专利名称：：液压转印印刷用基膜及其制造方法
技术领域：
：本发明涉及，浮于液面、特别是浮于水面上来使用，能够将印刷于薄膜面的图案顺畅地转印至被转印体的液压转印印刷用基膜及其制造方法。
背景技术：
：一直以来，作为水压转印印刷用基膜，使用以聚乙烯醇系树脂为形成材料的聚乙烯醇系树脂薄膜。并且，使用上述聚乙烯醇系树脂薄膜，如下供至水压转印方法。即，在上述聚乙烯醇系树脂薄膜面上印刷所需图案，使上述图案印刷面朝上浮于水面，从膜上方将被转印体按压在图案印刷面上，使图案转印至被转印体上。对于这种水压转印方法，公开了，例如作为基膜通过使用由聚合度5003000、皂化度8099.9摩尔％的聚乙烯醇构成、水分率为1.54.0%、厚度为2050μπκ在薄膜长度方向上50°C下施加8.Okg/m张力1分钟时的宽度收缩率为0.011.5%的聚乙烯醇系树脂薄膜，能够进行高精细的转印印刷。另外，还记载了将含有上述聚乙烯醇的制膜原料喷出至滚筒式制膜机的旋转滚筒上或者带式制膜机的运行带上进行干燥，当水分率达到1.54.0%时，将其从滚筒或带上剥离，从而制造(参照专利文献1)。专利文献1日本特开2005-60636号公报
发明内容发明要解决的问题但是，在以上述专利文献1为代表的使用了现有聚乙烯醇系树脂薄膜的水压转印方法中，当在基膜上印刷高精细图案时，薄膜会伸展，或印刷前的基膜伸展、弯曲，由于该原因导致难以进行和设计图像一样的印刷的所谓印刷适性的问题，期待有所改善。另外，当将印刷了图案的聚乙烯醇系树脂薄膜浮于水面时，薄膜会发生卷曲，在图案转印的生产率等方面成为问题。特别是，近年来，图案的印刷为多层印刷，另外开始使用耐久性优异的印刷用墨，薄膜的图案印刷面与非印刷面的吸水性产生差异，结果卷曲的发生变得更为显著，成为很大的问题。因此，本发明在此背景下，目的在于，提供将图案印刷至基膜时的印刷适性优异的液压转印印刷用基膜及其制造方法。用于解决问题的方案因此，本发明人为了实现上述目的而进行了反复的深入研究，结果发现，基膜的薄膜均勻性很重要，通过使用没有挠曲的基膜，图案的印刷适性很优异，对于液压转印有效，进而完成了本发明。进而，本发明人为了制造上述没有挠曲的基膜，进行了深入研究，结果发现，用于溶解或分散以聚乙烯醇系树脂为主成分的制膜原料的水很重要，通过使用硅含量非常少的水来制造基膜，抑制了挠曲，结果，图案的印刷适性很优异，对于液压转印有效，进而完成了本发明。即，本发明的主旨为一种液压转印印刷用基膜，其为膜厚2050μm的液压转印印刷用聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(%)分别为3%以下。进而，本发明中，从薄膜均勻性的方面出发，优选相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)以外的其它区域(S3)的薄膜表面的挠曲率⑴(％)为3%以下。另外，本发明的主旨涉及一种液压转印印刷用基膜的制造方法，其特征在于，在对以聚乙烯醇系树脂为主成分的制膜原料的水分散液进行制膜，制造液压转印印刷用基膜时，使用硅含量为5ppm以下的水。这里，关于使用硅含量少的水，是在偏振薄膜用的整卷聚乙烯醇系薄膜的制造法中是公知的(参照日本特开2007-009056号公报。)，此时其目的在于不会使所得偏振薄膜的光学特性恶化。但是，在本发明这样的液压转印印刷用基膜的情形中，薄膜的光学特性没有关系，因此认为并不需要使用特别的水，另一方面发现，在长期运行时，会发生薄膜从滚筒面或带表面的剥离性降低等问题，由此导致所制膜的薄膜物性降低。在偏振薄膜用的整卷薄膜和液压转印印刷用基膜中，温度、浓度等各种制膜条件不同，薄膜从滚筒或带表面的剥离性发生问题是用于液压转印印刷的本发明中首次成为问题的现象，本发明的制造方法对该问题进行了解决。发明效果本发明的液压转印印刷用基膜由于薄膜两端特定区域的薄膜表面的挠曲率(T)(%)为特定范围，因此具有良好的图案印刷适性，作为液压转印印刷用的基膜非常有用。