酐、 2, 3, 6, 7-萘四羧酸二酐、1，4, 5, 8-萘四羧酸二酐、1，2, 5, 6-萘四羧酸二酐、3, 4, 9, 10-二萘 嵌苯四羧酸二酐、2, 3, 6, 7-蒽四羧酸二酐、1，2, 7, 8-菲四羧酸二酐、3, 3'，4, 4' -联苯四羧 酸二酐、2, 2'，3, 3' -联苯四羧酸二酐、3, 3'，4-4' -二苯甲酮四羧酸二酐、2, 2'，3, 3' -二苯 甲酮四羧酸二酐、2, 2-双（3, 4-二羧基苯基）丙烷二酐、2, 2-双（2, 3-二羧基苯基）丙烷二 酐、双（3, 4-二羧基苯基）醚二酐、双（2, 3-二羧基苯基）醚二酐、双（3, 4-二羧基苯基）砜 二酐、双（2, 3-二羧基苯基）砜2, 2-双（3, 4-二羧基苯基）-1，1，1，3, 3, 3-六氟丙烷二酐、 2, 2-双（3, 4-二羧基苯基）-1，1，1，3, 3, 3-六氯丙烷二酐、1，1-双（2, 3-二羧基苯基）乙烷 二酐、1，1-双（3, 4-二羧基苯基）乙烷二酐、双（2, 3-二羧基苯基）甲烷二酐、双（3, 4-二 羧基苯基）甲烷二酐、4, 4' -(对-亚苯基二氧基）二邻苯二甲酸二酐、4, 4' -(间-亚苯基 二氧基）二邻苯二甲酸二酐、4, 4'-二苯硫醚二氧基双（4-邻苯二甲酸）二酐、4, 4'-二苯 砜二氧基双（4-邻苯二甲酸）二酐、亚甲基双（4-亚苯基氧基-4-邻苯二甲酸）二酐、亚乙 基双（4-亚苯基氧基-4-邻苯二甲酸）二酐、异亚丙基双（4-亚苯基氧基-4-邻苯二甲酸） 二酐、六氟异亚丙基双（4_亚苯基氧基-4-邻苯二甲酸）二酐等。
[0051] 选择的适用于聚酰胺酸的制备中的示例性二胺包括4, 4' -双-(间-氨基苯氧 基）_联苯、4, 4'-双-(间-氨基苯氧基）-二苯硫醚、4, 4'-双-(间-氨基苯氧基）-二 苯砜、4, 4' -双-(对-氨基苯氧基）-二苯甲酮、4, 4'-双-(对-氨基苯氧基）-二苯硫 醚、4, 4'-双-(对-氨基苯氧基）-二苯讽、4, 4'-二氨基-偶氮苯、4, 4'-二氨基联苯、 4, 4' -二氨基二苯砜、4, 4' -二氨基-对-二联苯、1，3-双-(γ -氨基丙基）-四甲基-二 硅氧烷、1，6_二氨基己烷、4, 4'-二氨基二苯基甲烷、3, 3'-二氨基二苯基甲烷、1,3-二 氨基苯、4, 4'-二氨基二苯醚、2, 4'-二氨基二苯醚、3, 3'-二氨基二苯醚、3, 4'-二氨基 二苯醚、1，4-二氨基苯、4, 4' -二氨基-2, 2'，3, 3'，5, 5'，6, 6' -八氟-联苯、4, 4' -二 氨基-2, 2'，3, 3'，5, 5'，6, 6'-八氟二苯醚、双[4-(3-氨基苯氧基）-苯基]硫醚、双 [4-(3-氨基苯氧基）苯基]砜、双[4-(3-氨基苯氧基）苯基]酮、4, 4'-双（3-氨基苯 氧基）联苯、2, 2-双[4_(3_氨基苯氧基）苯基]-丙烧、2, 2-双[4_(3_氨基苯氧基）苯 基]-1，1，1，3, 3, 3-六氟丙烧、4, 4' -二氨基二苯硫醚、4, 4' -二氨基二苯醚、4, 4' -二氨基二 苯砜、4,4'_二氨基二苯基甲烷、1，1-二（对-氨基苯基）乙烷、2, 2-二（对-氨基苯基） 丙烷和2, 2-二（对-氨基苯基）-1，1，1，3, 3, 3-六氟丙烷等以及它们的混合物。
[0052] 二酐和二胺例如以约20:80至约80:20的重量比、更特别地以约50:50的重量比 选择。上述芳族二酐如芳族四羧酸二酐和二胺如芳族二胺分别单独地或以混合物使用。
[0053] 还更特别地，以有效量如固体的约90至约99. 99重量％、约95至约99重量％或 约98至约99. 95重量％采用的聚酰胺酸的例子包括均苯四酸二酐/4, 4'-二氨基二苯醚的 聚醜胺酸，其可以商品名 Pyre-M. L. RC5019 或 RC5083 从 Industrial Summit technology Corp.，Parlin，NJ商购获得，以及联苯四羧酸二酐/苯二胺的聚酰胺酸，其可以U-VARNISH A和S (在NM P中，约20重量％)商购获得，二者均可得自UBE America Inc.，New York, NY 或可得自 Kaneka Corp.，TX。
[0054] 选择用于所公开的熔凝器构件组合物的聚酰亚胺的例子由例如下式/结构中的 至少之一和它们的混合物表示
