一种可调节式抛光机的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及医药领域的物料抛光、整形装置，特别是涉及一种可调节式抛光机。
【背景技术】
[0002]在制药行业中抛光机非常普遍，抛光机是对充填后胶囊的表面药粉进行清洁处理的设备，能除去胶囊及片剂表面上的粉尘，提高表面光洁度，适合于各种胶囊及片剂生产。在现代制药行业中，抛光机分为立式抛光机和卧式抛光机，立式抛光机因其结构的问题不能长时间连续的进行抛光。卧式抛光机可长时间连续抛光，但是其不能把胶囊提升到盛放胶囊的存储罐里。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型针对上述现有技术的不足，提供了一种可调节式抛光机，可以很好的解决现有技术的抛光机需要操作人员把抛光的胶囊提升到存储罐里的问题。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是:
[0005]一种可调节式抛光机，包括底座、筛筒、设置于筛筒端部的剔废头，所述筛筒的底部设置有机架，所述机架设置有可以在机架上进行前后调节的调节块，所述调节块设置有调节轴；所述底座的后端设置有支撑杆，所述支撑杆与机架的后端铰接，所述底座的前端设置有调节杆，所述调节杆底端与底座铰接，所述调节杆的上端沿调节杆的长度方向设置有调节长槽，所述调节轴伸入调节长槽中，与调节杆活动连接，当所述调节轴在调节长槽内上下滑动时，所述筛筒随之实现上下调节。
[0006]本实用新型的可调节式抛光机，通过底座与筛筒下机架之间的支撑杆、调节杆可以实现筛筒端部的抬起，使剔废头的位置抬高，胶囊在筛筒内抛光后，可以将抛光的胶囊直接提升到存储罐中，而不需要操作人员人工把抛光的胶囊提升到存储罐里，随着抛光的进行，剔废头可以逐步升高。
[0007]作为对上述技术方案的改进，所述筛筒的上端设置有加料斗，所述筛筒的下端设置有吸尘口。
[0008]作为对上述技术方案的改进，所述底座设置有行走轮。如此，可以在需要的时候进行一些必要的调动，调节抛光机与存储罐之间的距离。
[0009]与现有技术相比，本实用新型具有以下优点:
[0010]本实用新型提供的可调节式抛光机，结合了现有技术的两种抛光机的优点，采用了卧式设计和双杆调节的新式底座，能够在O度到45度之间任意调节抛光机的高度。在45度满速旋转抛光时可以把药粉充分的甩出去有利于吸尘机的吸附。可调节式抛光机可以很好的解决现有技术的抛光机需要操作人员把抛光的胶囊提升到存储罐里的问题。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的抛光机在水平状态下的结构示意图；
[0012]图2是本实用新型的抛光机在调节到最高状态下的结构示意图；
[0013]图中:1:底座；2:筛筒；3:剔废头；4:机架；5:调节块；6:支撑杆；7:调节杆；8:调节长槽；9:加料斗；10:吸尘口 ；11:行走轮。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
[0015]如图1和2所示，本实用新型的可调节式抛光机，包括底座1、筛筒2、设置于筛筒2端部的剔废头3，所述筛筒2的底部设置有机架4，所述机架4设置有可以在机架4上进行前后调节的调节块5，所述调节块5设置有调节轴；所述底座I的后端设置有支撑杆6，所述支撑杆6与机架4的后端铰接，所述底座I的前端设置有调节杆7，所述调节杆7底端与底座I铰接，所述调节杆7的上端沿调节杆7的长度方向设置有调节长槽8 ;所述调节轴伸入调节长槽8中，与调节杆7活动连接，当所述调节轴在调节长槽8内上下滑动时，所述筛筒2随之实现上下调节。
[0016]本实用新型的可调节式抛光机，通过底座I与筛筒2下机架4之间的支撑杆6、调节杆7可以实现筛筒2端部的抬起，使剔废头3的位置抬高，胶囊在筛筒2内抛光后，可以将抛光的胶囊直接提升到存储罐中，而不需要操作人员人工把抛光的胶囊提升到存储罐里，随着抛光的进行，剔废头3可以逐步升高。
[0017]所述筛筒2的上端设置有加料斗9，所述筛筒2的下端设置有吸尘口 10。
[0018]所述底座I设置有行走轮11。如此，可以在需要的时候进行一些必要的调动，调节抛光机与存储罐之间的距离。
[0019]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种可调节式抛光机，其特征在于，包括底座、筛筒、设置于筛筒端部的剔废头，所述筛筒的底部设置有机架，所述机架设置有可以在机架上进行前后调节的调节块，所述调节块设置有调节轴；所述底座的后端设置有支撑杆，所述支撑杆与机架的后端铰接，所述底座的前端设置有调节杆，所述调节杆底端与底座铰接，所述调节杆的上端沿调节杆的长度方向设置有调节长槽，所述调节轴伸入调节长槽中，与调节杆活动连接，当所述调节轴在调节长槽内上下滑动时，所述筛筒随之实现上下调节。2.如权利要求1所述的可调节式抛光机，其特征在于，所述筛筒的上端设置有加料斗，所述筛筒的下端设置有吸尘口。3.如权利要求1或2所述的可调节式抛光机，其特征在于，所述底座设置有行走轮。
【专利摘要】本实用新型公开了一种可调节式抛光机，包括底座、筛筒、剔废头，所述筛筒的底部设置有机架，所述机架设置有可以在机架上进行前后调节的调节块，所述调节块设置有调节轴；所述底座的后端设置有支撑杆，所述支撑杆与机架的后端铰接，所述底座的前端设置有调节杆，所述调节杆底端与底座铰接，所述调节杆的上端沿调节杆的长度方向设置有调节长槽，所述调节轴伸入调节长槽中，与调节杆活动连接，当所述调节轴在调节长槽内上下滑动时，所述筛筒随之实现上下调节。本实用新型的可调节式抛光机，根据需要可以筛抬起筒端部，使剔废头的位置抬高，把抛光的胶囊提升到存储罐里。
【IPC分类】B24B31/12, B24B31/00
【公开号】CN204711788
【申请号】CN201520443255
【发明人】张磊, 田韦, 杨小娟, 王志波, 赵星南
【申请人】北京翰林航宇科技发展股份公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月26日