而且，具有这种特性的液压转印印刷用基膜可以通过在将以聚乙烯醇系树脂为主成分的制膜原料的水分散液调制成制膜材料时使用硅含量为5ppm以下的水来制得。图1是示意地表示本发明液压转印印刷用基薄膜表面的挠曲率的测定方式的说明图。附图标记说明1基膜具体实施例方式以下详细地说明本发明。本发明的液压转印印刷用基膜作为液压转印印刷使用，该薄膜的膜厚一般为2050μm、优选为2347μm、更优选为2545μm。膜厚薄于上述范围时，印刷薄膜的膨胀很快、不适于转印，厚于上述范围过多时，薄膜会残留在转印物上，或转印浴的水中的聚乙烯醇系树脂浓度的上升快、排水负荷增大。另外，本发明的液压转印印刷用基膜必须具有特定的薄膜特性，该特定的薄膜特性是指相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(%)分别为3%以下、优选为2.5%以下、更优选为2%以下、特别优选为1.5%以下。该薄膜表面的挠曲率(T)超过上述范围时，在进行图案的印刷加工时，成为起皱的原因，对加工生产率造成障碍。予以说明，该薄膜表面的挠曲率⑴的下限值通常为0.1%。另外，本发明中，从印刷适性的方面出发，优选相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)以外的其他区域(S3)的薄膜表面的挠曲率⑴(％)也为3%以下、更优选为2.5%以下、特别优选为2%以下。该薄膜表面的挠曲率(T)超过上述范围时，在对水溶性膜进行图案的印刷加工时会起皱，有印刷不良的倾向。予以说明，该薄膜表面的挠曲率(T)的下限值通常为0.1%。予以说明，本发明中薄膜表面的挠曲率(T)如下测定。S卩，在23°CX50%RH的环境下，从卷绕有规定宽度(w)的基膜(以下也仅称为“薄膜”)的卷材样品(rollsample)放卷出薄膜，在使放卷的薄膜通过距离2m、设置为相同高度的水平的2根导辊(直径120mm)上后进行卷绕的装置中，将薄膜放卷后在任意的长度处施加每Im薄膜宽度度为Ikg的张力，使薄膜在2根导辊上暂时静止，此时如图1所示，以薄膜1通过导辊上的高度为基准，在导辊之间，在薄膜1的区域(S1)、(S2)及(S3)分别测定各区域中从上述基准到最下垂的部分的高低差的最大值(h)，基于该距离如下计算挠曲率。予以说明，测定高低差时，使超声波式位移传感器(KEYENCECORPORATION制UD-300)在薄膜1上在宽度方向上水平地行进来进行检测。另外，流动方向的传感器设置位置为距离2根导辊等距离的中央部。挠曲率(T))=100Xh/wh到薄膜1中的最下垂的部分的高低差的最大值(mm)w薄膜宽度(mm)另外，本发明中，上述薄膜宽度(W)是指包含刚制造后的薄膜宽度、制造后对端部切割成为各制品尺寸后的薄膜宽度的任一种情况，从印刷适性的观点出发，优选是将端部切割后的薄膜宽度。此时被切割的端部通常相对于刚制造后的膜的总宽度为250%、特别优选为530%，被切割的端部可以仅为一侧，但通常是两侧端部被切割。如上所述，本发明的液压转印印刷用基膜如下制造。S卩，本发明的液压转印印刷用基膜(以下称作“基膜”)是例如使用以聚乙烯醇(以下简称为“PVA”)系树脂为主成分、优选含有增塑剂而成的薄膜形成材料来形成为薄膜状的物质。予以说明，本发明中上述“主成分”是指薄膜形成材料含有50重量％以上、优选60重量％以上、更优选70重量％以上、特别优选80重量％以上的PVA系树脂，另外，也包括仅由PVA系树脂构成的情况。上述PVA系树脂并非仅限于单独一种，还可根据需要混合使用2种以上。另外，可以是未改性的，还可以是改性的，为改性的情况下，在不损害本发明效果的范围内，可以在主链上以通常20摩尔％以下、优选15摩尔％以下、更优选10摩尔％以下、特别优选7摩尔％以下的范围共聚其他单体。