一种轴承内外环表面离子注入用装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种在离子注入时支撑工件的离子注入用装置，具体涉及一种在轴承内外环表面离子注入时用于支撑轴承内外环的轴承内外环表面离子注入用装置。
【背景技术】
[0002]离子注入作为一种金属材料表面改性的手段，注入过程是一个非平衡过程，注入元素不受扩散系数\固溶度和平衡相图的限制，理论上可将任何元素注入到任何基体材料中去，注入层与基体之间没有界面，属于冶金结合，改性层和基体之间的结合强度高，附着性好。离子注入实在高真空和较低的工艺温度下进行，因此工件不产生氧化脱碳现象，也没有明显的尺寸变化，适合作为工件最后的表面处理。轴承广泛应用在各种工业设备和动力机械上，它是使表面作相对滑动、保持恒定的相对位置并承担一定载荷的活动部件，它的工作稳定性及使用寿命的长短直接影响到设备整体的工作稳定性和工作效率。这就要求轴承内外环表面具有极高的耐磨性和疲劳强度，并具有极佳的摩擦学特性。采用离子注入的方法可使轴承内外环表面性能得到明显改善，而在轴承内外环表面离子注入时，现有的卡具无法满足需要，并且无法适应不同类型轴承内外环。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种轴承内外环表面离子注入用装置，以解决现有技术中在轴承内外环表面离子注入时，现有的卡具无法满足需要，并且无法适应不同类型轴承内外环的问题。
[0004]为了实现以上目的，本实用新型采用如下技术方案:一种轴承内外环表面离子注入用装置，包括开口向上的半环状支架与底座，所述半环状支架在中间部位与底座铰接，底座上于半环状支架的一侧铰接有由动力源驱动的曲柄，曲柄的另一端通过连杆与半环状支架一端部相连，所述曲柄、连杆以及半环状支架形成曲柄摇杆机构，所述半环状支架的内侧开设有用于放置轴承内环或外环的凹槽，所述凹槽的槽底在半环状支架摆动时与轴承内环或外环滚动配合。
[0005]所述的曲柄为转动装配在底座上的齿轮，所述连杆铰接在齿轮的轮面上。
[0006]所述的半环状支架通过第一支撑杆与底座装配，第一支撑杆的一端固定在底座上，半环状支架铰接在第一支撑杆的另一端。
[0007]所述的齿轮通过第二支撑杆与底座装配，第二支撑杆的一端固定在底座上，齿轮转动装配在第二支撑杆的另一端。
[0008]所述的第一支撑杆高于第二支撑杆。
[0009]所述的半环状支架在水平面的两侧摆动。
[0010]所述的半环状支架在水平面的两侧对称摆动。
[0011 ]所述的齿轮的转轴、半环状支架的转轴、连杆两端处的转轴均为螺栓。
[0012]本实用新型的半环状支架通过其内侧开的凹槽支撑轴承的内环或外环，适于对不同尺寸不同类型的轴承内外环进行支撑，提高了夹具的通用性；同时，曲柄通过连杆带动具有凹槽的半环状支架的摆动，从而使轴承内环或外环随之往返运动，提高了轴承内外环表面离子注入的效率且保证了离子注入的均匀性，最大限度的满足了轴承内外环表面离子注入的需要;另外，本实用新型结构简单，不易损坏、制造简单，维护成本低、体积小巧，可在空间有限的离子注入设备的真空室内放置多个装置，空间利用率高，提高了生产效率。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型实施例的整体结构示意图；
[0014]图2是图1的左视图；
[0015]图3是图1的俯视图。
【具体实施方式】
[0016]一种轴承内外环表面离子注入用装置的实施例，在图2、图2和图3中，其底座6为方形板状，底座6用于将整个装置固定在离子注入设备的内腔中。底座6上设置有两个支撑杆5，其中一个为第一支撑杆，另一个为第二支撑杆，其中第一支撑杆高于第二支撑杆，第一支撑杆的一端固定在底座6上，第一支撑杆的另一端铰接有半环状支架I，半环状支架I的开口朝向上方，并且半环状支架I在中间部位与第一支撑杆铰接。第二支撑杆的一端固定在底座6上，第二支撑杆的另一端上转动装配有齿轮3，齿轮3由动力源驱动转动，在齿轮3的轮面上铰接有连杆2，连杆2的一端与齿轮3铰接，连杆2的另一端与半环状支架I的靠近第二支撑杆的一端的端部铰接，齿轮3与连杆2以及半环状支架I形成曲柄摇杆机构，其中齿轮3充当曲柄，而半环状支架I为摇杆。半环状支架I在水平面的两侧摆动，并且，半环状支架I在水平面的两侧对称摆动，也就是说半环状支架I处在两个极限位置时与水平面的夹角是一样的。在半环状支架I的内侧开设有凹槽7，该凹槽7用于放置轴承内环或外环，在半环状支架I摆动时，凹槽的内槽底与轴承内环或外环滚动配合。
