张网装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种张网装置，属于显示技术领域。所述张网装置包括：张网本体和辅助机构，所述张网本体用于夹持掩膜版的夹持区域，产生作用于所述掩膜版的长度方向的第一拉力；所述辅助机构设置在所述掩膜版的上方，且与所述掩膜版接触，用于在所述掩膜版上滑动，产生作用于所述掩膜版的宽度方向的第二拉力，所述宽度方向垂直于所述长度方向。本实用新型解决了掩膜版的褶皱较多的问题，实现了减少褶皱数量，提高产品的良率的效果，用于制备显示装置。
【专利说明】
张网装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种张网装置。
【背景技术】
[0002]目前，蒸镀工艺是制作有机发光二极管(英文:0rganicLight-Emitting D1de；简称:0LED)显示屏的有机发光层的过程中的重要工艺之一，具体的，利用具有图案的掩膜组件，通过真空蒸镀方式在待蒸镀基板上形成所需的图案。其中，掩膜组件包括金属框架和掩膜版，在将掩膜版与金属框架结合时需要利用张网装置使掩膜版在金属框架上张紧后，将掩膜版固定在金属框架上。该掩膜版可以为精细金属掩膜板(英文:Fine Metal Mask;简称:MM) 0
[0003]相关技术中，如图1-1所示，张网装置00主要包括:张网机台001和设置于张网机台001上的夹具002。使用时，将金属框架003和待蒸镀基板004放置并固定在张网机台001上，将掩膜版005设置在金属框架003上，采用夹具002夹持掩膜版005的四个夹持区域;通过夹具002向两侧拉伸掩膜版005，使掩膜版005上的图案与待蒸镀基板004上的图案对准;然后将掩膜版005固定在金属框架003上以形成所需的掩膜组件。夹具对掩膜版产生的拉力的方向平行于掩膜版的长度方向。图1-2示出了图1-1中夹具002夹持掩膜版005的四个夹持区域对应的俯视图。图1-2中的01为夹具对掩膜版产生的拉力。
[0004]但由于受到夹具大小的限制，以及受到掩膜版的夹持区域的缺口(如图1-2中的006)设计的影响，掩膜版的中间区域未受到夹具的拉力，导致整个掩膜版受力不均匀，最终掩膜版会存在较多的褶皱，影响掩膜版的平坦度，对后续蒸镀过程产生较大的影响，因此，产品的良率较低。
【实用新型内容】
[0005]为了解决产品的良率较低的问题，本实用新型提供了一种张网装置。所述技术方案如下:
[0006]提供了一种张网装置，所述张网装置包括:张网本体和辅助机构，
[0007]所述张网本体用于夹持掩膜版的夹持区域，产生作用于所述掩膜版的长度方向的第一拉力；
[0008]所述辅助机构设置在所述掩膜版的上方，且与所述掩膜版接触，用于在所述掩膜版上滑动，产生作用于所述掩膜版的宽度方向的第二拉力，所述宽度方向垂直于所述长度方向。
[0009]可选的，所述辅助机构包括:支撑模块和移动模块，所述支撑模块设置有移动轨道，所述移动模块的底部与所述掩膜版接触，所述移动模块用于沿着所述移动轨道，在所述掩膜版上滑动，产生所述第二拉力。
[0010]可选的，所述支撑模块为半封闭的柱形壳体，所述柱形壳体的底部设置有开口，所述开口的两侧与所述掩膜版接触，所述柱形壳体的顶部设置有所述移动轨道。
[0011]可选的，所述移动模块包括第一磁铁块和第二磁铁块，所述第一磁铁块和所述第二磁铁块的大小相等，且极性相反，所述第一磁铁块的顶部设置有第一滑块，所述第二磁铁块的顶部设置有第二滑块，所述第一滑块和所述第二滑块位于所述移动轨道内，所述第一磁铁块和所述第二磁铁块位于所述支撑模块的空腔内，所述第一磁铁块的底部和所述第二磁铁块的底部在所述开口处分别与所述掩膜版接触。
[0012]可选的，所述移动模块的底部设置有隔垫物。
[0013]可选的，所述第一磁铁块和所述第二磁铁块均为立方体，
[0014]所述第一滑块和所述第二滑块均为立方体。
[0015]可选的，所述第一滑块和所述第二滑块的大小相等，所述移动轨道的宽度等于所述第一滑块的宽度。
[0016]可选的，所述移动轨道为长方形轨道，所述移动轨道的长度方向与所述掩膜版的长度方向不平行。
[0017]可选的，所述隔垫物为橡胶层。
[0018]可选的，所述隔垫物呈波浪状。
[0019]本实用新型提供了一种张网装置，该张网装置通过设置在掩膜版上方的辅助机构，产生作用于掩膜版的宽度方向的第二拉力，使得整个掩膜版受力更加均匀，减少了褶皱数量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了产品的良率。
[0020]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本实用新型。
【附图说明】