上述其他的单体例如可举出乙烯、丙烯、异丁烯、α-辛烯、α-癸烯、α-十八碳烯等烯烃类，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸等不饱和酸类或其盐或者单或二烷基酯等，丙烯腈、甲基丙烯腈等腈类，丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等酰胺类，乙烯磺酸(Ethylenesulfonicacid)、烯丙基磺酸、甲基烯丙基磺酸等烯烃磺酸或其盐，烷基乙烯基醚类，聚氧亚乙基(甲基)烯丙基醚、聚氧亚丙基(甲基)烯丙基醚等聚氧亚烷基(甲基)烯丙基醚、聚氧亚乙基(甲基)丙烯酸酯、聚氧亚丙基(甲基)丙烯酸酯等聚氧亚烷基(甲基)丙烯酸酯，聚氧亚乙基(甲基)丙烯酰胺、聚氧亚丙基(甲基)丙烯酰胺等聚氧亚烷基(甲基)丙烯酰胺，聚氧亚乙基[ι-(甲基)丙烯酰胺-ι，ι-二甲基丙基]酯、聚氧亚乙基乙烯基醚、聚氧亚丙基乙烯基醚、聚氧亚乙基烯丙基胺、聚氧亚丙基烯丙基胺、聚氧亚乙基乙烯基胺、聚氧亚丙基乙烯基胺、二丙烯酰基丙酮酰胺(diacrylacetoneamide)、N-丙烯酰胺甲基三甲基氯化铵、烯丙基三甲基氯化铵、二甲基二烯丙基氯化铵、二甲基烯丙基乙烯基酮、N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙烯、偏氯乙烯等。另外，除上述之外，还可举出乙酰乙酰基改性、巯基改性、二丙酮丙烯酰胺改性等的含活性氢的单体。这些其他的单体可单独使用或者可以并用2种以上。另外，作为PVA系树脂还优选使用侧链具有1，2-二醇键的聚乙烯醇系树脂，该侧链具有1，2-二醇键的聚乙烯醇系树脂例如可通过如下的方法获得(1)对乙酸乙烯酯与3，4-二乙酰氧基-1-丁烯的共聚物进行皂化的方法、(2)对乙酸乙烯酯与乙烯基亚乙基碳酸酯(vinylethylenecarbonate)的共聚物进行皂化以及脱碳酸的方法、(3)对乙酸乙烯酯与2，2-二烷基-4-乙烯基-1，3-二噁茂烷的共聚物进行皂化及脱缩酮化的方法、(4)对乙酸乙烯酯与甘油单烯丙基醚的共聚物进行皂化的方法等。本发明中，上述PVA系树脂的4重量％水溶液的20°C下的平均粘度优选为1070mPa-s的范围、更优选为1560mPa的范围。该4重量％水溶液的平均粘度过低时，当在基膜上印刷图案(花纹(pattern)、花样等)时的薄膜强度不足，因此有产生印刷斑点的倾向，另外，促进了基膜的溶解、发生转印时间缩短的问题，或者印刷于浮在水面上的薄膜的图案不稳定，有涂覆力(throwingpower)降低的倾向。另一方面，当4重量％水溶液的平均粘度过高时，所印刷的图案向被转印体转印时，被转印体与本发明的基膜(印刷有图案的基膜)的密合性降低，有发生皱褶或剥离的倾向，另外，虽然能够抑制薄膜在水面上的伸展，但除了转印时间延迟之外，还有粘度增高、制膜变难的倾向。予以说明，上述4重量％水溶液的20°C下的平均粘度是根据JISK6726测定的。进而，上述PVA系树脂的平均皂化度通常优选为7098摩尔％的范围、更优选为7596摩尔％的范围。该PVA系树脂的平均皂化度过低时，有转印后的基膜的溶解需要很长时间的倾向，过高时，基膜的溶解时间延迟，由于转印时的膜强度很高、因此在转印时会发生折痕，即便能够转印、也会发生脱膜不良。予以说明，上述皂化度是根据JISK6726测定的。上述增塑剂例如可举出甘油、二甘油、三甘油等甘油类，三乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、二丙二醇等烷二醇类或三羟甲基丙烷等。这些物质可单独使用，还可并用2种以上。相对于100重量份PVA系树脂，上述增塑剂的含量优选为10重量份以下、更优选为5重量份以下、特别优选为0.054重量份。上述增塑剂的含量过多时，有在膜面上印刷图案时的尺寸稳定性差、高精细印刷变难的倾向。予以说明，少于上述范围时，有增塑效果低、成为所得基膜断裂的原因的倾向。