光学元件的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及光学元件的制造方法。
【背景技术】
[0002] 许多光学元件使用了玻璃。在光学元件的制造工序中，有可能使加工液或异物等 附着在玻璃的表面上而导致玻璃受到污染。因此，针对玻璃适当地进行清洗工序，从而使玻 璃保持干净。此外，还需要与清洗工序一并设置漂洗工序，从而将清洗中所使用的清洗液漂 洗掉。
[0003] 通常，该漂洗工序使用的漂洗液使用如专利文献1所示的纯水、或去离子水（以下 也称为 DI (Deionized)水。）等。
[0004] -方面，作为研磨液，在专利文献2中公开了使玻璃的pH与含有研磨剂的分散液 的PH近似的技术。该技术是基于抑制玻璃与研磨液之间的化学反应这一思想而提出的（专 利文献2的[0010])。并且，对于清洗液和漂洗液也记载有通过使玻璃的pH与清洗液或漂 洗液的PH近似，从而使暗伤难以产生（专利文献2的[0021])。需要说明的是，此处的玻璃 的优劣判断的基准为有无7 μm宽的线状伤痕。
[0005] 现有技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1 :日本特开2010-108590号公报
[0008] 专利文献2 :日本专利第3361270号说明书
【发明内容】
[0009] 发明要解决的问题
[0010] 然而，在研磨等玻璃加工处理中，使用了含有研磨粒的研磨液、磨削液和研磨石 等。这种研磨粒在玻璃的研磨处理中与玻璃表面发生碰撞，有时会产生宽度为1 μπι左右以 下的裂缝（crack)部。进一步已知，这种裂缝部在研磨后的清洗工序或漂洗工序中会发生 扩大。此处，"裂缝部"是指形成于玻璃表面附近的凹部、以及密度因龟裂等的产生而低于玻 璃内部的部分中的至少任一部分，其具有特定的深度和特定的宽度。裂缝部与线状伤痕不 同，其基本由封闭的区域构成。另外，"裂缝部扩大"是指裂缝部的深度和宽度的任一方变 大。
[0011] 以往，因玻璃表面处的裂缝部的扩大而导致的光散射强度的增大或斑痕（模糊） 并不会对所适用产品的性能产生影响，不会成为问题。然而，例如伴随着近年来的数码相机 的高性能化，除摄像元件的大型化和像素数的增加之外，还要求玻璃透镜的中口径化或大 口径化。此处，即使是裂缝部的扩大而导致的稍许模糊，有时也会使产品性能劣化。
[0012] 本发明的一个方式的目的在于提供一种具有良好的产品性能的光学元件的制造 方法。
[0013] 用于解决问题的手段
[0014] 本发明人为了解决上述问题而进行了深入研宄。其结果为后述的实施例和比较 例。详细内容在实施例的项目中进行详细叙述，经本发明人调查，以下内容得以明确。
[0015] 利用DI水或纯水等水对研磨后的玻璃进行清洗工序时，会产生目视可确认到的 模糊。并且，尝试着眼于裂缝部时，发现了与清洗工序前相比，在清洗工序后，裂缝部的宽度 和深度的至少任一方变大。即，产生了裂缝部的扩大。
[0016] 本发明人不仅发现了该现象，还对该现象产生的原因进行深入研宄。其结果，推测 得到以下机理。
[0017] 首先，作为裂缝部的产生原因，可以举出在研磨时所使用的研磨粒与玻璃表面发 生碰撞。因这种物理性碰撞，在研磨后不久的玻璃表面会产生凹部和龟裂等低密度部中的 至少任一者，并且在凹部或低密度部之下残存有潜在性损伤。若在该状态下利用DI水等进 行清洗工序，则潜在性损伤部分的玻璃选择性地被蚀刻，从而导致裂缝部扩大。若产生裂缝 部的扩大，则作为光散射体的体积变大，因此光散射强度变大，可目视观察到模糊变浓。
[0018] 得到上述见解的本发明人为了抑制研磨后的玻璃中的裂缝部的扩大而想到的构 成的一个示例为以下方式。
[0019] 本发明的一个方式为光学元件的制造方法，其是由研磨后的玻璃制造光学元件的 方法，其中，针对研磨后的玻璃所进行的清洗工序中使用的清洗液、以及所述清洗工序后的 漂洗工序中使用的漂洗液中的至少任一方为抑制裂缝部扩大的液体，该裂缝部存在于研磨 后的玻璃表面。
[0020] 发明效果
[0021] 根据本发明，可以提供一种具有良好的产品性能的光学元件的制造方法。
【附图说明】
[0022] 图1为表示本实施方式的光学元件的制造方法的流程图。
[0023] 图2为表示在本实施方式的光学元件的制造方法中针对玻璃所进行的加工中的 各工序的流程图。
