2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法
【专利摘要】本发明涉及一种2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，以邻氯苯腈为原料，在碱性条件下，与4-异丙基苯硫酚反应得到溶解性好的中间体2-（4-异丙基苯硫酚基）苯腈，中间体在硫酸催化下合环反应得到2-异丙基硫杂蒽酮。本发明提供的2-异丙基硫杂蒽酮制备方法是一种原料廉价易得、反应温度低、反应中间体溶解性好、反应收率高、操作简单方便、适宜工业化生产的工艺方法。
【专利说明】2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光引发剂2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，具体地涉及一种以邻氯苯腈和4-异丙基苯硫酚为原料制备具有很好溶解性的中间体，在硫酸催化下反应生成2-异丙基硫杂蒽酮。
【背景技术】
[0002]2-异丙基硫杂蒽酮是一种高效自由基II型光引发剂，适用于不饱和聚酯、丙烯酸单体等组成的光固化材料中，可用于无色或有色UV固化油墨、木质家具、装饰涂料、胶黏剂、汽车金属部件涂料、光纤制造、印刷品发光材料等。它与阳离子光引发剂一起使用时具有敏化剂的作用，还可作为光敏化剂使用以增强光引发剂907的固化效能。近年来，硫杂蒽酮类光引发剂的研究趋于大分子方向(CN200410093977.9，CN02824159.2，CN20101021842208)，但是一般存在收率低、成本高、环境、难以实现工业化等问题(杨保平，催锦峰，陈建敏等.自由基型高分子光引发剂的研究进展.涂料工业，2005，35(01):36-43，藏阳陵，徐伟箭.水性光引发剂的研究进展.精细化工中间体，2002，32 (02):1-3)，因此2-异丙基硫杂蒽酮的制备研究仍然具有重要的意义。
[0003]目前，2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法主要有:
1、以2，2’ - 二硫代二苯基甲酸和异丙基苯为原料
专利CN1220666披露2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法以2，2’ - 二硫代二苯基甲酸为原料，与异丙基苯以浓硫酸为溶剂和催化剂一步反应生成目标产物。该方法的缺点是:使用浓硫酸的量大(二硫代二苯基甲酸质量的10倍以上)因此产生大量废酸；得到的产品收率不高(收率只有75%左右)；而且得到的产品是2-异丙基硫杂蒽酮和4-异丙基硫杂蒽酮的混合物，二者无法分离，从而降低了其光引发效率。
【权利要求】
1.一种2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于其操作步骤:1)将对异丙基苯硫酚溶于溶剂中，加入无机碱，加热回流脱水，TLC或气相监测反应，反应结束后，开始降温，降至溶剂沸点以下，分出分水器中的水，撤掉分水装置；2)加入邻氯苯腈，继续加热升温，升至合适温度，保温反应，TLC或气相监测反应，反应结束后，降至室温，得到中间体2- (4-异丙基苯硫酚基)苯腈溶液；3)在冰水浴条件下，向2)步骤中得到的2-(4-异丙基苯硫酚基)苯腈溶液中缓慢滴加硫酸，滴毕，加热到合适温度，保温反应，TLC或气相监测反应，反应结束后，开始降温，降至室温，向反应体系中加水稀释硫酸，搅拌30min，静置，分层，分出有机相，分别用10%氢氧化钠溶液和水洗，减压蒸馏回收溶剂，残渣为2-异丙基硫杂蒽酮粗品；4)将3)步骤中所得的2-异丙基硫杂蒽酮粗品用溶剂重结晶提纯，得到淡黄色的2-异丙基硫杂蒽酮固 体。
2.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤1)所用的溶剂选自甲苯、二甲苯、硝基苯、氯苯一种或几种。
3.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤1)所用溶剂的用量选自对异丙基苯硫酚质量的2~4倍。
4.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤1)所用的无机碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤1)对异丙基苯硫酚与氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化锂的物质的量之比选自1:1.0-2.0。
6.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤2)加入邻氯苯腈的用量选自邻氯苯腈与对异丙基苯硫酚物质的量比1.0-1.2:1。
7.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤2)反应温度选自 11(T170°C。
8.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤3)所用硫酸浓度选自93%~98%，硫酸用量选自硫酸与对异丙基苯硫酚的物质的量比1.5~5:1。
9.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤3)反应温度选自50~120。。。
10.根据权利要求1所述的2-异丙基硫杂蒽酮的制备方法，其特征在于步骤4)所用的重结晶的溶剂选自甲醇、乙醇、甲苯、石油醚、正己烷的一种或几种。
【文档编号】C07D335/16GK103724320SQ201310657111
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年12月9日 优先权日:2013年12月9日
【发明者】毛桂红, 罗俊文, 李小娟, 石智铭, 王涛, 刘川伟, 吕振波, 杨文杰, 武瑞, 张齐, 赵国锋 申请人:天津久日化学股份有限公司