另外，上述薄膜形成材料中除了上述PVA系树脂和增塑剂之外，还可根据需要配合各种添加剂。例如，为了提高作为基膜制膜装置的滚筒、带等的金属表面与制膜的膜的剥离性，可以配合表面活性剂。上述表面活性剂例如可举出聚氧亚乙基壬基苯基醚、聚氧亚乙基辛基壬基醚、聚氧亚乙基十二烷基苯基醚、聚氧亚乙基烷基烯丙基醚、聚氧乙烯失水山梨醇单月桂酯、聚氧亚乙基山梨聚糖单棕榈酸酯、聚氧亚乙基山梨聚糖单硬脂酸酯、聚氧亚乙基山梨聚糖单油酯、聚氧亚烷基烷基醚磷酸酯单乙醇胺盐、聚氧亚乙基月桂基胺、聚氧亚乙基硬脂基胺等聚氧亚烷基烷基胺等。这些物质可单独使用，还可并用2种以上。其中，从剥离性的方面出发，优选使用聚氧亚烷基烷基醚磷酸酯单乙醇胺盐、聚氧亚乙基烷基胺、聚氧乙烯失水山梨醇单月桂酯。相对于PVA系树脂和增塑剂的总量100重量份，上述表面活性剂的含量通常优选为0.015重量份、更优选为0.034.5重量份。上述表面活性剂的含量过少时，有制膜装置的滚筒、带等金属表面与制膜的膜的剥离性降低、制造变难的倾向；相反过多时，有渗出至薄膜表面、成为图案印刷层脱落的原因的倾向。进而，在不妨碍本发明效果的范围内，还可添加抗氧化剂(苯酚系、胺系等)、稳定剂(磷酸酯类等)、着色料、香料、增添剂、消泡剂、防锈剂、紫外线吸收剂、无机粉末(二氧化硅等)、有机粉末(淀粉、聚甲基丙烯酸甲酯等)、其他的水溶性高分子化合物(聚丙烯酸钠、聚氧化乙烯、聚乙烯基吡咯烷酮、糊精、壳聚糖(chitosan)、甲壳素(chitin)、甲基纤维素、羟乙基纤维素等)等。本发明的基膜例如如下制造。首先，以规定配合量配合上述PVA系树脂、增塑剂等各原料，调制薄膜形成材料。薄膜形成材料通常溶解或分散于水中，调制成优选1040重量％、特别优选1535重量％，供至制膜工序。接着，使薄膜形成材料从T口模流延至制膜带上或制膜滚筒上，将其干燥，从而使其薄膜状化，优选进一步进行热处理，从而制造。上述热处理的方法并无特别限定，例如可举出热辊(含有压延辊)、热风、远红外线、电介质加热(dielectricheating)等方法。另外，被热处理的面优选为与接触制膜带或制膜滚筒的面成相反一侧的面，热处理装置接触(nipping)到被处理的面上也没有问题。另外，实施热处理的薄膜的水分含量通常优选为48重量％左右。被热处理后的薄膜的水分含量通常优选为37重量％。更详细地说，上述制膜带或者制膜滚筒中，在从制膜第一滚筒上剥离后至卷绕的期间，优选通过1根以上表面温度为50140°C、优选为60130°C的热处理辊。这里，上述制膜带是指，具有架在一对辊间运行的环带(endlessbelt)且在使从T口模流出的薄膜形成材料流延至环形带上的同时将其干燥的装置。上述环形带例如由不锈钢构成，其外周表面优选实施了镜面精加工。另外，上述制膜第一滚筒是指，使从T口模流出的薄膜形成材料流延至1个以上旋转的滚筒型辊上并将其干燥的位于制膜机的最上游侧的滚筒型辊。而且，从制膜带或制膜第一滚筒剥离后至卷绕的期间是指，从T口模等喷出的薄膜形成材料在制膜带上或制膜第一滚筒上被干燥、成为薄膜状，从制膜带或制膜第一滚筒剥离，优选经过热处理机，至利用卷绕机将其卷绕的过程。利用上述热处理机的热处理通常优选在50140°C下进行、更优选为60130°C。上述热处理的温度过低时，与制膜带或制膜第一滚筒相接触的面的卷曲严重，有在印刷和转印工序中成为问题的倾向；热处理的温度过高时，有转印后的基膜水溶性降低的倾向。进而，上述热处理所需要的时间虽然也取决于热处理辊的表面温度，但通常优选设定为0.515秒钟。上述热处理通常是在用于薄膜干燥的干燥辊处理后使用其他热处理辊进行。如此可获得基膜，但本发明中如上所述必须具有特定的膜特性。为了获得具有上述挠曲率(T)的基膜，成为均勻的薄膜表面很重要，例如通过以下方法进行(1)在薄膜形成材料流延至制膜带上或制膜第一滚筒上被干燥成为薄膜状后，从制膜带或制膜第一滚筒将其剥离时，按照剥离应力均勻的方式进行剥离的方法；(2)在利用水将薄膜形成材料溶解或分散时，使用作为水中金属成分的硅含量为特定值以下的水，进而使用例如钙、钠等金属成分少的水的方法、等。