[0021]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1-1是现有技术中张网装置的侧视图；
[0023]图1-2是图1-1所示掩膜版的受力分布示意图；
[0024]图2是本实用新型实施例提供的一种张网装置的结构示意图；
[0025]图3-1是本实用新型实施例提供的一种辅助机构的俯视图；
[0026]图3-2是图3-1所示的辅助机构的侧视图；
[0027]图3-3是本实用新型实施例提供的一种支撑模块的结构示意图；
[0028]图4是本实用新型实施例提供的一种移动模块的结构示意图；
[0029]图5是本实用新型实施例提供的另一种移动模块的结构示意图；
[0030]图6是本实用新型实施例提供的一种张网装置的结构示意图；
[0031 ]图7是采用本实用新型实施例提供的张网装置后，掩膜版的受力分布示意图。
[0032]通过上述附图，已示出本实用新型明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本实用新型构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本实用新型的概念。
【具体实施方式】
[0033]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
[0034]本实用新型实施例提供了一种张网装置，如图2所示，该张网装置包括:张网本体110和辅助机构120。
[0035]张网本体110用于夹持掩膜版005的夹持区域(图2中未示出)，产生作用于掩膜版005的长度方向(如图2中X所指示的方向及X所指示方向的反方向)的第一拉力。
[0036]辅助机构120设置在掩膜版005的上方，且与掩膜版005接触，用于在掩膜版005上滑动，产生作用于掩膜版005的宽度方向(如图2中y所指示的方向及y所指示方向的反方向)的第二拉力，该宽度方向垂直于该长度方向。
[0037]综上所述，本实用新型实施例提供的张网装置，该张网装置通过设置在掩膜版上方的辅助机构，产生作用于掩膜版的宽度方向的第二拉力，使得整个掩膜版受力更加均匀，减少了褶皱数量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了产品的良率。
[0038]图2中的张网本体110为现有技术中的张网装置，张网本体110的功能可以参考图1-1现有技术中的张网装置进行说明。
[0039]可选的，图3-1示出了辅助机构的俯视图，如图3-1所示，辅助机构120包括:支撑模块121和移动模块122。其中，支撑模块121设置有移动轨道1210，移动模块122的底部与掩膜版接触，移动模块122用于沿着移动轨道1210，在掩膜版上滑动，产生第二拉力。该辅助机构包括有支撑模块和移动模块，便于整个掩膜版受力更加均匀，同时，该辅助机构的结构较简单，易于实现。图3-2示出了图3-1所示的辅助机构120的侧视图，图3-2中，121为支撑模块，122为移动模块。
[0040]可选的，如图3-2所示，支撑模块121为半封闭的柱形壳体，该柱形壳体的底部设置有开口，该开口的两侧与掩膜版005接触。该柱形壳体的顶部设置有移动轨道1210。该支撑模块设置有开口，且顶部设置有移动轨道，便于移动模块沿着移动轨道，在掩膜版上滑动，产生第二拉力，同时，该支撑模块的结构较简单，易于实现。图3-3示出了该支撑模块121的结构示意图，图3-3中的1210为移动轨道。
[0041]可选的，如图4所示，移动模块122包括第一磁铁块1221和第二磁铁块1222。第一磁铁块1221和第二磁铁块1222的大小相等，且极性相反。第一磁铁块1221的顶部设置有第一滑块012。第二磁铁块1222的顶部设置有第二滑块013。第一滑块012和第二滑块013位于移动轨道(如图3-1中的1210)内，第一磁铁块1221和第二磁铁块1222位于支撑模块的空腔(如图3-2中的1211)内，第一磁铁块1221的底部和第二磁铁块1222的底部在支撑模块的开口处分别与掩膜版接触。该移动模块包括大小相等，且极性相反的两个磁铁块，每个磁铁块的顶部设置有滑块，这样一来，辅助机构能够通过滑块控制两个磁铁块的距离，进而控制两个磁铁块对掩膜版的拉伸作用力。移动模块的两个磁铁块可以在设置有移动轨道的柱形壳体中往复运动。
[0042]可选的，第一磁铁块和第二磁铁块均为立方体，第一滑块和第二滑块均为立方体，便于移动模块沿着移动轨道，在掩膜版上滑动，产生第二拉力。示例的，第一滑块和第二滑块的大小相等，移动轨道的宽度等于第一滑块的宽度。