[0055]
【权利要求】
1. 一种熔凝器构件，所述熔凝器构件包含基底层，所述基底层包含聚酰亚胺和醇的磷 酸酯的混合物。
2. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述醇的磷酸酯是下式/结构的： CnH2n+「0-P(=0) (0H)2 和 CnH2n_「0-P(=0) (0H)2 其中η表示碳原子数，其中2n+l和2n-l表示氢原子数并且其中所述构件还包含导电 组分。
3. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述醇的磷酸酯由下式/结构表示： 其中R为烃基团。
4. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述醇的磷酸酯由以下中的至少之一表 示： C6H13-〇-P (=0) (0H)2, c6hu-0-p(=0) (oh)2, c12h25-o-p (=0) (oh)2, c12h23-o-p (=0) (oh)2, c16h33-o-p (=0) (oh)2, c16h31-o-p (=0) (oh)2, c13h27-o-p (=0) (oh)2, c18h35-o-p (=0) (oh)2, c8-10h17_ 21-o-p(=o) (oh)2， 和 c8-10h17_21-o-p(=o) _2， 并且其中所述构件还包含为炭黑的导电组分。
5. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述醇的磷酸酯以所述固体的约0. 01至约 5重量％的量存在。
6. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述聚酰亚胺由下式/结构中的至少之一 表不：
其中η表示重复基团数。
7. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述聚酰亚胺和醇的磷酸酯混合物还包含 聚硅氧烷聚合物，所述聚硅氧烷聚合物选自聚酯改性聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基 硅氧烷、聚丙烯酸酯改性聚二甲基硅氧烷和聚酯聚醚改性聚二甲基硅氧烷，并且其中所述 构件还包含为炭黑的导电组分。
8. 根据权利要求1所述的熔凝器构件，其中所述基底层还包含导电组分，所述导电组 分选自氮化铝、氮化硼、氧化铝、石墨、石墨烯、铜薄片、纳米金刚石、炭黑、碳纳米管、金属氧 化物、掺杂的金属氧化物、金属薄片以及它们的混合物。
9. 一种形成适于与静电复印图像形成系统一起使用的熔凝器带的方法，所述方法包 括：向旋转基底的外表面上流涂包含聚酰亚胺、醇的磷酸酯、导电组分和溶剂的组合物，在 约125°C至约250°C的温度下预固化所述涂层组合物，然后在约250°C至约370°C的温度下 终固化；任选地，其中所述溶剂选自四氢呋喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、Ν，Ν' -二甲基甲 酰胺、Ν，Ν' -二甲基乙酰胺、Ν-甲基吡咯烷酮和二氯甲烧，并且任选地，其中所述醇的磷酸 酯以所述固体的约〇. 01至约5重量％的量存在，并且所述醇的磷酸酯由以下中的至少之一 表不： C6H13-〇-P (=0) (0H)2, c6hu-0-p(=0) (oh)2, c12h25-o-p (=0) (oh)2, c12h23-o-p (=0) (oh)2, c16h33-o-p (=0) (oh)2, c16h31-o-p (=0) (oh)2, c13h27-o-p (=0) (oh)2, C18H35-〇-P (=0) (0H)2, c8-10h17_21-o-p(=o) (oh)2， c8h17-o-p(=o) (oh)2 和 c1qh21-o-p(=o) (oh)2 的混合物。
【文档编号】C09D7/12GK104122778SQ201410142659
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年4月10日 优先权日:2013年4月29日
【发明者】J·吴, J·H·凯科, L·张, L·马 申请人:施乐公司