具体地说，(1)的情况下，例如，调整剥离速度很重要，优选使剥离速度相对于浇铸面的速度为1.1倍以下，更优选为1.08倍以下、特别优选为1.06倍以下。减慢剥离速度时，有剥离应力下降、挠曲率减小的倾向，是优选的，过度加快剥离速度时，会导致不能完整剥离，有剥离应力上升、挠曲率增高的倾向。另外，(2)的情况下，有必要使用硅含量为5ppm以下的水，优选为4ppm以下、特别优选为3ppm以下，优选尽量少。进而，优选使用钙、钠等金属成分的含量也少的水。通过使用硅含量少的水，具有可获得薄膜从制膜滚筒或制膜带表面的剥离性良好、挠曲少的薄膜的效果。若该硅含量超过上述范围，当在制膜工序中长期连续运行时，水中的硅、进而钙、钠等金属成分会导致在辊表面上形成杂质被膜，其导致剥离应力的提高，薄膜从制膜滚筒或制膜带表面的剥离性降低，发生薄膜的伸展，或者由于薄膜的润湿性改变导致在图案印刷时产生斑点等的问题。予以说明，水所含的硅的含量利用钼蓝法(MolybdenumBlueMethod)进行测定。上述水优选使用除去了杂质的接近纯水的水，例如使用离子交换水等。另外，所谓的工业用水只要是不脱离本发明主旨的范围内，也可以使用，考虑到生产率和成本时，优选组合使用工业用水、软水、离子交换水等。进而，本发明中优选氯原子也少，优选使用残留氯例如小于0.5ppm的水。进而，本发明中，基膜的水分率优选为26重量％、更优选为35重量％。若水分率过小，则转印时有薄膜卷曲的倾向；若水分率过大，虽然卷曲减小，但有在印刷等实际使用中会发生印刷偏离目标等问题的倾向。予以说明，基膜的水分率例如可以使用卡尔费休水分仪(京都电子工业公司制、“MKS-210”)测定。作为上述基膜的水分率的调整方法，例如可举出以下所示的方法。即，根据下述所示水分率的调整方法，能够设定为上述范围内的基膜的水分率。(1)利用如下方法来调整水分率提高或降低在对溶解有PVA的浓液(dope)进行干燥以制膜时的干燥机温度，从而来进行基膜的加湿·除湿。由于浓液的温度会影响干燥效率，因此在7098°C的范围内进行调整。另外，从水分调整的观点出发，优选的是，在干燥时优选利用在15050°C之间、更优选在14560°C之间具有温度梯度的至少2个以上热风干燥机中，进行112分钟、更优选111分钟的干燥。上述干燥温度的梯度范围过大或干燥时间过长时，有干燥过多的倾向，相反干燥温度的梯度范围过小或干燥时间过短时，有干燥不足的倾向。上述温度梯度为在15050°C之间阶段地改变干燥温度而进行的，通常有效果的是从干燥开始时慢慢提高温度，达到暂时设定的干燥温度范围的最高干燥温度直至成为预定含水率，接着慢慢降低干燥温度，从而达到最终的目标含水率。这是用于控制结晶性、剥离性、生产率等而进行的，例如可举出1200C-1300C-1150C-100°C>130°C-120°C_110°C、115°C-120°C-IlO0C-90°C等的温度梯度设定，适当选择后进行实施。(2)在基膜的卷绕前使其通过调湿槽，从而进行基膜的加湿·除湿，进行水分率的调整。(3)在基膜的卷绕前，通过进行热处理来进行基膜的除湿，进行水分率的调整。上述经制膜获得的基膜(整卷薄膜)优选例如按照上述水分率不发生变化的方式进行以往公知的防湿包装的处理，在1025°C的气氛下以悬吊(suspension)状态进行保存。予以说明，本发明中，根据需要在对制膜后的薄膜进行卷绕之前直接将薄膜端部切割成制品尺寸后进行卷绕(在线切割)或者暂时将制膜后的薄膜卷绕后再次放卷、将薄膜端部切割成制品尺寸后进行卷绕(离线切割)等来制成薄膜卷材(filmroll)，并如上所述悬吊保存。上述获得的制膜后(切割前)的薄膜宽度根据制品尺寸的大小等适当选择，从制品切割收率的观点出发通常为3004000mm、特别优选为5003000mm、更优选为7002000mm。