[0043]由于掩膜版由金属制成，所以当移动模块的两个磁铁块直接与掩膜版接触时，两个磁铁块在滑动时会受到一定的阻力，为了克服该阻力，可选的，如图5所示，移动模块122的底部设置有隔垫物1223。为了增大移动模块与掩膜版之间的摩擦力，示例的，隔垫物可以为橡胶层，进一步的，隔垫物可以呈波浪状。此外，图5中的其他标号的含义可以参考图4进行说明。
[0044]可选的，如图3-3所示，支撑模块121的移动轨道1210为长方形轨道。移动轨道的长度方向与掩膜版的长度方向不平行。也就是说，一方面，如图2所示，移动轨道的长度方向(如图2中u所指示的方向)可以与掩膜版005的长度方向垂直，此时，移动模块产生的第二拉力即为移动模块沿移动轨道的长度方向产生的力。
[0045]另一方面，如图6所示，移动轨道的长度方向(如图6中u所指示的方向)可以与掩膜版005的长度方向存在一个大于O度的夹角，此时，移动模块产生的第二拉力即为移动模块沿移动轨道的长度方向产生的力f的分解力fl，以及移动模块沿移动轨道的长度方向产生的力η的分解力η I，分解力Π、分解力η I分别与掩膜版00 5的宽度方向平行。力f的另一分解力f 2与掩膜版005的长度方向平行，力η的另一分解力n2与掩膜版005的长度方向平行。此外，图6中其他标号的含义可以参考图2进行说明。
[0046]图7是采用本实用新型实施例提供的张网装置后，掩膜版的受力分布示意图。其中，01为张网本体110产生的作用于掩膜版005的长度方向的第一拉力，02为辅助机构120产生的作用于掩膜版005的宽度方向的第二拉力。参见图7和图1-2，本实用新型实施例提供的张网装置相较于现有技术中的张网装置，能够使整个掩膜版受力更加均匀，减少了掩膜版上的褶皱数量，提高了掩膜版的平坦度。
[0047]需要说明的是，本实用新型实施例对张网装置中的辅助机构的数量不作限定，辅助机构可以有两个，辅助机构的位置可以为图7所示的辅助机构的位置，辅助机构也可以多于两个，辅助机构的数量可以根据实际需求来确定。
[0048]综上所述，本实用新型实施例提供的张网装置，该张网装置通过设置在掩膜版上方的辅助机构，产生作用于掩膜版的宽度方向的第二拉力，使得整个掩膜版受力更加均匀，减少了褶皱数量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了产品的良率，且该张网装置结构简单，易于实现。
[0049]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种张网装置，其特征在于，所述张网装置包括:张网本体和辅助机构， 所述张网本体用于夹持掩膜版的夹持区域，产生作用于所述掩膜版的长度方向的第一拉力； 所述辅助机构设置在所述掩膜版的上方，且与所述掩膜版接触，用于在所述掩膜版上滑动，产生作用于所述掩膜版的宽度方向的第二拉力，所述宽度方向垂直于所述长度方向。2.根据权利要求1所述的张网装置，其特征在于， 所述辅助机构包括:支撑模块和移动模块，所述支撑模块设置有移动轨道，所述移动模块的底部与所述掩膜版接触，所述移动模块用于沿着所述移动轨道，在所述掩膜版上滑动，产生所述第二拉力。3.根据权利要求2所述的张网装置，其特征在于， 所述支撑模块为半封闭的柱形壳体，所述柱形壳体的底部设置有开口，所述开口的两侧与所述掩膜版接触，所述柱形壳体的顶部设置有所述移动轨道。4.根据权利要求3所述的张网装置，其特征在于， 所述移动模块包括第一磁铁块和第二磁铁块，所述第一磁铁块和所述第二磁铁块的大小相等，且极性相反，所述第一磁铁块的顶部设置有第一滑块，所述第二磁铁块的顶部设置有第二滑块，所述第一滑块和所述第二滑块位于所述移动轨道内，所述第一磁铁块和所述第二磁铁块位于所述支撑模块的空腔内，所述第一磁铁块的底部和所述第二磁铁块的底部在所述开口处分别与所述掩膜版接触。5.根据权利要求2所述的张网装置，其特征在于， 所述移动模块的底部设置有隔垫物。6.根据权利要求4所述的张网装置，其特征在于， 所述第一磁铁块和所述第二磁铁块均为立方体， 所述第一滑块和所述第二滑块均为立方体。7.根据权利要求6所述的张网装置，其特征在于， 所述第一滑块和所述第二滑块的大小相等，所述移动轨道的宽度等于所述第一滑块的宽度。8.根据权利要求2所述的张网装置，其特征在于， 所述移动轨道为长方形轨道，所述移动轨道的长度方向与所述掩膜版的长度方向不平行。9.根据权利要求5所述的张网装置，其特征在于， 所述隔垫物为橡胶层。10.根据权利要求5所述的张网装置，其特征在于， 所述隔垫物呈波浪状。
【文档编号】C23C14/24GK205662588SQ201620562454
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年6月12日
【发明人】吴建鹏
【申请人】成都京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司