专利名称：一种用于还原二硼化钛的钼容器的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种材料制备用容器，主要涉及一种用于还原二硼化钛的钼容
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背景技术：
二硼化钛粉末是灰色或灰黑色的，具有六方(A1B2)的晶体结构。它的熔点是 ^80°C，有很高的硬度；由于二硼化钛在空气中抗氧化温度可达1000°C，在HCl和HF酸中稳定，可用于硬质合金、宝石等硬质材料的磨削、研磨及抛光；金属硼化物及冶炼硼钢、硼合金的制备；制备核反应堆的控制芯块及其它零部件；另外二硼化钛可抗熔融金属的腐蚀， 可用于熔融金属坩锅和电解池电极的制造；然而无论二硼化钛应用于哪方面，都对其纯度要求较高；现有技术中还原二硼化钛粉末大多采用自蔓燃法，即将还原二硼化钛的原料压胚放置一盒状钼容器内，然后将钼容器放入自蔓延反应炉内，采用顶部点火方式引发自蔓延反应，使杂质在高温下向上挥发，但是，采用上述钼容器制备二硼化钛粉末时会产生挥发杂质沉淀，造成还原体的纯度不够，杂质超标而影响其在使用时的导电性及喷涂光泽不达标。
发明内容为解决上述问题，本实用新型的目的是提出一种用于还原二硼化钛的钼容器，使其能提高所制备的二硼化钛的纯度。一种用于还原二硼化钛的钼容器，所述的钼容器具有钼材质的盒状壳体；在所述的壳体内设置钼材质的过滤匣；所述过滤匣的底板具有多个过滤孔，过滤匣的左右两侧壁具有向外的直角折边；所述的过滤匣通过左右两侧壁的直角折边支撑在壳体的上端面。本实用新型提出的一种用于还原二硼化钛的钼容器，在壳体内设置钼过滤匣；使用时将用于还原二硼化钛的原料压胚先放置在过滤匣内，连同壳体一同放入自蔓延反应炉内，采用顶部点火方式引发自蔓延反应，当炉内温度达到1000°c时胚料内杂质大量溢出，一部分通过过滤孔下沉，另外一部分上扬挥发，大幅度提高了所还原的二硼化钛的纯度。
图1为本实用新型的结构示意图。图2为图1的俯视图。图中1、壳体，2、过滤匣，3、直角折边，4、过滤孔。
具体实施方式
结合附图和具体实施例对本实用新型加以说明如图1、图2所示，一种用于还原二硼化钛的钼容器，所述的钼容器具有钼材质制成的盒状壳体1 ；所述的壳体1由厚度为2mm钼板的四边向上弯折构成，其长度为70mm，宽度为50mm，高度为20mm ；在所述的壳体1内设置过滤匣2 ；所述的过滤匣2由厚度为2mm钼板的四边向上弯折构成，其长度为60mm，宽度为40mm，高度为10mm，所述过滤匣2的底板具有多个过滤孔4，过滤孔4的直径为Imm ；过滤匣2的左右两侧壁具有向外的直角折边3，所述的过滤匣2通过左右两侧壁的直角折边3支撑在壳体的上端面。
权利要求1. 一种用于还原二硼化钛的钼容器，所述的钼容器具有钼材质的盒状壳体(1);其特征在于在所述的壳体(1)内设置钼材质的过滤匣(2)；所述过滤匣(2)的底板具有多个过滤孔(4)，过滤匣(2)的左右两侧壁具有向外的直角折边(3);所述的过滤匣(2)通过左右两侧壁的直角折边(3)支撑在壳体的上端面。
专利摘要本实用新型涉及一种材料制备用容器，提出的一种用于还原二硼化钛的钼容器，所述的钼容器具有钼材质的盒状壳体(1)；其特征在于在所述的壳体(1)内设置钼材质的过滤匣(2)；所述过滤匣(2)的底板具有多个过滤孔(4)，过滤匣(2)的左右两侧壁具有向外的直角折边(3)；所述的过滤匣(2)通过左右两侧壁的直角折边(3)支撑在壳体的上端面。本实用新型在壳体内设置过滤匣；使用时将用于还原二硼化钛的原料压胚放置在过滤匣内，连同壳体一同放入自蔓延反应炉内，采用顶部点火方式引发自蔓延反应，当炉内温度达到1000℃时胚料内杂质大量溢出，一部分通过过滤孔下沉，其它部分上扬挥发，大幅度提高了所还原的二硼化钛的纯度。
文档编号C01B35/04GK202148192SQ201120269920
公开日2012年2月22日 申请日期2011年7月28日 优先权日2011年7月28日
发明者万翔, 付卫红, 王健, 赵士刚, 赵文普 申请人:洛阳高新四丰电子材料有限公司