进而，从使用薄膜的效率的观点出发，作为整个薄膜的薄膜长度通常优选为500m以上、特别优选为700m以上、更加优选为IOOOm以上。予以说明，薄膜长度的下限通常为IOOm0接着说明使用本发明的基膜印刷图案、进行转印的方法。作为使用了本发明基膜的液压转印方法，可举出连续方式的液压转印方法、间歇方式的液压转印方法。首先，说明上述连续方式的液压转印方法。S卩，在如上获得的基膜面上印刷所需图案。之后，在上述图案印刷面上涂布活性齐U。并且，为了吸水后基膜不伸展且图案不模糊，相对于上述基膜的流动方向在宽度方向上设置1.25倍以下的限制。从移动的上述基膜上方按压被转印体，将印刷于基膜面的图案转印于被转印体表面并进行固着，从而进行液压转印印刷。然后在进行固着后，将基膜除去，并使转印了图案的被转印体充分地干燥，从而获得目标制品。另一方面，说明上述间歇方式的液压转印方法。S卩，在如上获得的基膜面上印刷规定的图案。之后，在上述图案印刷面上涂布活性齐U。然后与上述连续方式同样，为了吸水后基膜不伸展且图案不模糊，相对于上述基膜在纵、横方向上分别设置1.25倍以下的纵横限制，使涂布了活性剂的图案印刷面朝上，使基膜浮在液面上。以静止状态从上述基膜上方按压被转印体，将印刷于基膜面的图案转印于被转印体上并充分地进行固着，从而进行液压转印印刷。进行固着后，将基膜除去，并使转印了图案的被转印体充分地干燥，从而获得目标制品。通过经由这种工序的液压转印方法，可以将印刷于基膜面的图案转印至被转印体上。予以说明，作为印刷于上述基膜面的图案并无特别限定，可以是木纹理、各种花样、图像等能够印刷的任何图案。涂布于上述图案印刷面的活性剂并无特别限定，使用在能够将印刷于基膜面的图案再次活化的溶剂中添加有树脂的物质等，进一步可适当添加体质颜料、增塑剂、固化剂等。例如可使用在甲基丙烯酸丁酯中混合有颜料、增塑剂、丁基溶纤剂醋酸酯、丁基卡必醇醋酸酯的物质。另外，上述活性剂的涂布方法可举出使用了照相凹版辊、喷雾的涂布方法。予以说明，在上述图案印刷面上涂布活性剂的工序可以在使基膜浮于液面之前，也可在浮于液面之后，只要是在从印刷了图案的基膜上方按压被转印体之前则可，并无特别限定。这种液压转印方法的被转印体的材质并无特别限定。例如可使用塑料成形体、金属成形体、木质成形体、玻璃等无机质成形体等。进而，其形状也无特别限定，可以是平面的，还可具有各种立体形状。实施例以下举出实施例更加具体地说明本发明，本发明只要在不超过其主旨的范围内并非限定于以下实施例。予以说明，例中“％”、“部”只要没有特别说明，表示重量基准。如下进行评价。[挠曲率(T)(%)]在23°CX50%RH的环境下，从卷有规定宽度(w)的薄膜的卷材样品放卷出薄膜，在使放卷的薄膜通过距离2m、设置为相同高度的水平的2根导辊(直径120mm)上后进行卷绕的装置中，将薄膜放卷后在任意的长度处施加每Im薄膜宽度为Ikg的张力，在2根导辊上使薄膜暂时静止，此时如图1所示，以薄膜1通过导辊上的高度为基准，在导辊间，在薄膜1的区域(S1)、(S2)及(S3)分别测定各区域中从上述基准到最下垂的部分的高低差的最大值(h)，基于该距离如下计算挠曲率。予以说明，在测定高低差时，使超声波式位移传感器(KEYENCEC0RP0RATI0N制UD-300)在薄膜1上在宽度方向上水平地行进而进行检测。另夕卜，流动方向的传感器设置位置为距离2根导辊等距离的中央部。挠曲率(T)(%)=100Xh/wh到薄膜1中的最下垂的部分的高低差的最大值(mm)w薄膜宽度(mm)[水分率]使用卡尔费休水分仪(京都电子工业公司制、“MKS-210”)测定所得基膜的水分率。[印刷适性]在所得转印印刷用基膜的表面印刷转印用的图案(花纹、花样)时，目视观察该薄膜的外观，如下评价。