[0024] 图3为表示针对实施例1的玻璃基板和比较例1的玻璃基板基于目视进行调查的 结果的照片，其中，以将胶带剥离后的参照面作为参考，对玻璃表面的品质是否产生变化基 于目视进行了调查。（a)表示实施例1的结果，（b)表示比较例1的结果。
[0025] 图4为表示针对实施例1中的玻璃基板进行SEM观察的结果的照片。（a)为试验 面的照片，（b)为参照面的照片。
[0026] 图5为表示针对比较例1中的玻璃基板进行SEM观察的结果的照片。（a)为试验 面的照片，（b)为参照面的照片。
[0027] 图6为表示针对实施例1中的玻璃基板进一步以高倍率进行SEM观察的结果的照 片。（a)为试验面的照片，（b)为参照面的照片。
[0028] 图7为表示针对比较例1中的玻璃基板进一步以高倍率进行SEM观察的结果的照 片。（a)为试验面的照片，（b)为参照面的照片。
[0029] 图8为将玻璃基板的表面附近扩大的截面示意图，该截面示意图由SHM观察结果 假设而成。
[0030] 图9为表示针对实施例1中的玻璃基板进行截面TEM观察的结果的照片。（a)为 试验面的照片，（b)为参照面的照片。
[0031] 图10为表示针对比较例1中的玻璃基板进行截面TEM观察的结果的照片。（a)为 试验面的照片，（b)为参照面的照片。
【具体实施方式】
[0032] 以下对本发明的实施方式进行说明。
[0033] 在本实施方式中，按照以下顺序进行说明。下文中，关于未在说明书中特别说明的 事项，可以使用公知的技术。图1和图2中示出了以下工序。
[0034] 图1为表示本实施方式的光学元件的制造方法的流程图。
[0035] 图2为表示在本实施方式的光学元件的制造方法中针对玻璃所进行的加工中的 各工序的流程图。
[0036] 1.光学元件的制造方法
[0037] A)玻璃的准备
[0038] B)针对玻璃所进行的加工
[0039] B-1)创意磨削工序 [0040] B-2)精磨削工序
[0041] B-3)研磨工序
[0042] B-4)第1清洗工序
[0043] B-5)第1漂洗工序
[0044] B-6)定心工序
[0045] B-7)第2清洗工序
[0046] B-8)第2漂洗工序
[0047] C)其它（成膜、保管等）
[0048] 2.由实施方式产生的效果
[0049] 3.变形例
[0050] 需要说明的是，在本说明书中，"研磨"是指创意磨削工序、精磨削工序、研磨工序 中的至少任一个工序中所实施的研磨或磨削。
[0051] 另外，"研磨后的玻璃"包括以下2种玻璃。其一为通过对玻璃坯料进行研磨而 得到的玻璃，即通过研磨使玻璃毛坯（blank)形成为透镜形状的玻璃。另一种为模压成型 (mold press)用预塑形还（预成型体）中的通过冷加工而形成的预塑形还。基于冷加工的 预成型是为了实施创意磨削工序、精磨削工序等磨削工序和研磨工序。如此，"研磨后的玻 璃"是指进行了会产生裂缝部和潜在性损伤的研磨之后的玻璃。
[0052] 如字面的意思，"清洗液"是指作为清洗用途的液体，例如包括含有清洁剂的液体。 "漂洗液"是指在清洗工序后所进行的漂洗工序中使用的液体，其中，也包括用于洗掉清洗 液的液体。
[0053] 〈1.光学元件的制造方法〉
[0054] A)玻璃的准备
[0055] 本实施方式中的玻璃是指玻璃坯料、作为玻璃物品的光学元件的材料即毛坯、或 形成为产品之前的阶段的中间物。另外，本实施方式中的玻璃只要具有之后能够作为光学 元件出厂程度的品质，则对于坯料以及形状均无特别限定。本实施方式中，针对使用氟磷酸 盐玻璃的情况进行叙述。
[0056] B)针对玻璃所进行的加工
[0057] B-1)创意磨削工序
[0058] 首先，准备玻璃毛坯，该玻璃毛坯形成为近似于最终形状的光学元件的形状。并 且，针对该玻璃毛还进行曲面成形（curve generating)加工（CG加工），其中，进行球面加 工、复曲面（Toricsurface)加工以及自由曲面加工作为切削/磨削方法。进行CG加工的 工序也被称为粗削工序。通过CG加工，将玻璃毛坯中的想要作为透镜面的部分创意磨削加 工为大致球面状，从而得到透镜面。另外，创意磨削加工中，不仅进行曲面加工，有时还会进 行平面加工。
[0059] B-2)精磨削工序
[0060] 接着，针对进行了 CG加工并形成为透镜形状的玻璃进行平滑处理。该平滑处理是 为了修整因 CG加工而变粗糙的玻璃表面而进行的工序。若举出具体例，使用与透镜形状略 呈反转