胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂的利记博彩app
【专利说明】
[0001] 本发明专利申请是申请号为201010625251.0,申请日为2010年12月10日，名称 为"胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂"的发明专利申请的分案申请。
技术领域
[0002] 本发明涉及一种新的包含胆酸醋（cholate)部分（moiety)的光酸发生剂化合物 (PAG)，以及包含上述PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。
【背景技术】
[0003] 光致抗蚀剂是将图像转移至基底的光敏感性薄膜。它们形成负像或正像。将光致 抗蚀剂涂覆在基底上之后，透过有图案的光掩模，激发能量源例如紫外光使涂层曝光，在光 致抗蚀剂涂层上形成一种潜像。光掩模具有对激发辐射不透明和透明的区域，能够使得想 要的图像转移到下一层的基底上。
[0004] 已知的光致抗蚀剂对于许多现有的商业用途来说，能够提供充足的分辨率和尺 寸。但是为了实现许多其他的用途，新的光致抗蚀剂需要能够在亚微米尺寸上提供高分辨 图像。
[0005] 已经有很多改变已有光致抗蚀剂组合物，来改善其功能性特性的尝试。其中，还有 很多光活性的化合物被报道用于光致抗蚀剂组分。例如，美国专利6664022和6849374,以 及美国专利公开2009/0061358。
【发明内容】
[0006] -方面，我们现在提供一种包含一个胆酸盐部分的新光酸发生剂（photoacid generator)化合物（PAG)，用于正激发或负激发的光致抗蚀剂组合物。优选的PAG是一 种离子化合物，特别是锍类化合物（sulfoniumcompound)。以锍类化合物为例，优选胆 酸酯基团是PAG中的阴离子部分。例如，在特别优选的方面，胆酸酯基团是氟代的磺酸盐 (sulfonate)阴离子化合物的部分，具体的，这个阴离子化合物具有一个如下所述的伸展的 饱和的连接基团。
[0007] 本文中出现的术语"胆酸酯"包含留体（steroid)结构，一般来说包括具有留体结 构的C20 - 50烃基。留体结构是公知的，其优选可包含稠合在一起的、由下述通式表示的 三个六元环和五元环：
[0008]
【主权项】
1. 一种光酸发生剂化合物，所述化合物选自：
2. -种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括树脂组分和权利要求1所述的光酸发生剂 化合物。
3. -种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包括： a)将权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物的涂层施加到基底上； 使光致抗蚀剂涂层暴露于形成图案的激发辐射，以及使暴露的光致抗蚀剂涂层显影以 提供浮雕图像。
【专利摘要】胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂。本发明涉及一种新的包含一个胆酸酯部分的光酸发生剂化合物(“PAGs”)，以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。提供了一种光酸发生剂化合物，所述化合物如下式所示。
【IPC分类】G03F7-004, C07C381-12, G03F7-039, G03F7-038, C07J9-00, G03F7-00
【公开号】CN104761608
【申请号】CN201510090721
【发明人】E·阿恰达, 李明琦, J·玛蒂亚
【申请人】罗门哈斯电子材料有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2010年12月10日
【公告号】CN102212100A, EP2332960A2, EP2332960A3, US20110250537