一种抗菌搪玻璃贮罐及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及搪玻璃贮罐，尤其是一种抗菌搪玻璃贮罐及其制造方法。
【背景技术】
[0002]目前，搪玻璃贮罐主体内壁的搪瓷层一般不具有抗菌效果，对于贮存某些需要无菌贮存的物品而言，市售的搪玻璃贮罐不能满足抗菌的效果。另外，银离子能灭菌消毒已成为众所周知的事实，早在20世纪30年代起，国际上已开始应用银的粉末或溶液来预防和消除各种细菌引起疾病，大量的医学器械也得到推广，Ag+可以强烈地吸引细菌体中蛋白酶上的巯基(-SH)，迅速与其结合在一起，使蛋白酶丧失活性，导致细菌死亡。当细菌被Ag+杀后，Ag+又由细菌尸体中游离出来，再与其它菌落接触，周而复始地进行上述过程，这也是银杀菌持久性的原因。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于提供一种具有抗菌效果的搪玻璃贮罐及其制造方法。
[0004]为了实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种抗菌搪玻璃贮罐，包括贮罐主体，所述贮罐主体内壁附着有抗菌搪玻璃底釉。
[0005]所述抗菌搪玻璃底釉成分组成为:抗菌纳米银离子乳化液5% ;釉浆95% ;
所述抗菌纳米银离子乳化液由20%的抗菌纳米离子和80%的水组成；
所述釉浆的成分组成为:
Si02:40% ；K20:0.2% ；CaC03:4% ；A1203:8% ；B203: 12% ；K2C03:5% ；Zr02: 12% ；Ti02:4% ；CaF2:7% ；Cu0:3% ；CoO:4% ；BaC03:0.1% ；Mn02:0.2% ；Zn0:0.5%。
[0006]抗菌纳米银离子乳状液与釉浆均匀混合后采用静电喷搪的方法，涂布于搪玻璃贮罐内、外表面，通过烧制形成密着于内、外表面的抗菌搪瓷层；烧制温度为850°C，烧制时间为10分钟。
[0007]本发明的优点和有益效果在于:提供了一种具有抗菌效果的搪玻璃贮罐及其制造方法。
【具体实施方式】
[0008]下面结合实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
[0009]—种抗菌搪玻璃贮罐，包括贮罐主体，所述贮罐主体内壁附着有抗菌搪玻璃底釉，所述抗菌搪玻璃底釉成分组成为:抗菌纳米银离子乳化液5% ;釉浆95% ;
所述抗菌纳米银离子乳化液由20%的抗菌纳米离子和80%的水组成；
所述釉浆的成分组成为:
Si02:40% ；K20:0.2% ；CaC03:4% ；A1203:8% ；B203: 12% ；K2C03:5% ；Zr02: 12% ；Ti02:4% ；CaF2:7% ；Cu0:3% ；CoO:4% ；BaC03:0.1% ；Mn02:0.2% ；Zn0:0.5%。
[0010]抗菌搪玻璃贮罐的制造方法为抗菌纳米银离子乳状液与釉浆均匀混合后采用静电喷搪的方法，涂布于搪玻璃贮罐内、外表面，通过烧制形成密着于内、外表面的抗菌搪瓷层；烧制温度为850°c，烧制时间为10分钟。
[0011]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种抗菌搪玻璃贮罐，其特征在于:包括贮罐主体，所述贮罐主体内壁附着有抗菌搪玻璃底釉，所述抗菌搪玻璃底釉成分组成为:抗菌纳米银离子乳化液5% ;釉浆95% ; 所述抗菌纳米银离子乳化液由20%的抗菌纳米离子和80%的水组成； 所述釉浆的成分组成为:Si02:40% ；K20:0.2% ；CaC03:4% ；A1203:8% ；B203: 12% ；K2C03:5% ；Zr02: 12% ；Ti02:4% ；CaF2:7% ；CuO:3% ；CoO:4% ；BaC03:0.1% ；Mn02:0.2% ；Zn0:0.5%。2.—种权利要求1所述的抗菌搪玻璃贮罐的制造方法，其特征在于:其制造方法为抗菌纳米银离子乳状液与釉浆均匀混合后采用静电喷搪的方法，涂布于搪玻璃贮罐内、外表面，通过烧制形成密着于内、外表面的抗菌搪瓷层；烧制温度为850°C，烧制时间为10分钟。
【专利摘要】本发明公开了一种抗菌搪玻璃贮罐及其制造方法，包括贮罐主体，所述贮罐主体内壁附着有抗菌搪玻璃底釉，抗菌搪玻璃底釉成分组成为：抗菌纳米银离子乳化液5%；釉浆95%；抗菌纳米银离子乳化液由20%的抗菌纳米离子和80%的水组成；釉浆的成分组成为：SiO2:40%；K2O:0.2%；CaCO3:4%；Al2O3:8%；B2O3:12%；K2CO3:5%；ZrO2:12%；TiO2:4%；CaF2:7％；CuO:3%；CoO:4%；BaCO3:0.1%；MnO2:0.2%；ZnO:0.5%。其制造方法为抗菌纳米银离子乳状液与釉浆均匀混合后采用静电喷搪的方法，涂布于搪玻璃贮罐内、外表面，通过烧制形成密着于内、外表面的抗菌搪瓷层；烧制温度为850℃，烧制时间为10分钟。
【IPC分类】C23D11/00, C23D5/02, C03C8/20
【公开号】CN105293914
【申请号】CN201510804658
【发明人】单佳, 单永其, 张文斌
【申请人】常熟市永达化工设备厂
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年11月20日