[0017]本实施例中的齿轮3的转轴、半环状支架I的转轴、连杆2两端处的转轴均由于螺栓
4充当。
[0018]本实施例中的半环状支架、齿轮通过两支撑杆与底座配合，在底座为适宜性状时，半环状支架、齿轮可以直接装配在底座上。
[0019]本实施例中的第一支撑杆高于第二支撑杆，连杆与半环状支架的处在靠近第二支撑杆一端端部铰接以及满足半环状支架的摆动运动要求，在其他实施例中，如果第一支撑杆低于第二支撑杆，连杆将与半环状支架的处在原理第二支撑杆一端端部铰接以满足半环状支架的摆动运动要求，第一支撑杆、第二支撑杆的高度选择与连杆和半环状支架之间的连接关系属于本领域技术人所公知的常识。
[0020]本实施例中的半环状支架在在水平面的两侧摆动，并且，半环状支架在水平面的两侧对称摆动，在其他实施例中，也可以不按照这种运动方式运动，只要能保证，在半环状支架摆动时，半环状支架的凹槽的槽底一直能与轴承的内环或外环滚动配合即可。
[0021 ]本实施例中的曲柄由齿轮充当，在其他实施例中也可以是其他形式的曲柄。
[0022]在轴承内外环进行离子注入时，将轴承内环或外环放置在半环状支架I的凹槽内；启动离子注入设备，动力源驱动齿轮3转动，齿轮3再通过连杆2带动半环状支架I在水平面的上下摆动，使轴承内环或外环在半环状支架I的凹槽内往返移动，完成轴承内环或外环表面的离子注入处理。
[0023]上述实施例是结合附图对本实用新型的说明，不是对本实用新型的限定，任何对本实用新型的技术方案的技术特征进行等同替换后得出的方案均属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:包括开口向上的半环状支架与底座，所述半环状支架在中间部位与底座铰接，底座上于半环状支架的一侧铰接有由动力源驱动的曲柄，曲柄的另一端通过连杆与半环状支架一端部相连，所述曲柄、连杆以及半环状支架形成曲柄摇杆机构，所述半环状支架的内侧开设有用于放置轴承内环或外环的凹槽，所述凹槽的槽底在半环状支架摆动时与轴承内环或外环滚动配合。2.根据权利要求1所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的曲柄为转动装配在底座上的齿轮，所述连杆铰接在齿轮的轮面上。3.根据权利要求2所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的半环状支架通过第一支撑杆与底座装配，第一支撑杆的一端固定在底座上，半环状支架铰接在第一支撑杆的另一端。4.根据权利要求3所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的齿轮通过第二支撑杆与底座装配，第二支撑杆的一端固定在底座上，齿轮转动装配在第二支撑杆的另一端。5.根据权利要求4所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的第一支撑杆高于第二支撑杆。6.根据权利要求5所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的半环状支架在水平面的两侧摆动。7.根据权利要求6所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的半环状支架在水平面的两侧对称摆动。8.根据权利要求7所述的轴承内外环表面离子注入用装置，其特征在于:所述的齿轮的转轴、半环状支架的转轴、连杆两端处的转轴均为螺栓。
【专利摘要】本实用新型公开了一种轴承内外环表面离子注入用装置，包括开口向上的半环状支架与底座，半环状支架在中间部位与底座铰接，底座上于半环状支架的一侧铰接有由动力源驱动的曲柄，曲柄的另一端通过连杆与半环状支架一端部相连，曲柄、连杆以及半环状支架形成曲柄摇杆机构，所述半环状支架的内侧开设有用于放置轴承内环或外环的凹槽，凹槽的槽底在半环状支架摆动时与轴承内环或外环滚动配合。本实用新型的半环状支架通过其内侧开的凹槽支撑轴承的内环或外环，适于对不同尺寸不同类型的轴承内外环进行支撑，提高了夹具的通用性。
【IPC分类】C23C14/48
【公开号】CN205223341
【申请号】CN201521083793
【发明人】马明星, 王志新, 张志汉, 张宪斌
【申请人】郑州启航精密科技有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年12月23日