〇··没有外观不良X···有皱褶[实施例1]将4%水溶液粘度26mPa·s(20°C)、平均皂化度88摩尔％的PVAlOO份、作为增塑剂的2份甘油、5份淀粉、作为表面活性剂的1.2份聚氧乙烯失水山梨醇单月桂酯溶解于水中，获得18%水分散液。并且，使用上述水分散液利用具备不锈钢制环形带的带制膜机以lOm/min的速度由流延制膜法进行制膜，在温度95°C的条件下使其干燥，获得PVA薄膜，之后将薄膜两端部切割，连续制作2周基膜(薄膜宽度1000mm、薄膜长度每300m卷一次、膜厚30μπι)。予以说明，上述使用的水为离子交换水(利用钼蓝法测定的硅含量0.Olppm以下)，带表面是没有杂质被覆的清面，制膜时剥离薄膜所需要的张力为lkg/m，剥离速度相对于浇铸面的速度为1.04倍。另外，区域(S1)的薄膜表面的挠曲率(T)为1.5%、区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)为1.5%、区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)为0.5%，水分率为3.5%。使用所得基膜进行印刷适性的评价。[实施例2]将4%水溶液粘度26mPa-s(20°C)、平均皂化度88摩尔％的PVAlOO份、作为增塑剂的2份甘油、2份二氧化硅、作为表面活性剂的1.2份聚氧乙烯失水山梨醇单月桂酯溶解于水中，获得18%水分散液。并且，使用上述水分散液利用具备不锈钢制环形带的带制膜机以lOm/min的速度由流延制膜法进行制膜，在温度95°C的条件下使其干燥，获得PVA薄膜，之后将薄膜两端部切割，连续制作2周基膜(薄膜宽度1000mm、薄膜长度每300m卷一次、膜厚40μπι)。予以说明，上述使用的水为离子交换水(利用钼蓝法测定的硅含量4ppm)，带表面是没有杂质被覆的清面，制膜时剥离薄膜所需要的张力为2kg/m，剥离速度相对于浇铸面的速度为1.06倍。另外，区域(S1)的薄膜表面的挠曲率⑴为2%、区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)为2%、区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)为0.5%，水分率为3.8%。使用所得基膜进行印刷适性的评价。[实施例3]将4%水溶液粘度26mPa-s(20°C)、平均皂化度88摩尔％的PVAlOO份、作为增塑剂的2份甘油、作为表面活性剂的1.2份聚氧乙烯失水山梨醇单月桂酯及5份淀粉配合在混合离子交换水(硅含量0.Olppm以下)和硅含量为40ppm的水而调制的硅含量4ppm的水中，获得18%水分散液。并且，使用上述水分散液利用具备不锈钢制环形带的带制膜机以lOm/min的速度由流延制膜法进行制膜，在温度95°C的条件下使其干燥，获得PVA薄膜，之后将薄膜两端部切割，连续制作2周基膜(薄膜宽度1000mm、薄膜长度每IOOOm卷一次、膜厚30μπι)。此时，带表面是没有杂质被覆的清面，制膜时从带表面剥离薄膜所需要的张力为1.5kg/m。另外，区域(S1)的薄膜表面的挠曲率⑴为2%、区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)为2%、区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)为0.5%，水分率为3.5%。予以说明，水所含的硅的含量利用钼蓝法进行测定。使用所得基膜进行印刷适性的评价。[比较例1]在实施例1中，除了将剥离速度变为30m/min、将剥离所需要的张力变为5kg/m之夕卜，同样地进行，获得基膜。予以说明，上述使用的水为离子交换水(利用钼蓝法测定的硅含量0.Olppm)，带表面是没有杂质被覆的清面，制膜时剥离薄膜所需要的张力为5kg/m。另外，区域(S1)的薄膜表面的挠曲率⑴为4%、区域(S2)的薄膜表面的挠曲率⑴为4%、区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)为1%，水分率为4.5%。使用所得基膜进行印刷适性的评价。[比较例2]在实施例1中，除了将离子交换水变为井水之外，同样地进行，获得基膜。予以说明，上述使用的水为含有无机物、特别是硅40ppm的水(利用钼蓝法测定)，带表面是有水中的金属成分形成的杂质被膜，制膜时剥离薄膜所需要的张力为4kg/m。另外，区域(S1)的薄膜表面的挠曲率⑴为4.5%、区域(S2)的薄膜表面的挠曲率⑴为4.5%、区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)为1%，水分率为3.5%。使用所得基膜进行印刷适性的评价。将上述实施例及比较例的评价结果示于下述表1。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>由上述表1的结果可知，实施例中由于没有带表面的杂质被覆，因此剥离所需要的张力也小，薄膜表面的挠曲率也为3%以下，未见印刷时起皱等问题。与此相对，比较例1中，除了制膜速度以外在与实施例相同的条件下进行时，若制膜速度过快，剥离所需要的张力大，结果薄膜表面的挠曲率显示很大的值。另外，比较例2中，使用硅含量多的井水进行薄膜制膜，除了带表面具有杂质被覆之外在与实施例相同的条件下进行时，薄膜的剥离性降低，结果薄膜表面的挠曲率为很大的值。因此，在图案的印刷时发生了起皱等问题，无法进行令人满意的印刷加工。因此，各比较例无法作为转印印刷用基膜用于实际应用。产业上的可利用件本发明的液压转印印刷用基膜可广泛用于以汽车的内外装饰品为首的便携电话机的外装、各种电化制品、建筑材料、家庭和生活用品等的液压转印印刷用途中。权利要求一种液压转印印刷用基膜，其为膜厚20～50μm的液压转印印刷用聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(％)分别为3％以下。2.根据权利要求1所述的液压转印印刷用基膜，其特征在于，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(SD及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)以外的其它区域(S3)的薄膜表面的挠曲率⑴(％)为3%以下。3.一种液压转印印刷用基膜的制造方法，其特征在于，在对以聚乙烯醇系树脂为主成分的制膜原料的水分散液进行制膜，制造相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(%)分别为3%以下的、膜厚2050ym的液压转印印刷用基膜时，使用硅含量为5ppm以下的水。4.根据权利要求3所述的液压转印印刷用基膜的制造方法，其特征在于，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30%以内的区域(SD及距另一侧端部在总宽度的30%以内的区域(S2)以外的其它区域(S3)的薄膜表面的挠曲率(T)(%)为3%以下。5.一种液压转印印刷用基膜的制造方法，其特征在于，在对以聚乙烯醇系树脂为主成分的制膜原料的水分散液进行制膜，制造液压转印印刷用基膜时，使用硅含量为5ppm以下的水。全文摘要本发明提供一种液压转印印刷用基膜，其为膜厚20～50μm的液压转印印刷用聚乙烯醇系薄膜，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(％)分别为3％以下。因此，该液压转印印刷用基膜具有良好的图案印刷适性，作为液压转印印刷用的基膜非常有用。文档编号C08J5/18GK101835628SQ20088011242公开日2010年9月15日申请日期2008年12月2日优先权日2007年12月11日发明者水谷知由申请人:日本合成化学工业株式会社